イオン注入を利用した格子緩和SiGe薄膜の作製

2005年10月 - 2006年9月

難黒鉛化性フラン樹脂炭素の表面黒鉛化

2001年4月 - 2002年3月

新規太陽電池材料BaSi2の近接蒸着による成膜技術開発 査読

原 康祐、山中 淳二、有元 圭介

表面と真空   2433-5835   388 - 392   2023年7月( ISSN：2433-5835 )

Influences of lattice strain and SiGe buffer layer thickness on electrical characteristics of strained Si/SiGe/Si(110) heterostructures 査読

Taisuke Fujisawa, Atsushi Onogawa, Miki Horiuchi, Yuichi Sano, Chihiro Sakata, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa, Keisuke Arimoto

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   161   107476-1 - 107476-7   2023年7月( ISSN：1369-8001 )

Crystalline Morphology of SiGe Films Grown on Si(110) Substrates 査読 重要な業績

Keisuke Arimoto, Chihiro Sakata, Kosuke O. Hara, Junji Yamanaka

JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS   52   5121 - 5127   2023年4月( ISSN：0361-5235 )

Semiconducting BaSi2 film synthesis by close-spaced evaporation benefiting from mechanical activation of source powder by ball milling 査読

Kosuke O. Hara, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, and Keisuke Arimoto

JJAP Conference Proceedings   10   011101-1 - 011101-5   2023年4月( ISSN：2758-2450 )

Constructing the composition ratio prediction model using machine learning for BaSi2 thin films deposited by thermal evaporation 査読 重要な業績

Ryuto Ueda, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, and Kosuke O. Hara

Japanese Journal of Applied Physics   62   SK1011   2023年4月( ISSN：1347-4065 )

Evaluation of Lattice-Spacing of SiGe/Si by NBD using Two-condenser-lens TEM 査読 重要な業績

Junji Yamanaka, Takuya Oguni, Yuichi Sano, Yusuke Ohshima, Atsushi Onogawa, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto

Microscopy and Microanalysys   28 ( S1 )   2812 - 2813   2022年7月( ISSN：1431-9276 )

Discrimination between Coherent and Incoherent Interfaces using STEM Moiré 査読 重要な業績

Junji Yamanaka, Daisuke Izumi, Chiaya Yamamoto, Mai Shirakura, Kosuke Hara, Keisuke Arimoto

Microscopy and Microanalysis   27 ( Supplement S1 )   2326 - 2327   2021年8月( ISSN：1431-9276 )

Engineering Strain, Defects, and Electronic Properties of (110)-Oriented Strained Si 招待 査読

K. Arimoto, J. Yamanaka, K. O. Hara, K. Sawano, N. Usami, K. Nakagawa

ECS Transactions   98 ( 5 )   277 - 290   2020年10月( ISSN：1938-6737  eISSN：1938-5862 )

Interface reaction of the SnS/BaSi2 heterojunction fabricated for solar cell applications 査読

Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa

THIN SOLID FILMS   706   138064   2020年7月( ISSN：0040-6090 )

HREM Observation and Identification of the Causality of Twins in SiGe/Si (110) 査読 重要な業績

Junji Yamanaka, Yuichi Sano, Shingo Saito, Atsushi Onogawa, Kosuke O. Hara, Kiyokazu Nakagawa, Keisuke Arimoto

Microscopy and Microanalysis   26 ( supplement 2 )   2020年7月( ISSN：1431-9276 )

Hole mobility in Strained Si/Relaxed SiGe/Si(110) hetero structures studied by gated Hall measurements 査読

Daichi Namiuchi, Atsushi Onogawa, Taisuke Fujisawa, Yuichi Sano, Daisuke Izumi, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa, Keisuke Arimoto

Materials Science in Semiconductor Processing   113   2020年3月( ISSN：1369-8001 )

Reactive deposition growth of highly (001)-oriented BaSi2 films by close-spaced evaporation 査読

Kosuke O. Hara, Shuhei Takizawa, Junji Yamanaka, Noritaka Usami, Keisuke Arimoto

Materials Science in Semiconductor Processing   113   2020年3月( ISSN：1369-8001 )

Strain relaxation process and evolution of crystalline morphologies during the growths of SiGe on Si(110) by solid-source molecular beam epitaxy 査読

Shingo Saito, Yuichi Sano, Takane Yamada, Kosuke O. Hara, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa, Keisuke Arimoto

Materials Science in Semiconductor Processing   113   2020年3月( ISSN：1369-8001 )

Hole mobility enhancement observed in (110)-oriented strained Si 査読

Keisuke Arimoto, Naoto Utsuyama, Shohei Mitsui, Kei Satoh, Takane Yamada, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara , Kentarou Sawano, and Kiyokazu Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics   59   2020年2月( ISSN：0021-4922 )

Thermodynamic analyses of thermal evaporation of BaSi2 査読

Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, and Kiyokazu Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics   59   2020年1月( ISSN：0021-4922 )

Evaluation of Crystal Lattice Rotation around a Stress-Induced Twin in a Step-Graded SiGe / Si (110) Using STEM Moiré Observation and its Image Analysis 査読 重要な業績

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Mai Shirakura, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Akimitsu Ishizuka, and Kazuo Ishizuka

Microscopy and Microanalysis   25 ( S2 )   242 - 243   2019年8月( ISSN：1431-9276 )

Relaxation of strain in Si layers formed on (110)-oriented SiGe/Si heterostructures 査読

Keisuke Arimoto, Atsushi Onogawa, Shingo Saito, Yuichi Sano, Daisuke Izumi, Junji Yamanaka, Kosuke O Hara and Kiyokazu Nakagawa

ECS Transactions   93   79 - 80   2019年6月

Fabrication of SnS/BaSi2 heterojunction by thermal evaporation for solar cell　applications 査読

Kosuke O. Hara , Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, and Kiyokazu Nakagawa

Japanese Journal of Applied Physics   58   SBBF01-1 - SBBBF01-5   2019年1月( ISSN：0021-4922 )

Environmentally-friendly fabrication of organic field-effect transistors based on small molecule/polymer blend prepared by electrostatic spray deposition 査読

Syunsuke Obata, Yuta Miyazawa, Junji Yamanaka and Norio Onojima

Japanese Journal of Applied Physics   58   SBBG02-1 - SBBG02-6   2019年1月( ISSN：0021-4922 )

Stability of strain in Si layers formed on SiGe/Si(110) heterostructures 査読

Keisuke Arimoto, Atsushi Onogawa, Shingo Saito, Takane Yamada, Kei Sato, Naoto Utsuyama, Yuichi Sano, Daisuke Izumi, Junji Yamanaka, Kosuke O Hara, Kentarou Sawano and Kiyokazu Nakagawa

Semiconductor Science and Technology   33 ( 12 )   124016-1 - 124016-8   2018年11月

CaxBa1–xNb2O6 Ferroelectric Nanopowders for Ultrahigh-Density Optical Data Storage 査読

Mirza H. K. Rubel, M. S. Islam, U. S. M. Mahmuda, M. M. Rahaman, M. E. Hossain, M. S. Parvez, K. M. Hossain, M. I. Hossain, J. Hossain, Jiyunji Yamanaka, Nobuhiro Kumada, and S. Kojima

ACS Applied Nano Materials   1 ( 11 )   6289 - 6300   2018年10月

Diffusion process in BaSi2 film formation by thermal evaporation and its relation to electrical properties 招待 査読

Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa

Journal of Materials Research   33   2297 - 2305   2018年9月

Formation of uniaxial strained Ge via control of dislocation alignment in Si/Ge heterostructures 査読

Shiori Konoshima, Eisuke Yonekura, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa, and Kentarou Sawano

AIP Advances   8   075112-1 - 075112-5   2018年7月( ISSN：2158-3226 )

BaSi2 formation mechanism in thermally evaporated films and its application to reducing oxygen impurity concentration 査読

Kosuke O. Hara, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, and Noritaka Usami

Japanese Journal of Applied Physics   2018年2月( ISSN：0021-4922 )

Suppression of Near-interface Oxidation in Thermally-evaporated BaSi2 Films and Its Effects on Preferred Orientation and the Rectification Behavior of n-BaSi2/p+-Si Diodes 査読

Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa and Noritaka Usami

MRS Advances   2018年1月

Sharp phase-separated interface of 6,13-bis(triisopropylsilylethynyl) pentacene/polystyrene blend films prepared by electrostatic spray deposition 査読

Norio Onojima, Takumi Ozawa, Takuya Sugai, Shunsuke Obata, Yuta Miyazawa, Junji Yamanaka

ORGANIC ELECTRONICS   66   206 - 210   2018年( ISSN：1566-1199 )

Investigation on the origin of preferred a-axis orientation of BaSi2 films deposited on Si(100) by thermal evaporation 査読

Kosuke O. Hara, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Noritaka Usami

Materials Science in Semiconductor Processing   2017年12月( ISSN：1369-8001 )

Fabrication of high-quality strain relaxed SiGe(1 1 0) films by controlling defects via ion implantation 査読

M. Kato, K. Arimoto, J. Yamanaka, K. Nakagawa, K. Sawano

Journal of Crystal Growth   477   197 - 200   2017年11月( ISSN：0022-0248 )

Growth of strained Si/relaxed SiGe heterostructures on Si(110) substrates using solid-source molecular beam epitaxy 査読

Keisuke Arimoto, Hiroki Nakazawa, Shohei Mitsui, Naoto Utsuyama, Junji Yamanaka, Kosuke O Hara, Noritaka Usami and Kiyokazu Nakagawa

Semiconductor Science and Technology   32   114002   2017年11月( ISSN：0268-1242 )

Thermal stability of compressively strained Si/relaxed Si1-xCx heterostructures formed on Ar ion implanted Si (100) substrates 査読

You Arisawaa,⁎, Yusuke Hoshib, Kentarou Sawanoc, Junji Yamanakad, Keisuke Arimotod, Chiaya Yamamotoe,f, Noritaka Usamia

Materials Science in Semiconductor Processing   2017年11月( ISSN：1369-8001 )

Fabrication of BaSi2 thin films capped with amorphous Si using a single evaporation source 査読

Kosuke O. Hara, Cham Thi Trinh, Yasuyoshi Kurokawa, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa, Noritaka Usami

Thin Solid Films   636   546 - 551   2017年8月( ISSN：0040-6090 )

Hole mobility in strained Si/SiGe/vicinal Si(110) grown by gas source MBE 査読

Keisuke Arimotoa, Sosuke Yagi, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kentarou Sawano, Noritaka Usami, Kiyokazu Nakagawa

Journal of Crystal Growth   468   625 - 629   2017年6月( ISSN：0022-0248 )

Hole generation associated with intrinsic defects in SOI-based SiGe thin films formed by solid-source molecular beam epitaxy 査読

Motoki Satoh, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kentarou Sawano, Yasuhiro Shiraki, Kiyokazu Nakagawa

Journal of Applied Physics   123   161529-1 - 161529-6   2017年4月( ISSN：0021-8979 )

Effects of deposition rate on the structure and electron density of evaporated BaSi2 films, " to be published in Journal of Applied Physics 査読

K. O. Hara,Cham Thi Trinh,K. Arimoto,J. Yamanaka,K. Nakagawa,Y. Kurokawa,T. Suemasu,N. Usami

Journal of Applied Physics   120 ( 4 )   2016年12月( ISSN：0021-8979 )

Structural and electrical properties of Ge(111) films grown on Si(111) substrates and application to Ge(111)-on-Insulator 査読

K. Sawano, Y. Hoshi, S. Kubo, K. Arimoto, J. Yamanaka, K. Nakagawa, K. Hamaya, M. Miyao, Y. Shiraki

Thin Solid Films   613   24 - 28   2016年8月

Control of electrical properties of BaSi2 thin films by alkali-metal doping using alkali-metal fluorides 査読

