2024/05/01 更新

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サトウ テツヤ
佐藤 哲也
Sato Tetsuya
所属
大学院 総合研究部 工学域 物質科学系(先端材料理工学) 准教授
職名
准教授
連絡先
メールアドレス

経歴

  • 新潟大学   理学部、新潟大学     非常勤講師

    2022年4月 - 2023年3月

  • 新潟大学   理学部   非常勤講師

    2018年4月 - 2019年3月

  • 山梨大学   大学院医学工学総合研究部   准教授

    2012年4月 - 現在

  • 山梨県富士工業技術センター   客員研究員

    2007年4月 - 2008年3月

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    備考:平成19年4月1日~平成20年3月31日

  • 山梨大学   クリーンエネルギー研究センター   助教授

    2001年7月 - 2012年3月

  • 山梨大学   工学部   助手

    1993年4月 - 2001年6月

  • 日本学術振興会    特別研究員

    1991年4月 - 1993年3月

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学歴

  • 東京農工大学   工学研究科   電子情報工学専攻

    1990年4月 - 1993年3月

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    国名: 日本国

    課程: 博士後期

  • 東京農工大学   工学研究科   応用物理学専攻

    1988年4月 - 1990年3月

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    国名: 日本国

    課程: 修士

  • 東京農工大学   工学部   応用物理学科

    1984年4月 - 1988年3月

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    国名: 日本国

学位

  • 博士(工学) ( 1993年3月   東京農工大学 )

教育・研究活動状況

  • 水素原子の波の性質や電子のエネルギーを利用した化学反応を利用して、非晶質カーボンやF含有DLC、金属酸化物など、低温下で薄膜形成/エッチングする技術を開発しました。半導体製造工程における課題解決のために、物理化学的なアプローチを中心に基礎研究を行っています。

研究分野

  • エネルギー / プラズマ応用科学  / 半導体

  • ナノテク・材料 / 複合材料、界面  / 複合材料・表界面工学

  • ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性  / 薄膜・表面界面物性

  • ナノテク・材料 / 基礎物理化学  / 低温化学

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 反応工学、プロセスシステム工学  / 反応工学・プロセスシステム

  • 自然科学一般 / 半導体、光物性、原子物理  / 原子・分子・量子エレクトロニクス

  • ナノテク・材料 / グリーンサステイナブルケミストリー、環境化学  / グリーン・環境化学

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研究キーワード

  • 低温化学

  • 薄膜

  • 原子・分子

  • 二次イオン質量分析

  • プラズマ化学

  • トンネル反応

研究テーマ

  • 温室効果ガスの低温分解・固定化技術の開発と表面処理応用

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    2007年04月01日 - 継続中

  • 表面の電子励起による薄膜の低温合成に関する 研究

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    2003年04月01日 - 継続中

  • 表面化学反応制御と薄膜半導体製造に関する研究

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    1999年09月01日 - 継続中

  • 低エネルギーイオンとファンデルワールス薄膜との衝突反応に関する研究

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    1994年04月01日 - 継続中

  • 水素原子の関与する極低温トンネル反応の解明と星間物質の化学進化に関する研究

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    1993年04月01日 - 継続中

共同・受託研究希望テーマ

  • ドライプロセスによる薄膜合成・低温エッチング、表面改質、温室効果ガスの分解・固定化

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    産学連携協力可能形態:技術相談, 受託研究, 共同研究 共同・受託研究希望種別:産学連携等、民間を含む他機関等との共同研究を希望

    低温下での材料合成、表面改質にご関心がある方は、ご相談ください

共同研究・競争的資金等の研究

  • フルオロカーボン凝縮層の電子励起によるPTFE低温形成と表面処理応用  重要な業績

    研究課題/領域番号:23K04394  2023年4月 - 2026年3月

    日本学術振興会  国立大学法人 山梨大学  科学研究費助成事業(学術研究助成基金助成金)  基盤研究(C)(一般)

    佐藤 哲也

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    担当区分:研究代表者  資金種別:競争的資金  資金の種類:科学研究費補助金