Kosuke O. Hara,Weijie Du,Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kaoru Toko,Takashi Suemasu,Noritaka Usami

Thin Solid Films   603   218 - 223   2016年3月

Formation of compressively-strained Si/Si1-xCx heterostructures on Si (100) substrates with Ar ion implantation 査読

Y. Hoshi,Y. Arisawa,K. Arimoto,J. Yamanaka,K. Nakagawa,K. Sawano,N. Usami

Japanese Journal of Applied Physics   55 ( 3 )   2016年2月

Structral and electrical characterization of crack-free BaSi2 thin films fabricated by thermal evaporation 査読

Kosuke O. Hara,Junji Yamanaka,Keisuke Arimoto,Kiyokazu Nakagawa,Takashi Suemasu,Noritaka Usami

Thin Solid Films   595A   68 - 72   2015年11月

Role of low-energy ion irradiation in the formation of aluminum germanate layer on germanium substrate by radical-enhanced atomic layer deposition 査読

Yukio Fukuda,Daichi Yamada,Tomoya Yokohira,Kosei Yanachi,Chiaya Yamamoto,Byeonghak Yoo,Junji Yamanaka,Tetsuya Sato,Toshiyuki Takamatsu,Hiroshi Okamoto

J. Vac. Sci. Technol. A   34 ( 2 )   2015年4月

Low nickel germanide contact resistances by carrier activation enhancement techniques for germanium CMOS application 査読

Hidenori Miyoshi,Tetsuji Ueno,Yoshihiro Hirota,Junji Yamanaka,Keisuke Arimoto,Kiyokazu Nakagawa,Takanobu Kaitsuka

Jpn. J. Appl. Phys   ５３   2014年12月

Formation of Ge(111) on Insulator by Ge epitaxy on Si(111) and layer transfer 査読

K. Sawano,Y. Hoshi,S. Endo,T. Nagashima,K. Arimoto,J. Yamanaka,K. Nakagawa,S. Yamada,K. Hamaya,M. Miyao,Y. Shiraki

Thin Solid Films   557   76 - 79   2014年4月

Gas-source MBE growth of strain-relaxed Si1−xCx on Si(100) substrates 査読

Keisuke Arimoto,Shoichiro Sakai,Hiroshi Furukawa,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Noritaka Usami,Yusuke Hoshi,Kentarou Sawano,Yasuhiro Shiraki

Journal of Crystal Growth   378 ( 1 )   212 - 217   2013年9月

Spontaneous formation of aluminum germanate on Ge(100) by atomic layer deposition with trimethylaluminum and microwave-generated atomic oxygen 査読

Yukio Fukuda,Hiroki Ishizaki,Yohei Otani,Chiaya Yamamoto,Junji Yamanaka,Tetsuya Sato,Toshiyuki Takamatsu,Hiroshi Okamoto,Hidehumi Narita

Appl. Phys. Lett.   102 ( 13 )   2013年4月

Reflectance anisotropies of compressively strained Si grown on vicinal Si1-xCx (001) 査読

R. E. Balderas-Navarro,N. A. Ulloa-Castillo,K. Arimoto,G. Ramírez-Meléndez,L F. Lastras-Martínez,H. Furukawa,J. Yamanaka,A. Lastras-Martínez,J. M. Flores-Camacho,N. Usami,D. Stifter,K. Hingerl

Appl. Phys. Lett.   102   01190   2013年1月

Formation of compressively strained Si/Si1-xCx/Si(100) heterostructures using gas-source molecular beam epitaxy 査読

K. Arimoto,H. Furukawa,J. Yamanaka,C. Yamamoto,K. Nakagawa,N. Usami,K. Sawano,Y. Shiraki

J. Cryst. Growth   362 ( 1 )   276 - 281   2013年1月

Formation of compressively strained SiGe/Si(110) heterostructures and their characterization 査読

Keisuke Arimoto,Tomoyuki Obata,Hiroshi Furukawa,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,Yasuhiro Shiraki

Journal of Crystal Growth   362 ( 1 )   282 - 287   2013年1月

Acceptor-Like States in SiGe Alloy Related to Point Defects Induced by Siþ Ion Implantation 査読

Motoki Satoh,Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,Yasuhiro Shiraki

Jpn. J. Appl. Phys.   51   2012年10月

電析Pd-Ni-P金属ガラス薄膜の作製と皮膜組成に及ぼす浴組成の影響 査読

望月　千裕,千賀　祟史,山中　淳二,柴田　正実

表面技術   63 ( 5 )   323 - 328   2012年5月

Microstructure Change of B2 Precipitates in an Fe-Al-Ni Alloy Due to Two-Step Heat-Treatment 査読 重要な業績

Junji Yamanaka,Chiaya Yamamoto,Yasuhiro Kuno,Minoru Doi

Mater. Sci. Forum   706-709 ( 4 )   2496 - 2501   2012年3月

Vitreous phase coating on glaserite-type alkaline earth silicate blue phosphor BaCa2MgSi2O8:Eu2+ 査読

Yoshinori Yonesaki,Qiang Dong,Nur Suhaiza Binti Mohamad,Akira Miura,Takahiro Takei,Junji Yamanaka,Nobuhiro Kumada,Nobukazu Kinomura

Journal of Alloys and Compounds   509   8738 - 8741   2011年6月

PHASE-SEPARATION OF B2 PRECIPITATES IN AN Fe-Ni-Al ALLOY 査読 重要な業績

Y. Kuno,Y. Nakane,T. Kozakai,M. Doi,J. Yamanaka,その他2名

Materials Science Forum   638-642   2274 - 2278   2010年6月

Strain relaxation mechanisms in compositionally uniform and step-graded SiGe films grown on Si(110) substrates 査読

K. Arimoto,M. Watanabe,J. Yamanaka,K. Nakagawa,K. Sawano,その他3名

Solid-State Electronics   53   1135 - 1143   2009年10月

Topography-sensitive copper deposition in supercritical solutions 査読

Eiichi Kondoh,K. Nagano,C. Yamamoto,J. Yamanaka

Microelectronic Engineering   86   902 - 905   2009年4月

Crystalline morphologies of step-graded SiGe layers grown on exact and vicinal (110) Si substrates 査読 重要な業績

K. Arimoto,M. Watanabe,J. Yamanaka,K. Nakagawa,K. Sawano,その他3名

J. Cryst. Growth   331   809 - 813   2009年1月

Strain relaxation mechanisms in step-graded SiGe/Si(110) heterostructures grown by gas-source MBE at high temperatures 査読

K. Arimoto,M. Watanabe,J. Yamanaka,K. Nakagawa,N. Usami,その他3名

J. Cryst. Growth   331   819 - 824   2009年1月

Structural and transport properties of strained SiGe grown on V-groove patterned substrates 査読

K. Arimoto,G. Kawaguchi,K. Shimizu,M. Watanabe,J. Yamanaka,その他5名

J. Cryst. Growth   331   814 - 818   2009年1月

Growth temperature dependence of the defect morphology in SiGe films grown on Si(110) substrates with step-graded buffer 査読

Keisuke Arimoto,Masato Watanabe,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,その他3名

Thin Solid Films   235 - 238   2008年11月

Characterizations of Polycrystalline SiGe Films on SiO2 Grown by Gas-Source Molecular Beam Deposition 査読

M. Mitsui,M. Tamoto,K. Arimoto,J. Yamanaka,K. Nakagawa,その他4名

Thin Solid Films   517   254 - 256   2008年11月

Fabrication of high quality SiGe relaxed thin layers by ion implantation technique with Ar, Si and Ge ions 査読

K. Sawano,A. Fukumoto,Y. Hoshi,J. Yamanaka,K. Nakagawa,その他1名

Thin Solid Films   517   87 - 89   2008年11月

Microstructure difference of Ni induced poly-crystallized SiGe by changing annealing atmosphere, and enhancement of Ni induced poly-crystallization of Si by Ar ion-implantation 査読 重要な業績

J. Yamanaka,T. Horie,M. Mitsui,K. Arimoto,K. Nakagawa,その他5名

Thin Solid Films   517   232 - 234   2008年11月

Femtosecond laser irradiation of metal and thermal oxide layers on silicon: studies utilising cross-sectional transmission electron microscopy 査読 重要な業績

T. H. R. Crawford,J. Yamanaka,E. M. Hsu,G. A. Botton,H. K. Haugen

Appl. Phys. A   91 ( 3 )   473 - 478   2008年6月

High-resolution observations of an amorphous layer and subsurface damage formed by femtosecond laser irradiation of silicon 査読 重要な業績

T. H. R. Crawford,J. Yamanaka,G. A. Botton,H. K. Haugen

J. Appl. Phys.   103 ( 5 )   1 - 7   2008年3月

New Structure of Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistor with Germanium Layer in Source/Drain Regions for Low-Temperature Device Fabrication 査読

Minoru Mitsui,Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,その他1名

Jpn. J. Appl. Phys.   47 ( 3 )   1547 - 1549   2008年3月

Strained Si n-channel metal-oxide-semiconductor field-effect transistors formed on very thin SiGe relaxed layer fabricated by ion implantation technique 査読

K. Sawano,A. Fukumoto,Y. Hoshi,Y. Shiraki,J. Yamanaka,その他1名

APPLIED PHYSICS LETTERS   90 ( 20 )   1 - 3   2007年5月

Observation of voids formed by annealing in LiNbO3 implanted with Cu ions 査読 重要な業績

K. Ijima,N. Mitsui,A. Ho,J. Yamanaka,S. Taniguchi,その他1名

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B   257   472 - 475   2007年4月

Growth temperature dependence of lattice structures of SiGe/graded buffer structures grown on Si(1 1 0) substrates by gas-source MBE 査読

Keisuke Arimoto,Junji Yamanakaa,Kiyokazu Nakagawaa,Kentarou Sawanob,Yasuhiro Shirakib,その他2名

Journal of Crystal Growth   301-302   343 - 348   2007年4月

Nano-Sized Ni Particles on Hollow Alumina Ball; Catalysts for Hydrogen Production 査読

Masahiro Watanabe,Hisao Yamashita,Xin Chen,Junji Yamanaka,Masashi Kotobuki,Hiroaki Suzuki,Hiroyuki Uchida

Applied Catalysis B: Environmental   71 ( 3-4 )   237 - 245   2007年2月

Influence of Ge atoms on mobility and junction properties of thin-film transistors fabricated on solid-phase crystallized poly-SiGe 査読

Minoru Mitsui,Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,Yasuhiro Shiraki

Appl. Phys. Lett.   89   1 - 3   2006年11月

Dislocation distribution in a strain-relaxed SiGe thin film grown on an ion-implanted Si substrate 査読 重要な業績

Junji Yamanaka,Kentaro Sawano,Kumiko Suzuki,Kiyokazu Nakagawa,Yusuke Ozawa,その他2名

Thin Solid Films   508   103 - 106   2006年6月

Formation of microcrystalline Silicon and SiNx films by electronbeam-induced-chemical vapor deposition at ultra low temperature 査読

Tetsuya Sato,Minoru Mitsui,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Yutaka Aoki,その他2名

Thin Solid Films   508   61 - 64   2006年6月

Determination of Lattice Parameters of strained-Si/SiGe Heterostructures　Grown on Si(110) Substrates 査読

Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,Yasuhiro Shiraki,その他2名

Thin Solid Films   508   132 - 135   2006年6月

Lamellar nanocomposites based on exfoliated SbP2O−8 nanosheets and ionic polyacetylenes 査読

G.K. Prasad,N. Kumada,J. Yamanaka,Y. Yonesaki,T. Takei,その他1名

Journal of Colloid and Interface Science   297   654 - 659   2006年5月

Strain-field evaluation of strain-relaxed thin SiGe layers fabricated by ion-implantation method 査読