    地球温室効果ガスの削減対象であるフルオロカーボンを有効利用し、凝縮(分子氷)する低温において、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)薄膜の新規合成プロセス技術を開発する。これまで得られたフッ素含有非晶質カーボン(a-C:F)の組成/構造制御の知見を基に無機・有機基材表面に優れた密着性と熱的安定性を実現し、繊維、有機フィルム、金属、絶縁体等、種々の素材表面を極薄膜で被覆するための低温プロセス技術を開発する。これを、繊維・和紙の超撥水性、射出成型用金型表面の離型性、半導体製造工程におけるエッチング耐久性、等の改善に応用し、新規表面改質法の有効性を検証する。

  • フルオロカーボン凝縮層のプラズマ励起によるフッ素樹脂薄膜の低温合成

    2017年4月 - 2020年3月

    独立行政法人日本学術振興会  基盤研究(C)(一般)  科学研究費補助金

    佐藤 哲也

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    担当区分:研究代表者  資金の種類:科学研究費補助金

    フッ素含有温室効果ガスを用いて、室温以下の低温下でフッ素樹脂薄膜に変換(リサイクル)するプロセス技術を開発する。

  • 凝縮ガスのプラズマ励起によるナノ構造制御カーボン系薄膜の低温合成に関する研究

    2014年4月 - 2017年3月

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    担当区分:研究代表者  資金の種類:科学研究費補助金

  • 極低温トンネル反応と低速電子線誘起反応を利用した炭素薄膜の合成

    2009年4月 - 2012年3月

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    担当区分:研究代表者  資金の種類:科学研究費補助金

  • シリコン半導体薄膜およびナノ構造材料の極低温合成に関する基礎的研究

    2006年4月 - 2009年3月

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    担当区分:研究代表者  資金の種類:科学研究費補助金

  • 低速イオンとファンデルワールス薄膜固体の衝突反応に関する基礎的研究

    1997年7月 - 1999年3月

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    担当区分:研究代表者  資金の種類:科学研究費補助金

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論文

  • Adsorption Characteristics of Vanadium Ion on Wool, and Photothermal Conversion and Heat Transfer of Vanadium-Treated Wool Depending on Humidity 査読

    Yoshinobu Uegaki, Kohei Miyazawa, Tetsuya Sato, Yuichiro Shiozawa, Hidekazu Yasunaga

    Journal of Fiber Science and Technology   78 ( 3 )   48 - 58   2022年3月( ISSN:2189-7654  eISSN:2189-7654 )

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:一般社団法人 繊維学会  

    DOI: 10.2115/fiberst.2022-0006

  • バナジウム媒染法の改質セルロースへの適用 査読

    上垣 良信,佐藤 哲也,長谷川 達也, 安永 秀計

    日本繊維製品消費科学会   58 ( 5 )   412 - 419   2017年5月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Selective Heating of Transition Metal Usings Hydrogen Plasma and Its Application to Formation of Nickel Silicide Electrodes for Silicon Ultralarge-Scale Integration Devices 査読

    Tetsuji Arai,他10名

    Journal of Materials Science and Chemical Engineering   4   29 - 33   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4236/msce.2016.41006

  • Role of low-energy ion irradiation in the formation of an aluminum germanate layer on a germanium substrate by radical-enhanced atomic layer deposition 査読 重要な業績

    Yukio Fukuda, Daichi Yamada, Tomoya Yokohira, Kosei Yanachi, Chiaya Yamamoto, Byeonghak Yoo, Junji Yamanaka, Tetsuya Sato, Toshiki Takamatsu, and Hiroshi Okamoto

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   34 ( 2 )   2015年9月( ISSN:0734-2101  eISSN:1520-8559 )

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.4932039

    Web of Science

  • バナジウムを利用したウールの緑色染色 査読 重要な業績

    上垣 良信,佐藤 哲也

    繊維製品消費科学   56 ( 5 )   73 - 78   2015年5月

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    記述言語:日本語  

  • 植物染料五倍子染色におけるバナジウム先媒染の最適条件 査読

    上垣 良信,渡辺 誠,佐藤 哲也,小泉 雅子,長谷川 達也

    日本繊維製品消費科学会   55 ( 4 )   270 - 275   2014年4月

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    記述言語:日本語  

  • Spontaneous formation of aluminum germanate on Ge(100) by atomic layer deposition with trimethylaluminum and microwave-generated atomic oxygen. 査読 重要な業績

    Yukio Fukuda, Hiroki Ishizaki, Yohei Otani, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Tetsuya Sato, Toshiyuki Takamatsu, Hiroshi Okamoto, and Hidehumi Narita

    APPLIED PHYSICS LETTERS   102 ( 13 )   132904-1 - 132904-4   2013年4月( ISSN:0003-6951  eISSN:1077-3118 )

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4801471

    Web of Science

  • 染色技術へのバナッジウムの利用 査読

    上垣良信,渡辺誠,歌田誠,佐藤哲也,外川雅子,長谷川達也

    繊維学会誌   69 ( 3 )   55 - 59   2013年3月

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    記述言語:日本語  

  • Effects of postdeposition annealing ambient on hysteresis in an Al2O3/GeO2 gate-dielectric stack on Ge 査読 重要な業績

    Yukio Fukuda,Yohei Otani,Tetsuya Sato,Hiroshi Toyota,Toshiro Ono

    J. App. Phys   110   26108   2011年6月

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    記述言語:英語  

  • Formation of Al2O3 Film on Si Substrate by Microwave Generated Remote Plasma Assisted Atomic Layer Deposition Technique 査読 重要な業績

    H. Ishizaki,M. Iiida,Y. Otani,Y. Fukuda,T. Sato,T. Takamatsu,T.Ono

    ECS Trans.   33 ( 6 )   227 - 233   2010年10月( ISSN:1938-5862 )

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    80%

    DOI: 10.1149/1.3487553

    Web of Science

  • メタン凝縮層からの炭素薄膜極低温合成 (DLC特集) 重要な業績

    佐藤哲也,伊東佑将,森田直樹,井草裕志,小林憲明,中川清和,佐藤昇司

    New Diamond   96 ( 1 )   29 - 32   2010年1月

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    記述言語:日本語  

  • Low-Temperature Formation of High-Quality GeO2 Interlayer for High-κ Gate Dielectrics by Electron-Cyclotron-Resonance Plasma Techniques. 査読 重要な業績

    Yukio Fukuda,Yuya Yazaki,Yohei Otani,Tetsuya Sato,Hiroshi Toyota,Toshiro Ono

    IEEE Trans. Electron Devices   57 ( 1 )   282 - 287   2010年1月

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    記述言語:英語  

  • Synthesis of Amorphous Germane by Tunneling Reactions of Hydrogen Atoms with van der Waals GeH4 Films at Cryogenic Temperatures 査読 重要な業績

    Norihito Sogoshi,Shoji Sato,Hideaki Takashima,Tetsuya Sato,Kenzo Hiraoka

    Jpn. J. of Appl. Phys.   48   115506-1 - 115506-6   2009年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.48.115506

  • Synthesis of Polysilanes by Tunneling Reactions of H Atoms with Solid Si2H6 at 10K 査読 重要な業績

    Norihito Sogoshi,Shoji Sato,Hideaki Takashima,Tetsuya Sato,Kenzo Hiraoka

    Chemistry Letters   38 ( 10 )   986 - 987   2009年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Microstructure difference of Ni induced poly-crystallized SiGe by changing the annealing atmosphere 査読 重要な業績

    Junji Yamanaka,Tadashi Horie,Minoru Mitsui,Keisuke Arimoto,Kiyokazu Nakagawa,Tetsuya Sato,Kentarou Sawano,Yasuhiro Shiraki,Tomokazu Moritani,Minoru Doi

    Thin Solid Films   517   232 - 234   2008年11月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Characterizations of Polycrystalline SiGe Films on SiO2 Grown by Gas-Source Molecular Beam Deposition 査読 重要な業績