Kentarou Sawano,Yusuke Ozawa,Atsushi Fukumoto,Yasuhiro Shiraki,Junji Yamanaka,その他4名

Jpn. J. Appl. Phys.   44   L1316 - L1319   2005年12月

Preparation and crystal structure of H-BaTa2O6-type K1.83Ba4.17Nb12.18O36 and dielectric properties of the related compounds 査読

W. Zhang,N. Kumada,T. Takei,J. Yamanaka,N. Kinomura

Materials Research Bulletin   40   1177 - 1186   2005年12月

Changes in Elastic Deformation of Strained Si by Micro-Fabrication 査読

Keisuke Arimoto,Daisuke Furukawa,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,Shinji Koh,Yasuhiro Shiraki,Noritaka Usami

Materials Science in Semiconductor Processing   8   181 - 185   2005年6月

Observation of Dislocations in Strain-Relaxed Silicon-Germanium Thin Films with Flat Surfaces Grown on Ion-Implanted Silicon Substrates 査読 重要な業績

Junji Yamanaka,Kentaro Sawano,Kiyokazu Nakagawa,Kumiko Suzuki,Yusuke Ozawa,Shinji Koh,Takeo Hattori,Yasuhiro Shiraki

Materials Science in Semiconductor Processing   7   389 - 392   2004年12月

Fabrication of high-quality strain-relaxed thin SiGe layers on ion-implanted Si substrates 査読

K. Sawano,S. Koh,Y. Shiraki,Y. Ozawa,T. Hattori,J. Yamanaka,K. Suzuki,K. Arimoto,K. Nakagawa,N. Usami

APPLIED PHYSICS LETTERS,   85 ( 13 )   2514 - 2516   2004年11月

Strain Relaxation and Induced Defects in SiGe Thin Films Grown on Ion-Implanted Si Substrates 査読 重要な業績

Junji Yamanaka,Kentaro Sawano,Kiyokazu Nakagawa,Kumiko Suzuki,Yusuke Ozawa,Shinji Koh,Takeo Hattori,Yasuhiro Shiraki

Material Transactions   45 ( 8 )   2644 - 2646   2004年8月

高分解能透過電子顕微鏡法と回折コントラスト像による無機材料のナノ構造観察

山中淳二

山梨大学機器分析センター年報2002年度版   38 - 46   2004年4月

Enhancement of Strain Relaxation of SiGe Thin Layers by Pre-Ion-Implantation into Si Substrates 査読

K. Sawano,Y. Hirose,Y. Ozawa,S. Koh,J. Yamanaka,K. Nakagawa,T. Hattori,Y. Shiraki

Jpn. J. Appl. Phys.   42   L735 - L737   2003年7月

高分解能透過電子顕微鏡法と電子エネルギー損失分光法によるフラン樹脂炭素の微細組織観察

山中淳二,安田榮一,George C. Weatherly,田邊靖博

平成14年度山梨大学工学部研究報告   51   89 - 94   2003年2月

Synthesis of electrochromic praseodymium-doped vanadium oxide films by molten salt electrolysis 査読

Yoshikazu KANEKO,Shigehiro MORI,Junji YAMANAKA

Solid State Ionics   151   35 - 39   2002年6月

TEM Observations of Surface Graphitization and Interior Microstructural Changes in a Furan-Resin-Derived Carbon 査読

Junji Yamanaka,Eiichi Yasuda,George C. Weatherly,Yasuhiro Tanabe

Materials Research Society Symposium   1 - 6   2002年6月

Single- and Multi-Pulse Femtosecond Laser Irradiation of Iron, Copper, and Aluminum 査読

Qiang LIU,Junji YAMANAKA,Harold K. HAUGEN,George C. WEATHERLY

SPIE Regional Meeting on Optoelectronics, Photonics, and Imaging   27 - 29   2002年2月

X-ray Double-Crystal Diffractometry of Verneuil-Grown SrTiO3 Crystals 査読

Jun-ich YOSHIMURA,Takeshi SAKAMOTO,Junji YAMANAKA

Jpn. J. Appl. Phys.   40 ( 11 )   6536 - 6542   2001年11月

透過電子顕微鏡による無機マテリアルのナノ構造評価

山中淳二

Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan   8 ( 11 )   601 - 606   2001年11月

Hydrothermal Synthesis of Vanadium-Based Layered Compound with 1 nm Basal Spacing 査読 重要な業績

Junji YAMANAKA,Shigehiro MORI,Yoshikazu KANEKO

Materials Transactions   42 ( 9 )   1854 - 1857   2001年9月

Cross-Sectional Observation of Surface Graphitization in Furan-Resin-Derived Carbon 査読 重要な業績

Junji YAMANAKA,Eiichi YASUDA,Hidekazu MIGITA,Yasuhiro TANABE

Materials Transactions   42 ( 9 )   1874 - 1877   2001年9月

High-Resolution Electron Microscopy of a Subgrain Boundary in Strontium Titanete Single Crystal 査読

Junji YAMANAKA

Materials Transactions   42 ( 6 )   1131 - 1134   2001年6月

Surface Graphitization of Furan-Resin-Derived Carbon 査読

Yasuhiro TANABE,Junji YAMANAKA,Kazuhito HOSHI,Hidekazu MIGITA,Eiichi YASUDA

Carbon   39 ( 15 )   2347 - 2353   2001年6月

Preparation of La2-xSrxCuO4 Single-Crystalline Films by Infrared-Heated LPE (IR-LPE) Technique 査読

Isao TANAKA,Ken ASHIZAWA,Hideyoshi TANABE,Satoshi WATAUCHI,Junji YAMANAKA

Physica C   362   180 - 185   2001年4月

Cage Structure Development in Furan-Resin-Derived Carbon 査読

Junji YAMANAKA,Eiichi YASUDA,Hidekazu MIGITA,Yasuhiro TANABE

Materials Transactions   42 ( 3 )   453 - 456   2001年3月

水酸アパタイトとPb2+イオンの反応に及ぼすCa/P モル比および純度の影響 査読

岡田文夫,山中淳二,湯泉正喜,阪根英人,初鹿敏明,鈴木喬

Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan   7   435 - 440   2000年6月

X-ray Topographic Observation of Lattice Defects in Heat-Treated SrTiO3 Crystals 査読

Jun-ichi YOSHIMURA,Junji YAMANAKA,Takeshi IWAMOTO,Shiushichi KIMURA

Materials Transactions, JIM   41 ( 5 )   559 - 562   2000年5月

Characterization of Lattice Defects in Strontium Titanate Single Crystals by X-ray Topography and Transmission Electron Microscopy 査読

Junji YAMANAKA,Jun-ichi YOSHIMURA,Shiushichi KIMURA

Journal of Electron Microscopy   49 ( 1 )   89 - 92   2000年1月

Distribution of Dislocations in SrTiO<3>Single Crystals 査読 重要な業績

Junji YAMANAKA

Materials Transactions, JIM   40 ( 9 )   915 - 918   1999年9月

Surface Analysis of Silicon Nitride Cutting Tool after Turning Gray Cast Iron 査読

Toshio OGASAWARA,Keizo OTANI,Yushi SHICHI,Junji YAMANAKA

Journal of the Ceramic Society of Japan   107 ( 6 )   497 - 501   1999年6月

Characterisation of lattice defects in strontium titanate single crystals by X-ray topography and transmission electron microscopy 査読

Junji YAMANAKA,Jun-ichi YOSHIMURA,Shiushichi KIMURA

International Symposium on Hybrid Analyses for Functional Nanostructure   167 - 168   1998年9月

L12型Au3Pd規則相の出現に関する実験的検討 査読

山中淳二,入戸野修

日本金属学会誌   58 ( 8 )   401 - 402   1994年8月

Characteristics of Microstructures of Ni-Au and Pd-Au Alloy Films Prepared by an Evaporation Method 査読

Junji YAMANAKA,Yoshio NAKAMURA,Osamu NITTONO

Materials Science and Engineering A   A179/A180   401 - 407   1994年4月

Ni-Au合金薄膜の相分離における微細組織の特徴 査読

山中淳二,入戸野修

日本金属学会誌   56 ( 9 )   1108 - 1109   1992年9月

Ni 固相フラックスを用いた SiC 薄膜作製の試み

國枝慎，有元圭介，山中淳二，原康祐

第 16 回日本フラックス成長研究発表会  2022年12月 

近接蒸着法を用いた CaSi₂薄膜の作製

高垣僚太，有元圭介，山中淳二，原康祐

第 16 回日本フラックス成長研究発表会  2022年12月 

ミスフィット層状化合物[(SnSe)1+δ]m(NbSe2)単結晶のフラックス育成と超伝導特性の評価

周日発，長尾雅則，山本千綾，山中淳二，丸山祐樹，綿打敏司，田中功

第 16 回日本フラックス成長研究発表会  2022年12月 

Constructing the composition ratio prediction model using machine learning for BaSi2 thin films deposited by thermal evaporation 国際会議

Ryuto Ueda, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara

The 33rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference (“PVSEC-33”)  2022年11月 

NBD 回折円盤からのSiGe 面間隔測定における収束レンズ条件の影響

古屋　丞司, 有元　圭介, 小國　琢弥, 原　康祐, 山中　淳二

日本顕微鏡学会第65 回シンポジウム  2022年11月 

ミスフィット層状化合物[(SnSe)1+δ]m(NbSe2)の単結晶育成と評価

周 日発、長尾 雅則、山本 千綾、山中 淳二、丸山 祐樹、綿打 敏司、田中 功

2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年9月 

歪み SiGe/Ge(111)に発生したクラックの TEM 観察

田島 滉太、山中 淳二、有元 圭介、原 康祐、我妻 勇哉、澤野 憲太郎

2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年9月 

Ge/SiO2及びSi/Ge/SiO2の低温成長とそのTEM観察

近藤 弘人、有元 圭介、原 康祐、山中 淳二

2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会  2022年9月 

Synthesis of photoconductive BaSi2 films by close-spaced evaporation 国際会議

Kosuke O. Hara, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto

THE 22ND INTERNATIONAL VACUUM CONGRESS IVC  2022年9月 

Crystalline Morphology of SiGe Films Grown on Si(110) Substrates 国際会議

Keisuke Arimoto, Chihiro Sakata, Kosuke O. Hara, Junji Yamanaka

19th International Conference on Defects-Recognition, Imaging and Physics in Semiconductors  2022年8月 

Evaluation of Lattice-Spacing of Si and SiGe by NBD using conventional TEM 国際会議

Junji Yamanaka, Takuya Oguni, Joji Furuya, Kosuke O. Hara, Keisuke

19th International Conference on Defects-Recognition, Imaging and Physics in Semiconductors  2022年8月 

Evaluation of Lattice-Spacing of SiGe/Si by NBD using Two-condenser-lens TEM 国際会議

Junji Yamanaka, Takuya Oguni, Yuichi Sano, Yusuke Ohshima, Atsushi Onogawa, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto

Microscopy　& Microanalysis 2022  2022年8月 

Mechanochemically Assisted Close-Spaced Evaporation of BaSi_2 Films 国際会議

Kosuke O. Hara, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto

APAC SILICIDE 2022, 6th Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides  2022年7月 

オパールの白濁原因について

高橋泰、山中淳二、有元圭介、安保拓真

2022年度宝石学会 (日本 )オンライ講演会  2022年6月 

2 段集束レンズTEM を用いたNBD によるSiGe と歪Si の面間隔評価

山中淳二、小國琢弥、佐野雄一、大島佑介、各川敦史、原康祐、有元圭介

日本顕微鏡学会第78回学術講演会  2022年5月 

Si/SiGe/Si(110) 内双晶分布の X 線回折と TEM による評価

坂田 千尋、有元 圭介、各川 敦史、原 康祐、山中 淳二

日本顕微鏡学会第64回シンポジウム  2021年11月 

STEM-Moiré Applications to Crystalline Specimens without using High-End Microscopes 国際会議

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto

2nd Canada – Japan Microscopy Societies Symposium 2021  2021年11月 

2段集束レンズ TEM を用いた NBD による SiGe 面間隔評価の試行

小國 琢弥、佐野 雄一、大島 佑介、原 康祐、有元 圭介、山中 淳二

日本顕微鏡学会第64回シンポジウム  2021年11月 

STEM-Moiré Applications to Crystalline Specimens without using High-End Microscopes 国際会議

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto

2nd Canada – Japan Microscopy Societies Symposium 2021  2021年11月 

2段集束レンズ TEM を用いた NBD による SiGe 面間隔評価の試行

小國 琢弥, 佐野 雄一, 大島 佑介, 原 康祐, 有元 圭介, 山中 淳二

日本顕微鏡学会第64回シンポジウム  2021年11月 

Si/SiGe/Si(110) 内双晶分布の X 線回折と TEM による評価

坂田 千尋, 有元 圭介, 各川 敦史, 原 康祐, 山中 淳二

日本顕微鏡学会第64回シンポジウム  2021年11月 

Discrimination between Coherent and Incoherent Interfaces using STEM Moiré 国際会議

Junji Yamanaka, Daisuke Izumi, Chiaya Yamamoto, Mai Shirakura, Kosuke Hara, Keisuke Arimoto

Microscopy　& Microanalysis 2021  2021年8月 

Discrimination between Coherent and Incoherent Interfaces using STEM Moiré 国際会議

Junji Yamanaka, Daisuke Izumi, Chiaya Yamamoto, Mai Shirakura, Kosuke Hara, Keisuke Arimoto

Microscopy & Microanalysis 2021  2021年8月 

2 段集束レンズTEM を用いたNBD によるSi 面間隔評価の試行

小國琢弥、佐野雄一、原康祐、有元圭介、山中淳二

日本顕微鏡学会第77回学術講演会  2021年6月 

2 段集束レンズTEM を用いたNBD によるSi 面間隔評価の試行

小國琢弥, 佐野雄一, 原康祐, 有元圭介, 山中淳二

日本顕微鏡学会第77回学術講演会  2021年6月 

Dependences of the hole mobility in the strained Si pMOSFET formed on SiGe/Si(110) on strained Si Thickness and the channel direction 国際会議

Keisuke Arimoto, Taisuke Fujisawa, Daichi Namiuchi, Atsushi Onogawa, Yuichi Sano, Daisuke Izumi, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa

The 8th　Asian Conference on Crystal Growth and Crystal Technology  2021年3月 

Dependences of the hole mobility in the strained Si pMOSFET formed on SiGe/Si(110) on strained Si Thickness and the channel direction 国際会議

Keisuke Arimoto, Taisuke Fujisawa, Daichi Namiuchi, Atsushi Onogawa, Yuichi Sano, Daisuke Izumi, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa

The 8th Asian Conference on Crystal Growth and Crystal Technology  2021年3月 

Engineering Strain, Defects, and Electronic Properties of (110)-Oriented Strained Si 招待 国際会議

K. Arimoto, J. Yamanaka, K. O. Hara, K. Sawano, N. Usami, K. Nakagawa

ECS PRiME 2020  2020年10月 

Engineering Strain, Defects, and Electronic Properties of (110)-Oriented Strained Si 招待 国際会議

K. Arimoto, J. Yamanaka, K. O. Hara, K. Sawano, N. Usami, K. Nakagawa

ECS PRiME 2020  2020年10月 

HREM Observation and Identification of the Causality of Twins in SiGe/Si (110) 国際会議

Junji Yamanaka, Yuichi Sano, Shingo Saito, Atsushi Onogawa, Kosuke O. Hara, Kiyokazu Nakagawa, Keisuke Arimoto

Microscopy & Microanalysis 2020 Meeting  2020年8月  Microscopy Society of America

HREM Observation and Identification of the Causality of Twins in SiGe/Si (110) 国際会議

Junji Yamanaka, Yuichi Sano, Shingo Saito, Atsushi Onogawa, Kosuke O. Hara, Kiyokazu Nakagawa, Keisuke Arimoto

Microscopy & Microanalysis 2020 Meeting  2020年8月  Microscopy Society of America

Hole Mobility in Strained Si/Relaxed SiGe/Si(110) Hetero Structures Studied by Gated Hall Measurements 国際会議

Daichi Namiuchi, Atsushi Onogawa, Keisuke Arimoto, Yuichi Sano, Daisuke Izumi, Junji Yamanaka, Kosuke O Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa

8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-8)  2019年11月 

Practical Growth Processes of Silicide and Germanide Thin Films for Photovoltaic and Electronic Applications 招待 国際会議

Kosuke O. Hara, Shuhei Takizawa Noritaka Usami, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto

8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-8)  2019年11月 

Critical Thickness of SiGe on Si(110) Substrate 国際会議

Shingo Saito, Yuichi Sano, Kosuke. O. Hara, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa

8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-8)  2019年11月 

Practical Growth Processes of Silicide and Germanide Thin Films for Photovoltaic and Electronic Applications 招待 国際会議

Kosuke O. Hara, Shuhei Takizawa, Noritaka Usami, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto

8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-8)  2019年11月 

Critical Thickness of SiGe on Si(110) Substrate 国際会議

Shingo Saito, Yuichi Sano, Kosuke. O. Hara, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa

8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-8)  2019年11月 

Hole Mobility in Strained Si/Relaxed SiGe/Si(110) Hetero Structures Studied by Gated Hall Measurements 国際会議

Daichi Namiuchi, Atsushi Onogawa, Keisuke Arimoto, Yuichi Sano, Daisuke Izumi, Junji Yamanaka, Kosuke O Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa

8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-8)  2019年11月 

Close-spaced Evaporation: Scalable Technique for BaSi2 Film Deposition 国際会議

Kosuke O. Hara, Shuhei Takizawa, Noritaka Usami, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto

29th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-29)  2019年11月 

Close-spaced Evaporation: Scalable Technique for BaSi2 Film Deposition 国際会議

Kosuke O. Hara, Shuhei Takizawa, Noritaka Usami, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto

29th International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-29)  2019年11月 

Hole Mobility Enhancement Observed in (110)-Oriented Strained Si 国際会議

Keisuke Arimoto, Naoto Utsuyama, Shohei Mitsui, Kei Satoh, Takane Yamada, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa

2019 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2019)  2019年9月 

Hole Mobility Enhancement Observed in (110)-Oriented Strained Si 国際会議

Keisuke Arimoto, Naoto Utsuyama, Shohei Mitsui, Kei Satoh, Takane Yamada, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa

2019 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2019)  2019年9月 

Evaluation of Crystal Lattice Rotation around a Stress-Induced Twin in a Step-Graded SiGe / Si (110) Using STEM Moiré Observation and its Image Analysis 国際会議

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Mai Shirakura, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Akimitsu Ishizuka, and Kazuo Ishizuka

M&M2019 Microscopy & Microanalysis  2019年8月 

Evaluation of Crystal Lattice Rotation around a Stress-Induced Twin in a Step-Graded SiGe / Si (110) Using STEM Moiré Observation and its Image Analysis 国際会議

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Mai Shirakura, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Akimitsu Ishizuka, Kazuo Ishizuka

M&M2019 Microscopy & Microanalysis  2019年8月 

SURFACE OXIDATION OF TI PLATES BY USING MICROWAVE PLASMA HEATING SYSTEM 国際会議

J. Yamanaka, M. Shirakura, Y. Miyazawa, S. Shinozuka, M. Katsumata, T. Takamatsu, T. Arai, K. Nakagawa

19th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-19)  2019年7月 

SURFACE OXIDATION OF TI PLATES BY USING MICROWAVE PLASMA HEATING SYSTEM 国際会議

J. Yamanaka, M. Shirakura, Y. Miyazawa, S. Shinozuka, M. Katsumata, T. Takamatsu, T. Arai, K. Nakagawa

19th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy (ICCGE-19)  2019年7月 

Physicochemical study of BaSi2 evaporation for composition-controlled film deposition 国際会議

Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, and Kiyokazu Nakagawa

The 5th Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials 2019 (APAC-Silicide 2019)  2019年7月 

Physicochemical study of BaSi2 evaporation for composition-controlled film deposition 国際会議

Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa

The 5th Asia-Pacific Conference on Semiconducting Silicides and Related Materials 2019 (APAC-Silicide 2019)  2019年7月 

Elucidating the SnS/BaSi2 Interface Reaction for SnS/BaSi2 Heterojunction Solar Cells 国際会議

Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, and Kiyokazu Nakagawa

10th International Conference on Materials for Advanced Technologies (ICMAT2019)  2019年6月 

Elucidating the SnS/BaSi2 Interface Reaction for SnS/BaSi2 Heterojunction Solar Cells 国際会議

Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa

10th International Conference on Materials for Advanced Technologies (ICMAT2019)  2019年6月 

Relaxation of strain in Si layers formed on (110)-oriented SiGe/Si heterostructures 国際会議

Keisuke Arimoto, Atsushi Onogawa, Shingo Saito, Yuichi Sano, Daisuke Izumi, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kiyokazu Nakagawa

2nd Joint ISTDM / ICSI 2019 Conference  2019年6月 

Relaxation of strain in Si layers formed on (110)-oriented SiGe/Si heterostructures 国際会議

Keisuke Arimoto, Atsushi Onogawa, Shingo Saito, Yuichi Sano, Daisuke Izumi, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kiyokazu Nakagawa

2nd Joint ISTDM / ICSI 2019 Conference  2019年6月 

新しいマイクロ波プラズマ装置を用いたチタン表面の酸化

山中 淳二、白倉 麻依、宮澤 雄太、篠塚 郷貴、勝又 まさ代、高松 利行、荒井 哲司、中川 清和

日本金属学会2018年秋期講演大会  2018年9月 

Formation of SnS/BaSi2 Heterojunction by Sequential Thermal Evaporation toward Solar Cell Applications 国際会議

K.O. Hara1, K. Arimoto, J. Yamanaka, K. Nakagawa

2018 International Conference on Solid State Devices and Materials  2018年9月 

STEM Moiré Observation of the Compositionally Step-Graded SiGe Thin Film and its Image Analysis 国際会議 重要な業績

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Mai Shirakura, Kei Sato, Takane Yamada, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Akimitsu Ishizuka, and Kazuo Ishizuka

The 19th International Microscopy Congress (IMC19)  2018年9月 

STEM Moiré Observation of the Compositionally Step-Graded SiGe Thin Film and its Image Analysis 国際会議

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Mai Shirakura, Kei Sato, Takane Yamada, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Akimitsu Ishizuka, Kazuo Ishizuka

The 19th International Microscopy Congress (IMC19)  2018年9月 

Formation of SnS/BaSi2 Heterojunction by Sequential Thermal Evaporation toward Solar Cell Applications 国際会議

K.O. Hara, K. Arimoto, J. Yamanaka, K. Nakagawa

2018 International Conference on Solid State Devices and Materials  2018年9月 

Feasibility Study to Evaluate Lattice-Space Changing of a Step-Graded SiGe / Si (110) Using STEM Moiré 国際会議

The 3rd Int'l Conference on Metal Materials and Engineering (MME 2018)  2018年7月 

Feasibility Study to Evaluate Lattice-Space Changing of a Step-Graded SiGe / Si (110) Using STEM Moiré 国際会議

The 3rd Int'l Conference on Metal Materials and Engineering (MME 2018)  2018年7月 

Composition control of semiconducting BaSi2 films fabricated by thermal evaporation 国際会議

Kosuke O. Har, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, and Kiyokazu Nakagawa

Collaborative Conference on Materials Research (CCMR) 2018  2018年6月 

Composition control of semiconducting BaSi2 films fabricated by thermal evaporation 国際会議