    M. Mitsui,M. Tamoto ,K. Arimoto,J. Yamanaka,K. Nakagawa,T. Sato,N. Usami,K. Sawano,Y. Shiraki

    Thin Solid Films   517   254 - 256   2008年11月

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    記述言語:英語  

  • Effects of Electron-Cyclotron-Resonance Oxygen Plasma Irradiation on Properties of Insulator/Ge-Semiconductor Interfaces Prior to Germanium Nitride Formation 査読 重要な業績

    Yohei OTANI,Yukio FUKUDA,Tetsuya SATO,Kiyokazu NAKAGAWA,Hiroshi TOYOTA,Toshiro ONO

    Japanese Journal of Applied Physics   47   7553 - 7555   2008年9月

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    記述言語:英語  

  • Formation of microcrystalline Silicon and SiNx filmsby electron- beam-induced-chemical vapor deposition at ultra low temperature 査読 重要な業績

    T.Sato, M. Mitsui, J. Yamanak, K. Nakagawa, Y. oki, S. Shouji, C. Miyata

    Thin Solid films   508 ( 1-2 )   61 - 64   2006年6月( ISSN:0040-6090 )

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2005.07.333

    Web of Science

  • Synthesis of Microcrystalline Silicon Films by Low-Energy Electron- Beam- Induced Deposition at Cryogenic Temperature 査読 重要な業績

    T. Sato, K.Nakagawa, Y. Aoki, S.Sato

    Material Research Society Symposium Proc. 832, F10.19. (Boston)   832   F10.1   2004年12月

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    担当区分:筆頭著者, 責任著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • 8KにおけるAr、Kr、およびXe薄膜の400eV He+イオン衝撃による二次イオンのTOF解析 査読 重要な業績

    渡辺誠,江口大介,佐藤哲也,平岡賢三

    J. Mass Spectrom. Soc. Jpn.   50   350 - 352   2002年11月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Secondary ions produced by 400eV He+ ion impact on solid films composed of binary mixtures of Ar/Xe, Ar/N2, and Ar/O2 at 7K 査読

    K.Hiraoka,R.Hamamoto,K.Mori,M.Watanabe,T.Sato

    Int. J. Mass Spectrom   218   173 - 180   2002年11月

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    記述言語:英語  

  • Study on the tunneling reaction of H atoms with a solid thin film of C3H6 at 10K 査読 重要な業績

    K.Hiraoka,T.Sato,S.Sato,T.Takayama,T.Yokoyama,N.Sogoshi,S.Kitagawa

    J. Phys. Chem. B   106 ( 19 )   497s4 - 4978   2002年10月( ISSN:1520-6106 )

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/jp0137928

    Web of Science

  • Secondary ions produced by 400eV He+ ion impact on N2 and O2 thin films at 8 K 査読 重要な業績

    K.Hiraoka,T.Sato,M.Watanabe,K.Mori,M.Kimura

    J. Chem. Phys.   117   6252 - 6258   2002年10月

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    記述言語:英語  

  • Formation of formaldehyde by the tunneling reaction of H with solid CO at 10 K revisited 査読 重要な業績

    K.Hiraoka,T.Sato,S.Sato,N.Sogoshi,T.Yokoyama

    Astrophys. J.   577   265 - 270   2002年9月

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    記述言語:英語  

  • Time-of-flight studies of secondary ions produced by 400 eV He+ ion impact on Ar, Kr, and Xe thin films at 8 K 査読

    K.Hiraoka, M.Watanabe, D.Eguchi, S.Okazaki, T.Sato

    Rapid Commun. Mass Spectrom.   16   1016 - 1022   2002年5月

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    記述言語:英語  

  • 400eVのHe+イオンによる8Kの窒素膜および酸素膜からの二次イオン生成 査読

    渡辺誠,佐藤哲也,平岡賢三,森邦彦

    J. Mass Sopectrom. Soc. Jpn   50   72 - 74   2002年4月

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    記述言語:日本語  

  • Formation of Amorphous Silicon by the Low-Temperature Tunneling Reaction of H Atoms with Solid Thin Film of SiH4 at 10K (共著) 査読 重要な業績