Kosuke O. Har, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa

Collaborative Conference on Materials Research (CCMR) 2018  2018年6月 

階段状組成傾斜SiGe/Si(110)のSTEMモアレ観察と面間隔評価

山中淳二、山本千綾、白倉麻依、佐藤圭、山田祟峰、 原康祐、有元圭介、中川清和、石塚顕在、石塚和夫

顕微鏡学会第74回学術講演会  2018年5月 

Stability of strain in Si layers formed on SiGe/Si(110) heterostructures 国際会議

Keisuke Arimoto, Atsushi Onogawa, Shingo Saito, Takane Yamada, Kei Sato, Naoto Utsuyama, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa

1st Joint ISTDM / ICSI 2018 Conference  2018年5月 

Stability of strain in Si layers formed on SiGe/Si(110) heterostructures 国際会議

Keisuke Arimoto, Atsushi Onogawa, Shingo Saito, Takane Yamada, Kei Sato, Naoto Utsuyama, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa

1st Joint ISTDM / ICSI 2018 Conference  2018年5月 

Surface Roughness of SiGe/Si (110) Formed by Stress-Induced Twins and the Solution to Produce Smooth Surface 国際会議

Junji Yamanaka, Mai Shirakura, Chiaya Yamamoto, Naoto Utsuyama, Kei Sato, Takane Yamada, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa

TFTA 2018 The 4th Int'l Conference on Thin Film Technology and Applications  2018年1月 

A challenge to analyze slight change of lattice spacing in a compositionally step-graded SiGe thin film using STEM moiré 招待 国際会議

Junji Yamanaka

The 7th Conference on Nanomaterials (CN 2018)  2018年1月 

Formation of Poly-Si Films on Glass Substrates by Using Microwave Plasma Heating and Fabrication of TFT’s on the Films 国際会議

Hiroki Nakaie, Tetsuji Arai, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa, Kazuki Kamimura, Toshiyuki Takamatsu

TFTA 2018 The 4th Int'l Conference on Thin Film Technology and Applications  2018年1月 

Revaluation of conventional TEM techniques and introduction of new STEM methods for materials science without using top-end microscopes 招待 国際会議

Junji Yamanaka

2017 Global Research Efforts on Energy and Nanomaterials (GREEN 2017)  2017年12月 

Simple Thermal Evaporation Route to Single-phase and Highly-oriented BaSi2 Thin Films 招待 国際会議

Kosuke O. Hara1, Chiaya Yamamoto1, Junji Yamanaka1, Keisuke Arimoto1, Kiyokazu Nakagawa1, Noritaka Usami2

2017 MRS Fall Meeting  2017年11月 

Simple Thermal Evaporation Route to Single-phase and Highly-oriented BaSi2 Thin Films 招待 国際会議

Kosuke O. Hara, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Noritaka Usami

2017 MRS Fall Meeting  2017年11月 

DEVELOPMENT OF PREFERRED ORIENTATION IN EVAPORATED BASI2 FILMS ON SI(100) BY CONTROLLING THE NEAR-INTERFACE STRUCTURE 国際会議

Kosuke O. Hara1), Chiaya Yamamoto1), Junji Yamanaka1), Keisuke Arimoto1), Kiyokazu Nakagawa1), Noritaka Usami2)

PVSEC-27 The 27th International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2017年11月 

DEVELOPMENT OF PREFERRED ORIENTATION IN EVAPORATED BASI2 FILMS ON SI(100) BY CONTROLLING THE NEAR-INTERFACE STRUCTURE 国際会議

Kosuke O. Har, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagaw, Noritaka Usam

PVSEC-27 The 27th International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2017年11月 

STEM Moiré Observations of Si/SiGe/Si (110) 国際会議

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Mai Shirakura, Kei Sato, Takane Yamada, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto and Kiyokazu Nakagawa

The 3rd East-Asia Microscopy Conference,EAMC3  2017年11月 

STEM Moiré Observations of Si/SiGe/Si (110) 国際会議

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Mai Shirakura, Kei Sato, Takane Yamada, Kosuke O. Hara, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa

The 3rd East-Asia Microscopy Conference,EAMC3  2017年11月 

Formation of Al and Hf germanate s as interlayers between high - k dielectrics and Ge substrates by radical - enhanced atomic layer deposition 国際会議

Daichi Yamada 1 , Yohei Otani 1 * , Chiaya Yamamoto 2 , Junji Yamanaka 3 , Tetsuya Sato 2 , Hiroshi Okamoto 4 , and Yukio Fukuda

EM-NANO 2017 The 6th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies  2017年6月 

Formation of Al and Hf germanate s as interlayers between high - k dielectrics and Ge substrates by radical - enhanced atomic layer deposition 国際会議

Daichi Yamada, Yohei Otani, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Tetsuya Sato, Hiroshi Okamoto, Yukio Fukuda

EM-NANO 2017 The 6th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies  2017年6月 

TEM observation of Si0.99C0.01 Thin Films with Arsenic-Ion-, Boron-Ion-, and Silicon-Ion-Implantation follewd by Rapid Thermal Annealing 国際会議

Junji Yamanaka, Shigenori Inoue, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Kentarou Sawano, Ya-suhiro Shiraki, Atsushi Moriya, Yasuhiro Inokuchi, Yasuo Kunii

The 3rd Int'l Conference on Thin Film Technology and Applications (TFTA 2017)  2017年1月 

STEM Moiré Observation of Lattice-Relaxed Germanium Grown on Silicon 国際会議

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Hiroki Nakaie, Tetsuji Arai, Keisuke Arimoto, Kosuke O. Hara, Kiyokazu Nakagawa

The 3rd Int'l Conference on Thin Film Technology and Applications (TFTA 2017)  2017年1月 

TEM and STEM Observations of a Flat Continuous Silicon-Germanium Thin Film Epitaxially Grown on Porous Silicon 国際会議

Junji Yamanaka, Noritaka Usami, Sevak Amtablian, Alain Fave, Mustapha Lemiti, Chiaya Yamamoto, Kiyokazu Nakagawa

The 3rd Int'l Conference on Thin Film Technology and Applications (TFTA 2017)  2017年1月 

STEM Moiré Observation of Ge/Si Produced by MBE and New Heating Method Using Plasma Technique 招待 国際会議

Junji YAMANAKA, Chiaya YAMAMOTO, Kosuke O. Hara, Keisuke ARIMOTO, Kiyokazu NAKAGAWA

2016 Global Research Efforts on Energy and Nanomaterials (GREEN 2016)  2016年12月 

The Influence of Stress-Induced Twins upon Surface Morphology of SiGe/Si(110) 国際会議

J. Yamanaka,M. Shirakura,C. Yamamoto,N. Utsuyama,K. Sato,T. Yamada,K. Arimoto,K. Nakagawa

The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy ICCGE-18  2016年8月 

The Influence of Stress-Induced Twins upon Surface Morphology of SiGe/Si(110) 国際会議

J. Yamanaka, M. Shirakura, C. Yamamoto, N. Utsuyama, K. Sato, T. Yamada, K. Arimoto, K. Nakagawa

The 18th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy ICCGE-18  2016年8月 

Ge/Si および SiGe/Si の STEM モアレ観察

山中淳二、山本千綾、上村和貴、中家大希、荒井哲司、有元圭介、中川清和、澤野憲太郎

日本顕微鏡学会　第72回学術講演会  2016年6月  日本顕微鏡学会

Ge/Si および SiGe/Si の STEM モアレ観察

山中淳二, 山本千綾, 上村和貴, 中家大希, 荒井哲司, 有元圭介, 中川清和, 澤野憲太郎

日本顕微鏡学会 第72回学術講演会  2016年6月  日本顕微鏡学会

STEM and TEM observations of defects distribution of Ge/Si annealed by new heating method using plasma technique 招待 国際会議

Junji YAMANAKA,Chiaya YAMAMOTO ,Kazuki KAMIMURA ,Hiroki NAKAIE ,Tetsuji ARAI,Keisuke ARIMOTO,Kiyokazu NAKAGAWA

THERMEC’2016 International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS Processing, Fabrication, Properties, Applications  2016年5月 

STEM and TEM observations of defects distribution of Ge/Si annealed by new heating method using plasma technique 招待 国際会議

Junji YAMANAKA, Chiaya YAMAMOTO, Kazuki KAMIMURA, Hiroki NAKAIE, Tetsuji ARAI, Keisuke ARIMOTO, Kiyokazu, NAKAGAWA

THERMEC’2016 International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS Processing, Fabrication, Properties, Applications  2016年5月 

Modification of the electrical properties of BaSi2 films by alkali-metal-fluoride treatment

Kosuke O. Hara,Weijie Du,Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kaoru Toko,Takashi Suemasu,Noritaka Usami

PVSEC25, 25th international Photovoltaic Science and Engineering Conference and Exhibition  2015年11月 

Modification of the electrical properties of BaSi2 films by alkali-metal-fluoride treatment

Kosuke O. Hara, Weijie Du, Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa, Kaoru Toko, Takashi Suemasu, Noritaka Usami

PVSEC25, 25th international Photovoltaic Science and Engineering Conference and Exhibition  2015年11月 

TEM observation of defects induced into semiconductor thin films under the control 国際会議

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Kentarou Sawano, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa

the 2015 International Symposium for Advanced Materials Research  2015年8月 

Role of low-energy ion irradiation in the formation of aluminum germanate layer on germanium substrate by radical-enhanced atomic layer deposition

T. Yokohira,K. Yanachi,D. Yamada,C. Yamamoto,B. Yoo,J. Yamanaka,T. Sato,T. Takamatsu,H. Okamoto,Y. Fukuda

ISSP2015: The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes  2015年7月 

Role of low-energy ion irradiation in the formation of aluminum germanate layer on germanium substrate by radical-enhanced atomic layer deposition

T. Yokohira, K. Yanachi, D. Yamada, C. Yamamoto, B. Yoo, J, Yamanaka,T, Sato, T, Takamatsu, H. Okamoto, Y. Fukuda

ISSP2015: The 13th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes  2015年7月 

Formation mechanism of aluminum germanate layer on germanium substrate by radical-enhanced atomic layer deposition

Hiroshi Okamoto,Tomoya Yokohira,Kosei Yanachi,Chiaya Yamamoto,Byeonghaku Yoo,Junji Yamanaka,Tetsuya Sato,Toshiyuki Takamatsu,Yukio Fukuda

8th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"  2015年1月 

Formation mechanism of aluminum germanate layer on germanium substrate by radical-enhanced atomic layer deposition

Hiroshi Okamoto, Tomoya Yokohira, Kosei Yanachi, Chiaya Yamamoto, Byeonghaku Yoo, Junji Yamanaka, Tetsuya Sato, Toshiyuki Takamatsu, Yukio Fukuda

8th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics and JSPS Core-to-Core Program Joint Seminar "Atomically Controlled Processing for Ultralarge Scale Integration"  2015年1月 

歪みSi/Si1-XCx/Si(001)構造の不純物活性化過程における結晶性及び電気特性評価

第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014年9月 

Formation of Metal Germanate Interlayer for High-k/Ge Metal-oxide-semiconductor structures by Atomic Layer Deposition Assisted by Microwave-generated Atomic Oxygen

Yohei Otani,Kosei Yanachi,Hiroki Ishizaki,Chiaya Yamamoto,Junji Yamanaka,Tetsuya Sato,Toshiyuki Takamatsu,Hiroshi Okamoto,Yukio Fukuda

ALD2014, 14th International Conference on Atomic Layer Deposition  2014年6月 

Formation of Metal Germanate Interlayer for High-k/Ge Metal-oxide-semiconductor structures by Atomic Layer Deposition Assisted by Microwave-generated Atomic Oxygen

Yohei Otani, Kosei Yanachi, Hiroki Ishizaki, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Tetsuya Sato, Toshiyuki Takamatsu, Hiroshi Okamoto, Yukio Fukuda

ALD2014, 14th International Conference on Atomic Layer Deposition  2014年6月 

In situ formation of aluminum germanate interlayer for high-k/Ge metal-oxide-semiconductor structure by atomic layer deposition with trimethylaluminum and microwave-generated atomic oxygen

T. Hanada,K. Yanachi,H. Ishizaki,Y. Otani,C. Yamamot,J. Yamanaka,T. Sato,T. Takamatsu,Y. Fukuda

International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP) ISSP 2013  2013年6月 

In situ formation of aluminum germanate interlayer for high-k/Ge metal-oxide-semiconductor structure by atomic layer deposition with trimethylaluminum and microwave-generated atomic oxygen

T. Hanada, K. Yanachi, H. Ishizaki, Y. Otani, C. Yamamot, J, Yamanaka, T, Sato, T, Takamatsu, Y. Fukuda

International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP) ISSP 2013  2013年6月 

In Situ Formation of Hafnium Silicate on Si Substrate by Atomic Layer Deposition with Tetrakis(dimethylamino)hafnium and Microwave-Generated Atomic Oxygen

Hiroki Ishizaki,Yohei Otani,Chiaya Yamamoto,Junji Yamanaka,Tetsuya Sato,Toshiyuki Takamatsu,Yukio Fukuda

The 8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8)  2013年6月 

In Situ Formation of Hafnium Silicate on Si Substrate by Atomic Layer Deposition with Tetrakis(dimethylamino)hafnium and Microwave-Generated Atomic Oxygen

Hiroki Ishizaki, Yohei Otani, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Tetsuya Sato, Toshiyuki Takamatsu, Yukio Fukuda

The 8th International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-8)  2013年6月 

選択エッチングとFE-SEM を活用したFe-Al-Ni合金中B2 析出物の形態観察 重要な業績

山本千綾,山中淳二,久野泰弘,土井稔

日本顕微鏡学会第69回学術講演会  2013年5月 

Fe基およびNi基合金における2段階相分離挙動

土井 稔,久野泰弘,波多 聰,中島英治,小隈龍一郎,松村 晶,山中淳二

日本金属学会2012年秋期(第151回)大会  2012年9月  日本金属学会

マイクロ波リモートプラズマを用いた原子堆積法によるGe基板上へのAl2O3薄膜の直接形成

花田毅広,梁池昂生,関渓太,滝澤蓮,石崎博基,王谷洋平,山本千綾,山中淳二,佐藤哲也,福田幸夫

2012年 秋季 第73回応用物理学会学術講演会  2012年9月 

Enhanced Carrier Activation by B and Sb/P Doping for Ge CMOSFET

Tetsuji UENO,Hidenori Miyoshi,Yoshihiro Hirota,Junji Yamanaka,Keisuke Arimoto,Kiyokazu Nakagawa,Yusuke Hoshi,Yasuhiro Shiraki,Takanobu Kaitsuka1

2012International Conference on Solid State Device and Materials  2012年9月 

Fe基およびNi基合金における2段階相分離挙動

土井 稔, 久野泰弘, 波多 聰, 中島英治, 小隈龍一郎, 松村 晶, 山中淳二

日本金属学会2012年秋期(第151回)大会  2012年9月  日本金属学会

Enhanced Carrier Activation by B and Sb/P Doping for Ge CMOSFET

Tetsuji UENO, Hidenori Miyoshi, Yoshihiro Hirota, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Kiyokazu Nakagawa, Yusuke Hoshi, Yasuhiro Shiraki, Takanobu Kaitsuka

2012International Conference on Solid State Device and Materials  2012年9月 

Microstructure Change of Si0.99C0.01 Thin Films Caused by Arsenic-Ion-, Boron-Ion-, and Silicon-Ion-Implantation and Successive Rapid Thermal Annealing 国際会議

Shigenori Inoue,その他8名

7th International Conference on Si Epitaxy and Heterostructures (ICSI-7)  2011年8月 

Microstructure Change of Si0.99C0.01 Thin Films Caused by Arsenic-Ion-, Boron-Ion-, and Silicon-Ion-Implantation and Successive Rapid Thermal Annealing 国際会議

Shigenori Inoue, その

7th International Conference on Si Epitaxy and Heterostructures (ICSI-7)  2011年8月 

Microstructure Change of B2 Precipitates in an Fe-Al-Ni Alloy Due to Two-Step Heat-Treatment 招待 国際会議 重要な業績

Junji Yamanaka,Chiaya Yamamoto,Yasuhiro Kuno,Minoru Doi

THERMEC’2011, International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS  2011年8月 

Microstructure Change of B2 Precipitates in an Fe-Al-Ni Alloy Due to Two-Step Heat-Treatment 招待 国際会議

Junji Yamanaka, Chiaya Yamamoto, Yasuhiro Kuno, Minoru Doi

THERMEC’2011, International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS  2011年8月 

Electron Mobility in Strained Si-nMOSFET Formed on Vicinal Si(110) Substrate

Hiroki NAKAZAWA,Keisuke ARIMOTO,Junji YAMANAKA,Kiyokazu NAKAGAWA,Noritaka USAMI,Kentarou SAWANO,Yasuhiro SHIRAKI

ICMAT 2011, International Conference on Materials for Advanced Technologies  2011年6月 

Epitaxial Growth and Microstructure Observation of a Flat Continuous Silicon-Germanium Thin Film on Porous Silicon 国際会議 重要な業績

Junji Yamanaka,Noritaka Usami,Sevak Amtablian,Alain Fave,Mustapha Lemiti,その他3名

ICMAT 2011, International Conference on Materials for Advanced Technologies  2011年6月 

Selective Heating Method for Poly-crystallization of Amorphous Si Using Hydrogen Microwave Plasma

Tetsuji ARAI,Hiroyuki NAKAMURA,Satoshi ARIIZUMI,Satoki ASHIZAWA,Toshiyuki TAKAMATSU,Keisuke ARIMOTO,Junji YAMANAKA,Tetsuya SATO,Kiyokazu NAKAGAWA,Kentarou SAWANO,Yasuhiro SHIRAKI

ICMAT 2011, International Conference on Materials for Advanced Technologies  2011年6月 

Epitaxial Growth and Microstructure Observation of a Flat Continuous Silicon-Germanium Thin Film on Porous Silicon 国際会議

Junji Yamanaka, Noritaka Usami, Sevak Amtablian, Alain Fave, Mustapha Lemiti, その他

ICMAT 2011, International Conference on Materials for Advanced Technologies  2011年6月 

Formation of Compressively Strained Si/Si1-xCx/Si(100) Heterostructure Using Gas-source MBE

Hiroshi FURUKAWA,Keisuke ARIMOTO,Junji YAMANAKA,Kiyokazu NAKAGAWA,Noritaka USAMI,Kentarou SAWANO,Yasuhiro SHIRAKI

ICMAT 2011, International Conference on Materials for Advanced Technologies  2011年6月 

ガスソースMBE 法による圧縮歪みSi/緩和Si1-XCX/Si ヘテロ構造の形成

古川洋志,有元圭介,山中淳二,中川清和,宇佐美徳隆

第58 回応用物理学関係連合講演会  2011年3月 

圧縮歪みSiGe/Si(110)ヘテロ構造の形成と素子応用

小幡智幸,有元圭介,山中淳二,中川清和,澤野憲太郎,その他1名

第58 回応用物理学関係連合講演会  2011年3月 

Si(100)基板上に形成したSiO2/歪みSi1-xCx 構造の界面準位密度評価

矢崎 祐耶,古川 洋志,井上 樹範,有元 圭介,山中 淳二,その他5名

第58 回応用物理学関係連合講演会  2011年3月 

Microstructure Change of As-ion, B-ion, and Si-ion implanted Si0.99C0.01 Thin Films by Thermal Annealing

Shigenori Inoue,Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,その他4名

5th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics  2010年1月 

THERMAL STABILITY OF NANO-SIZED NICKEL PARTICLES ON ALUMINA SYNTHESIZED BY SOLUTION-SPRAYING PLASMA METHOD 国際会議 重要な業績

J. Yamanaka,M. Kimura,C. Yamamoto,H. Yamashita,H. Uchida,その他1名

THERMEC’2009, International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS, Processing, Fabrication, Properties, Applications  2009年8月 

PHASE-SEPARATION OF B2 PRECIPITATES IN AN Fe-Ni-Al ALLOY

Y. Kuno,Y. Nakane,T. Kozakai,M. Doi,J. Yamanaka,その他2名

THERMEC’2009, International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS, Processing, Fabrication, Properties, Applications  2009年8月 

THERMAL STABILITY OF NANO-SIZED NICKEL PARTICLES ON ALUMINA SYNTHESIZED BY SOLUTION-SPRAYING PLASMA METHOD 国際会議

J. Yamanaka, M. Kimura, C. Yamamoto, H. Yamashita, H. Uchida, その

THERMEC’2009, International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS, Processing, Fabrication, Properties, Applications  2009年8月 

PHASE-SEPARATION OF B2 PRECIPITATES IN AN Fe-Ni-Al ALLOY

Y. Kuno, Y, Nakane,T. Kozakai, M. Doi, J. Yamanaka, その

THERMEC’2009, International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS, Processing, Fabrication, Properties, Applications  2009年8月 

As+イオン注入したSi-C混晶半導体薄膜のRTA処理による組織変化

上樹範,有元圭介,山中淳二,中川清和,澤野憲太郎,その他4名

2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会  2009年3月 

Microstructure change of an As+ ion-implanted Si0.99C0.01/Si by rapid thermal annealing 重要な業績

S. Inoue,K. Arimoto,J. Yamanaka,K. Nakagawa,K. Sawano,その他4名

4th International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics  2008年9月 

Strain relaxation mechanism in step-graded SiGe/Si(110) structure grown at 650 - 850 °C

M. Watanabe,K. Arimoto,J. Yamanaka,K. Nakagawa,N. Usami,その他3名

The 4th Asian Conference on Crystal Growth and Crystal Technology  2008年5月 

Selective and Rapid Heating Method for Polycrystallization of Amorphous Si Using Microwave Plasma Irradiation

S. Ashizawa,S. Ariizumi,M. Mitsui,K. Arimoto,J. Yamanaka,その他5名

4th International SiGe Technology and Device Meeting  2008年5月 

シリコン基板上に成長したシリコン・カーボン混晶薄膜の熱的安定性

井上樹範,佐藤元樹,伊藤章弘,有元圭介,山中淳二,他4名

応用物理学関係連合講演会  2008年3月 

非晶質Si薄膜のNi誘起結晶化のAr+イオン注入による促進効果

三井実,堀江忠司,山中淳二,有元圭介,澤野憲太郎,他2名

日本金属学会2007年秋期(第141回)大会  2007年9月  日本金属学会

Microstructure difference of Ni induced poly-crystallized SiGe by changing annealing atmosphere, and enhancement of Ni induced poly-crystallization of Si by Ar ion-implantation 国際会議 重要な業績

J. Yamanaka,T. Horie,M. Mitsui,K. Arimoto,K. Nakagawa,他5名

Program and Abstracts of Fifthth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-5)  2007年5月 

Microstructure difference of Ni induced poly-crystallized SiGe by changing annealing atmosphere, and enhancement of Ni induced poly-crystallization of Si by Ar ion-implantation 国際会議

J. Yamanaka, T. Horie, M. Mitsui, K. Arimoto, K. Nakagawa

Program and Abstracts of Fifthth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-5)  2007年5月 