    K.Hiraoka,他7人

    Physical Chemistry   105 ( 29 )   6950 - 6955   2001年9月

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    記述言語:英語  

  • Tunneling Reactions in Interstellar Ices 査読 重要な業績

    K.Hiraoka,T.Sato,T.Takayama

    Science   292 ( 4 )   869 - 870   2001年9月

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    記述言語:英語  

  • 星間物質の分析 招待 査読 重要な業績

    佐藤哲也

    ぶんせき   2   83 - 88   2001年2月

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    担当区分:筆頭著者, 最終著者, 責任著者   記述言語:日本語   掲載種別:(MISC)総説・解説(学術雑誌)  

  • Study of the Reactions of H and D Atoms with Solid C2H2, C2H4, and C2H6 at Cryogenic Temperatures 査読 重要な業績

    K.Hiraoka,T.Takayama,A.Euchi,H.Handa,T.Sato

    Astrophysical Journal   532   1029 - 1037   2000年5月

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    記述言語:英語  

  • Secondary Ions Produced by Low-energy Impact of He+ and Ne+ ions onvan der Waals Thin Films 査読 重要な業績

    T.Sato,A.Shimizu,K.Nakamura,and K.Hiraoka

    Rapid Communications in Mass Spectrometry   11   1139 - 1143   1997年7月

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    記述言語:英語  

  • Explosive Vaporization of a liquid Water Beam by Irradiation with a 10.6um Infrared Laser 査読 重要な業績

    Rapid Communication in Mass Spectrometry   11   474 - 478   1997年6月

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    記述言語:英語  

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書籍等出版物

講演・口頭発表等

  • NF3およびSF6凝縮層の電子励起によるSiNのクライオエッチング 重要な業績

    小澤一貴, 渡辺龍星, 山田知輝, 佐藤哲也

    2024年第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京都市大  

  • 極低温で合成した非晶質カーボン薄膜のNEXAFS解析 重要な業績

    北原広貴,秋山恒樹, 佐藤哲也、塩澤佑一朗

    2024年第71回応用物理学会春季学術講演会  2024年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京都市大   国名:日本国  

  • Ge基板上に極低温で堆積した薄膜の特性

    王谷 洋平 , 佐藤 哲也, 櫻庭 政夫, 室田 淳一

    東北大学 電気通信研究所 情報通信共同研究拠点令和4年度共同プロジェクト研究発表会  2024年2月  東北大学 電気通信研究所

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    開催年月日: 2024年2月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東北大学 電気通信研究所   国名:日本国  

    ALDにおける成膜温度やラジカル照射などAl2O3堆積におけるGe基板界面に及ぼす影響を、表面分析法や電気特性から論じた、

  • p型Ge基板上に低温堆積したAl2O3薄膜の電気特性 重要な業績

    横平 達哉、山田 大地、大川 敦輝、佐藤 哲也、王谷 洋平

    2023年第70回応用物理学会春季学術講演会  2023年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:上智大学  

  • フルオロカーボン凝縮層への低速電子線照射によるPTFE/a-C:F薄膜成長機構の解明 重要な業績

    秋山恒樹, 三谷隼弘, 佐藤哲也, 塩澤佑一朗, 上垣良信

    2023年第70回応用物理学会春季学術講演会  2023年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:上智大学  

  • p-Ge基板上に低温堆積した非晶質炭素膜のI-V特性

    佐瀬亮平、戸田俊太郎、佐藤哲也、王谷洋平

    令和4年度 応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会  2022年12月  応用物理学会 北陸・信越支部

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    開催年月日: 2022年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:金沢工業大学・オンライン(ハイブリッド)  

  • 大学の発達障害学生支援における具体的方策と連携の検討

    山本和美、小畑文也、佐藤哲也、古野素子、小牧舞

    日本キャリア・カウンセリング学会 第27回大会 ーカウンセリング再考ー  2022年11月  日本キャリア・カウンセリング学会 

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    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:日本語   会議種別:シンポジウム・ワークショップ パネル(公募)  

    開催地:AP市ヶ谷(オンライン)  