金属誘起固相成長法における雰囲気の影響

堀江忠司,三井実,有元圭介,山中淳二,中川清和,澤野憲太郎,白木靖寛,森谷智一,土井稔

2007年春季 第54回応用物理学関係連合講演会  2007年3月 

金属誘起固相成長法により形成された多結晶Si薄膜のTEM観察

堀江忠司,三井実,有元圭介,山中淳二,中川清和

日本セラミックス協会第19回秋季シンポジウム  2006年9月 

SiGe歪み細線構造の形成

清水香奈,有元圭介,山中淳二,中川清和,宇佐美徳隆,澤野憲太郎,白木靖寛

2006(平成18)年秋季第67回応用物理学会学術講演会  2006年8月 

イオン注入を利用して作製した歪緩和SiGe/Si中の転位の分布

山中淳二,鈴木久美子,澤野憲太郎,福本敦之,中川清和,その他1名

日本金属学会2006年春季(第138回)講演会  2006年3月 

Electron Microscopy Observations of an Amorphous Layer Formed by Femtosecond Laser Irradiation of Silicon 国際会議 重要な業績

Junji Yamanaka,Travis Crawford,Gianluigi Botton,Harold Haugen

Eighth International Conference on Laser Ablation (COLA 2005)  2005年9月 

Electron Microscopy Observations of an Amorphous Layer Formed by Femtosecond Laser Irradiation of Silicon 国際会議

Junji Yamanaka, Travis Crawford, Gianluigi Botton, Harold Haugen

Eighth International Conference on Laser Ablation (COLA 2005)  2005年9月 

Strain Relaxation Mechanism of a SiGe Thin Film Grown on an Ion-Implanted Si Substrate 重要な業績

Junji Yamanaka,Kentaro Sawano,Kumiko Suzuki,Kiyokazu Nakagawa,Yusuke Ozawa,その他2名

Fourth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-4)  2005年5月 

Determination of Lattice Parameters of Strained-Si/SiGe Heterostructures Grown on Si(110) Substrates 国際会議

Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,Yasuhiro Shiraki,その他2名

Fourth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-4)  2005年5月 

Transport Properties of SPC-Poly SiGe Crystallized at 700C and GSMBE-Poly SiGe Grown at 600C

Minoru Mitsui,Keisuke Arimoto,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,その他2名

Fourth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-4)  2005年5月 

Determination of Lattice Parameters of Strained-Si/SiGe Heterostructures Grown on Si(110) Substrates 国際会議

Keisuke Arimoto, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa, Kentarou Sawano, Yasuhiro Shiraki, その他

Fourth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-4)  2005年5月 

Si(110)基板上のSiGe 薄膜の結晶構造解析（2）

有元圭介,山中淳二,中川清和,澤野憲太郎,白木靖寛,その他2名

2005年(平成17年)春季第52回応用物理学関係連合講演会  2005年3月 

Cuイオンを注入したLiNbO3の断面TEM観察

三井直人,山中淳二,居島薫,齊藤幸典,北原明治,他1名

2005年(平成17年)春季第52回応用物理学関係連合講演会  2005年3月 

イオン注入法を利用した歪緩和SiGe薄膜の作製とそのTEM観察

鈴木久美子,山中淳二,中川清和,澤野憲太郎,小澤優介,その他3名

日本金属学会2004年秋季(第135回)講演会  2004年9月 

OBSERVATION OF DISLOCATIONS IN STRAIN-RELAXED SILICON-GERMANIUM THIN FILMS WITH FLAT SURFACES GROWN ON ION-IMPLANTED SILICON SUBSTRATES 国際会議

J. Yamanaka,K. Sawano,K. Suzuki,Y. Ozawa,K. Nakagawa,S. Koh,Y. Shiraki,T. Hattori

The European Materials Society 2004 Spring Meeting  2004年5月 

High-Quality Thin SiGe Virtual Substrates Formed on Ion-Implanted Si Substrates 国際会議

K. Sawano,J. Yamanaka,Y. Ozawa,K. Suzuki,K. Arimoto,S. Koh,K. Nakagawa,T. Hattori,Y. Shiraki

Second International SiGe Technology and Device Meeting  2004年5月 

Changes in Elastic Deformation of Strained Si by Micro-Fabrication 国際会議

Keisuke Arimoto,Daisuke Furukawa,Junji Yamanaka,Kiyokazu Nakagawa,Kentarou Sawano,Shinji Koh,Yasuhiro Shiraki,Noritaka Usami

Second International SiGe Technology and Device Meeting  2004年5月 

OBSERVATION OF DISLOCATIONS IN STRAIN-RELAXED SILICON-GERMANIUM THIN FILMS WITH FLAT SURFACES GROWN ON ION-IMPLANTED SILICON SUBSTRATES 国際会議

J. Yamanaka, K. Sawano, K. Suzuki, Y. Ozawa, K. Nakagawa, S. Koh, Y. Shiraki, T. Hattori

The European Materials Society 2004 Spring Meeting  2004年5月 

Changes in Elastic Deformation of Strained Si by Micro-Fabrication 国際会議

Keisuke Arimoto, Daisuke Furukawa, Junji Yamanaka, Kiyokazu Nakagawa, Kentarou Sawano, Shinji Koh, Yasuhiro Shiraki, Noritaka Usami

Second International SiGe Technology and Device Meeting  2004年5月 

High-Quality Thin SiGe Virtual Substrates Formed on Ion-Implanted Si Substrates 国際会議

K. Sawano, J, Yamanaka, Y. Ozawa, K. Suzuki, K. Arimoto, S. Koh, K, Nakagawa, T. Hattori, Y. Shiraki

Second International SiGe Technology and Device Meeting  2004年5月 

制御して転位を導入し歪緩和したSiGe/SiのTEM観察

山中淳二,中川清和,鈴木久美子,澤野憲太郎,黄晋二,その他3名

日本金属学会2004年春季(第134回)講演会  2004年4月 

フェムト秒パルスレーザ照射したSiおよびSi関連材料の微細組織

山中淳二,Travis Crawford,Andrzej Borowie,Martin Couillard,Gianluigi Botton,その他1名

日本金属学会2004年春季(第134回)講演会  2004年3月 

小澤優介 澤野憲太郎 山中淳二 宇佐美徳隆 鈴木久美子 その他4名

イオン注入法によるSiGe緩和バッファー層の歪みゆらぎの低減

応用物理学会2004年春季講演会  2004年3月 

多結晶Si1-xGex 薄膜の形成と電気伝導特性

三井実,加藤敦,有元圭介,山中淳二,中川清和,その他3名

応用物理学会2004年春季講演会  2004年3月 

基板へのイオン注入と熱処理により歪緩和した SiGe/Si の TEM 観察

山中淳二,中川清和,鈴木久美子,澤野憲太郎,黄晋二,その他4名

日本金属学会第133回大会(日本金属学会2003年秋季講演会)  2003年10月 

イオン注入法による超平坦な薄膜SiGe歪み緩和バッファー層の作製

小澤優介,澤野憲太郎,廣瀬佳久,黄晋二,山中淳二,その他3名

第64回応用物理学会学術講演会  2003年8月 

イオン注入したSi基板とその上に育成したSiGe薄膜の構造

山中淳二,中川清和,澤野憲太郎,黄晋二,白木靖寛,その他2名

日本金属学会第132回大会  2003年3月 

Observation of Cu and Fe after Irradiation by Femtosecond Laser Pulses, 14TH Canadian materials Science Conference

Junji YAMANAKA,Qiang LIU,George C. WEATHERLY,Harold K. HAUGEN

14TH Canadian materials Science Conference  2002年8月 

Observation of Cu and Fe after Irradiation by Femtosecond Laser Pulses, 14TH Canadian materials Science Conference

Junji YAMANAKA, Qiang LIU, George C. WEATHERLY, Harold, K. HAUGEN

14TH Canadian materials Science Conference  2002年8月 

Single- and Multi-Pulse Femtosecond Laser Irradiation of Iron, Copper, and Aluminum 国際会議

Qiang LIU,Junji YAMANAKA,Harold K. HAUGEN,George C. WEATHERLY

SPIE Regional Meeting on Optoelectronics, Photonics, and Imaging  2002年5月 

Single- and Multi-Pulse Femtosecond Laser Irradiation of Iron, Copper, and Aluminum 国際会議

Qiang LIU, Junji YAMANAKA,Harold, K. HAUGEN, George C. WEATHERLY

SPIE Regional Meeting on Optoelectronics, Photonics, and Imaging  2002年5月 

TEM OBSERVATION OF SURFACE GRAPHITIZATION AND INTERIOR MICROSTRUCTURE CHANGE ON FURAN-RESIN-DERIVED CARBON 国際会議

Junji Yamanaka,Eiichi Yasuda,George C. Weatherly,Yasuhiro Tanabe,

MRS 2002 Spring Meeting  2002年4月 

TEM OBSERVATION OF SURFACE GRAPHITIZATION AND INTERIOR MICROSTRUCTURE CHANGE ON FURAN-RESIN-DERIVED CARBON 国際会議

Junji Yamanaka, Eiichi Yasuda, George C. Weatherly, Yasuhiro Tanabe

MRS 2002 Spring Meeting  2002年4月 

Characteristics of Microstructures of Ni-Au and Pd-Au Alloy Films Prepared by an Evaporation Method 国際会議

Junji YAMANAKA,Yoshio NAKAMURA,Osamu NITTONO

8th International Conference on Rapidly Quenched and Metastable Materials  1993年8月 

Characteristics of Microstructures of Ni-Au and Pd-Au Alloy Films Prepared by an Evaporation Method 国際会議

Junji YAMANAKA, Yoshio NAKAMURA, Osamu NITTONO

8th International Conference on Rapidly Quenched and Metastable Materials  1993年8月 

2016年度

記述済以外の発表総数：17  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：17

2015年度

記述済以外の発表総数：14  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：14

2014年度

記述済以外の発表総数：11  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：11

2013年度

記述済以外の発表総数：15  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：15

2012年度

記述済以外の発表総数：11  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：11

2011年度

記述済以外の発表総数：13  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：13

2010年度

記述済以外の発表総数：5  本人が第一発表者以外の数：5

2009年度

記述済以外の発表総数：6  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：6

2008年度

記述済以外の発表総数：9  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：9

2007年度

記述済以外の発表総数：16  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：16

2006年度

記述済以外の発表総数：9  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：9

2005年度

記述済以外の発表総数：5  本人が第一発表者の数：1  本人が第一発表者以外の数：4

2004年度

記述済以外の発表総数：5  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：5

2003年度

記述済以外の発表総数：2  本人が第一発表者の数：0  本人が第一発表者以外の数：2

2002年度

記述済以外の発表総数：1  本人が第一発表者の数：1  本人が第一発表者以外の数：0

プラズマ合成したニッケル触媒の微細構造観察

山梨大学クリーンエネルギー研究センター

2007年04月01日 - 2008年03月31日  代表

プラズマ合成したニッケル触媒の微細構造観察

山梨大学クリーンエネルギー研究センター

2006年04月01日 - 2007年03月31日  代表

熱間等方加圧法を用いて作製したガラス状炭素の微細構造

東京工業大学応用セラミックス研究所

2005年05月 - 2006年03月  代表

プラズマ合成したニッケル触媒の微細構造観察

山梨大学クリーンエネルギー研究センター

2005年04月 - 2006年03月  代表

クラスター制御によるカーボンの合成とその構造評価

東京工業大学応用セラミックス研究所

2004年05月 - 2005年03月31日  分担

クラスター制御によるカーボンの合成とその構造評価

東京工業大学応用セラミックス研究所

2003年05月 - 2004年03月  分担

HIP成型したガラス状カーボンのTEM観察

東京工業大学応用セラミックス研究所

2002年05月 - 2003年03月  代表

フラン樹脂から合成した炭素材表面層の構造

東京工業大学応用セラミックス研究所

2001年05月 - 2002年03月  代表

固体分析科学 重要な業績

2022年度

機器分析特論IＢ 重要な業績

2022年度

機器分析特別講義ＩＡ 重要な業績

2022年度

機器分析特別講義ＩＢ 重要な業績

2022年度

機器分析特論IＡ 重要な業績

2022年度

入門物理学 重要な業績

2021年度

機器分析特別講義ＩＢ 重要な業績

2021年度

機器分析特別講義ＩＡ 重要な業績

2021年度

機器分析特論IＢ 重要な業績

2021年度

機器分析特論IＡ 重要な業績

2021年度

応用化学実験IV

2021年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科教育委員が全体をとりまとめつつ、各教員各研究室で指導する授業。研究室では1名の学生を指導した。

ものづくり発展ゼミII

2021年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、２人を指導した。

応用工学実験II

2021年度  科目区分：専門教育（学部）

研究室に配属された2名の3年生への、実験指導を行った。

ものづくり基礎ゼミ

2021年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員が指導する部分と、各教員が指導する部分がある。各教員指導部分について、３名の指導を行った。

固体分析科学 重要な業績

2021年度

初等力学 重要な業績

2021年度

固体材料科学特論 重要な業績

2021年度

固体構造化学特論 重要な業績

2021年度

応用工学実験I 重要な業績

2021年度  科目区分：専門教育（学部）

ものづくり発展ゼミI

2021年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、２人を指導した。

応用化学基礎ゼミ

2021年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、３人を指導した。

ものづくり発展ゼミII

2020年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、２人を指導した。

応用化学実験IV

2020年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科教育委員が全体をとりまとめつつ、各教員各研究室で指導する授業。研究室では1名の学生を指導した。

応用工学実験II

2020年度  科目区分：専門教育（学部）

研究室に配属された2名の3年生への、実験指導を行った。

ものづくり基礎ゼミ

2020年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員が指導する部分と、各教員が指導する部分がある。各教員指導部分について、３名の指導を行った。

ものづくり発展ゼミII

2020年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、２人を指導した。

ものづくり発展ゼミI

2020年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、２人を指導した。

応用工学実験I 重要な業績

2020年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学基礎ゼミ

2020年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、３人を指導した。

応用化学基礎ゼミ

2019年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、３人を指導した。

応用化学実験IV

2019年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科教育委員が全体をとりまとめつつ、各教員各研究室で指導する授業。研究室では1名の学生を指導した。

応用工学実験II

2019年度  科目区分：専門教育（学部）

ものづくり基礎ゼミ

2019年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員が指導する部分と、各教員が指導する部分がある。各教員指導部分について、３名の指導を行った。

ものづくり発展ゼミII

2019年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、２人を指導した。

応用化学実験IV

2019年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科教育委員が全体をとりまとめつつ、各教員各研究室で指導する授業。研究室では1名の学生を指導した。

ものづくり基礎ゼミ

2019年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員が指導する部分と、各教員が指導する部分がある。各教員指導部分について、３名の指導を行った。

ものづくり発展ゼミI

2019年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、２人を指導した。

応用工学実験I 重要な業績

2019年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学基礎ゼミ

2018年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員での教育部分と各教員による教育部分のある授業。各教員による教育部分について、2人を指導した。

応用化学実験IV

2018年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科教育委員が全体をとりまとめつつ、各教員各研究室で指導する授業。研究室では1名の学生を指導した。

応用工学実験II

2018年度  科目区分：専門教育（学部）

ものづくり基礎ゼミ

2018年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学科関係全教員が指導する部分と、各教員が指導する部分がある。各教員指導部分について、2名の指導を行った。

応用工学実験I 重要な業績

2018年度  科目区分：専門教育（学部）

応用化学基礎ゼミ

2017年度  科目区分：専門教育（学部）

ものづくり発展ゼミII

2017年度  科目区分：専門教育（学部）

ものづくり基礎ゼミ

2017年度  科目区分：専門教育（学部）

応用工学実験II

2017年度  科目区分：専門教育（学部）

ものづくり発展ゼミI

2017年度

ものづくり発展ゼミII

2016年度  科目区分：専門教育（学部）

ワインと宝石 重要な業績

2011年度  科目区分：共通教育（学部）

基礎化学 重要な業績

2011年度  科目区分：専門教育（学部）

電子応用実験(E) 重要な業績

2011年度  科目区分：専門教育（学部）

物理学実験(S) 重要な業績

2011年度  科目区分：専門教育（学部）

クリスタルサイエンス 重要な業績

2011年度  科目区分：共通教育（学部）

基礎化学 重要な業績

2010年度  科目区分：専門教育（学部）

クリスタルサイエンス 重要な業績

2010年度  科目区分：共通教育（学部）

ワインと宝石 重要な業績

2010年度  科目区分：共通教育（学部）

電子応用実験(S) 重要な業績

2010年度  科目区分：専門教育（学部）

電子応用実験(E) 重要な業績

2010年度  科目区分：専門教育（学部）

ワインと宝石 重要な業績

2008年度  科目区分：共通教育（学部）

基礎化学 重要な業績

2008年度  科目区分：専門教育（学部）

結晶材料工学特論 重要な業績

2008年度  科目区分：修士（大学院）

電子応用実験(S) 重要な業績

2008年度  科目区分：専門教育（学部）

機能性材料開発特論 重要な業績

2008年度  科目区分：修士（大学院）

クリスタルサイエンス 重要な業績

2008年度  科目区分：共通教育（学部）

固体材料科学特論 重要な業績

2008年度  科目区分：博士（大学院）

電子応用実験(E) 重要な業績

2008年度  科目区分：専門教育（学部）

2021年度

種別：修士（専攻科Bコース）学位論文指導

指導人数 ：7人  （内　留学生）：0人

卒業／修了／学位取得人数 ：4人  （内　留学生）：0人

担当教員数：3人

2020年度

種別：学部（専攻科Aコース）卒業論文指導

指導人数 ：5人 

卒業／修了／学位取得人数 ：5人 

担当教員数：3人

2020年度

種別：修士（専攻科Bコース）学位論文指導

指導人数 ：6人 

卒業／修了／学位取得人数 ：6人 

担当教員数：3人

2019年度

種別：修士（専攻科Bコース）学位論文指導

指導人数 ：4人 

卒業／修了／学位取得人数 ：4人 

担当教員数：3人

2018年度

種別：修士（専攻科Bコース）学位論文指導

指導人数 ：2人 

卒業／修了／学位取得人数 ：2人 

担当教員数：3人

2018年度

種別：学部（専攻科Aコース）卒業論文指導

指導人数 ：5人 

卒業／修了／学位取得人数 ：5人 

担当教員数：3人

2018年度

種別：博士学位論文指導

指導人数 ：2人 

卒業／修了／学位取得人数 ：2人 

担当教員数：3人

2017年度

種別：学部（専攻科Aコース）卒業論文指導

指導人数 ：1人 

2017年度

種別：修士（専攻科Bコース）学位論文指導

指導人数 ：1人 

日本顕微鏡学会関東支部幹事会　幹事

日本顕微鏡学会関東支部  2007年4月 - 2009年3月

日本顕微鏡学会関東支部評議会 評議員

日本顕微鏡学会関東支部  2007年4月 - 2009年3月

日本顕微鏡学会関東支部幹事会 幹事

日本顕微鏡学会関東支部  2007年4月 - 2009年3月

富士吉田商工会議所創造技術支援プロジェクト技術研究会第４分科会　 第４分科会専門委員 2006/04/01～

富士吉田商工会議所  2007年4月 - 2008年3月

平成19年度地域新生コンソーシアム研究開発事業にかかわる委員会　委員

富士吉田商工会議所  2007年4月 - 2008年3月

平成19年度地域新生コンソーシアム研究開発事業にかかわる委員会 委員

富士吉田商工会議所  2007年4月 - 2008年3月

富士吉田商工会議所創造技術支援プロジェクト技術研究会第４分科会 第４分科会専門委員 2006/04/01～

富士吉田商工会議所  2007年4月 - 2008年3月

日本セラミックス協会第23回関東支部研究会　大会実行委員

日本セラミックス協会関東支部  2007年4月 - 2007年8月

日本セラミックス協会第23回関東支部研究会 大会実行委員

日本セラミックス協会関東支部  2007年4月 - 2007年8月

日本金属学会会報編集委員会　委員，第5分科世話人

日本金属学会  2007年3月 - 2009年3月

日本金属学会会報編集委員会 委員，第5分科世話人

日本金属学会  2007年3月 - 2009年3月

日本セラミックス協会第19回秋季シンポジウム現地実行委員会　現地実行委員

2006年5月 - 2006年9月

日本セラミックス協会第19回秋季シンポジウム現地実行委員会 現地実行委員

2006年5月 - 2006年9月

富士吉田商工会議所創造技術支援プロジェクト技術研究会第４分科会　第４分科会専門委員

富士吉田商工会議所  2006年4月 - 2007年3月

富士吉田商工会議所創造技術支援プロジェクト技術研究会第４分科会 第４分科会専門委員

富士吉田商工会議所  2006年4月 - 2007年3月

Microscopy Society of America

応用物理学会

日本金属学会

日本顕微鏡学会

大学連携研究設備ネットワーク   委員代理  

2020年4月 - 2021年3月   

大学連携研究設備ネットワーク   委員代理  

2020年4月 - 2021年3月   

国立大学法人機器・分析センター協議会   会員  

2020年4月 - 2021年3月   

国立大学法人機器・分析センター協議会   会員  

2019年4月 - 2020年3月   

大学連携研究設備ネットワーク   西関東・甲斐地域委員  

2019年4月 - 2020年3月   

大学連携研究設備ネットワーク   委員代理  

2019年4月 - 2020年3月   

大学連携研究設備ネットワーク   西関東・甲斐地域委員  

2019年4月 - 2020年3月   

大学連携研究設備ネットワーク   委員代理  

2019年4月 - 2020年3月   

国立大学法人機器・分析センター協議会   会員  

2019年4月 - 2020年3月   

大学連携研究設備ネットワーク   委員代理  

2018年4月 - 2019年4月   

大学連携研究設備ネットワーク   委員代理  

2018年4月 - 2019年4月   

国立大学法人機器・分析センター協議会   会員  

2018年4月 - 2019年3月   

大学連携研究設備ネットワーク   西関東・甲斐地域委員  

2018年4月 - 2019年3月   

大学連携研究設備ネットワーク   西関東・甲斐地域委員  

2018年4月 - 2019年3月   

国立大学法人機器・分析センター協議会   会員  

2018年4月 - 2019年3月   

大学連携研究設備ネットワーク   西関東・甲斐地域委員  

2017年4月 - 現在   

大学連携研究設備ネットワーク   委員代理  

2017年4月 - 現在   

大学連携研究設備ネットワーク   西関東・甲斐地域委員  

2017年4月   

大学連携研究設備ネットワーク   委員代理  

2017年4月   

大学連携研究設備ネットワーク   装置管理者  

2010年4月 - 2018年3月   

大学連携研究設備ネットワーク   装置管理者  

2010年4月 - 2018年3月   

日本顕微鏡学会   関東支部評議員  

2009年4月 - 2011年4月   

日本顕微鏡学会   関東支部幹事  

2009年4月 - 2011年3月   

日本顕微鏡学会   関東支部幹事  

2007年4月 - 2009年3月   

日本顕微鏡学会   関東支部評議員  

2007年4月 - 2009年3月   

日本セラミックス協会第23回関東支部研究会発表会   大会実行委員  

2007年4月 - 2007年8月   

日本金属学会   会報編集委員会委員，第5分科世話人  

2007年3月 - 2009年3月   

日本セラミックス協会   第19回秋季シンポジウム現地実行委員会委員  

2006年4月 - 2006年9月   

日本セラミックス協会   第15回関東支部研究発表会，大会実行委員  

1999年7月   

日本セラミックス協会   第37回セラミックス基礎科学討論会，大会実行委員  

1999年1月