  • c-C4F8/Si(CH3)4混合凝縮層の電子照射による a-SiC:Fの低温合成

    戸田 俊太郎、佐藤 哲也

    2022年第69回応用物理学会春季学術講演会  2022年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2022年3月

    記述言語:日本語  

    開催地:Zoomオンライン  

  • c-C4F8凝縮層への低速電子照射により銅基板上に低温形成した a-C:Fの物性評価 重要な業績

    秋山 恒樹、佐藤 哲也

    2022年第69回応用物理学会春季学術講演会  2022年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2022年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:Zoomオンライン  

  • c-C4F8/Si(CH3)4混合凝縮層の電子照射による a-SiC:Fの低温合成

    戸田 俊太郎, 佐藤 哲也

    2022年第69回応用物理学会春季学術講演会  2022年3月  応用物理学会

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    記述言語:日本語  

    開催地:Zoomオンライン  

  • c-C4F8凝縮層への低速電子照射により銅基板上に低温形成した a-C:Fの物性評価

    秋山 恒樹, 佐藤 哲也

    2022年第69回応用物理学会春季学術講演会  2022年3月  応用物理学会

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:Zoomオンライン  

  • Fabrication and Characterization of Ge-based MIS structures 国際会議

    Yohei Otani, Daich Yamada, Hiroshi Okamoto, Toshiro Ono, Tetsuya Sato, Junji Yamanaka and Yukio Fukuda

    240th ECS Meeting  2021年10月  The Electrochemical Society

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭(招待・特別)  

    開催地:オンライン  

  • Fabrication and Characterization of Ge-based MIS structures 国際会議

    Yohei Otani, Daich Yamada, Hiroshi Okamoto, Toshiro Ono, Tetsuya Sato, Junji Yamanaka, Yukio Fukuda

    240th ECS Meeting  2021年10月  The Electrochemical Society

     詳細を見る

    記述言語:英語   会議種別:口頭(招待・特別)  

    開催地:オンライン  

  • Al(CH3)3凝縮層の酸素プラズマ照射によるAl2O3低温形成と物性評価 重要な業績

    大川 敦輝、山田 大地、王谷 洋平、佐藤 哲也

    第68回応用物理学会春季学術講演会  2021年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:オンライン  

    クライオ温度領域(70~190K)においてトリメチルアルミニウム(TMA)をSi基板上に真空蒸着し、希ガスと酸素混合ガスの放電により生起した電子や活性種(He,Ar*, Oラジカル)を照射することによりAl₂O₃薄膜を合成し、薄膜の物性を評価した。

  • Al(CH3)3凝縮層の酸素プラズマ照射によるAl2O3低温形成と物性評価

    大川 敦輝, 山田 大地, 王谷 洋平, 佐藤 哲也

    第68回応用物理学会春季学術講演会  2021年3月  応用物理学会

     詳細を見る

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:オンライン  

    クライオ温度領域(70~190K)においてトリメチルアルミニウム(TMA)をSi基板上に真空蒸着し、希ガスと酸素混合ガスの放電により生起した電子や活性種(He,Ar*, Oラジカル)を照射することによりAl₂O₃薄膜を合成し、薄膜の物性を評価した。

  • 低温プラズマを用いた a C:H 薄膜の欠陥抑 制 招待

    佐藤 哲也

    第34回新領域研究会  2020年10月  応用物理学会プラズマエレクトロのクス分科会

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    開催年月日: 2020年10月

    記述言語:日本語   会議種別:公開講演,セミナー,チュートリアル,講習,講義等  

    開催地:オンライン  

    半導体プロセスに用いられているプラズマでは、イオン流入やラジカルの表面反応により欠陥が生成する。プラズマプロセスにおける欠陥抑制は電子温度制御とともに長年の課題である。近年の計測やモデリング研究の進展に伴い生成機構の理解が進むとともに、欠陥の活用についても検討され始めている。本研究では、以下2点の問いを中心に欠陥生成に関する新生面を掘り下げる。

  • Synthesis of Super-hydrophobic PTFE Thin Films Using Electronic Excitation of c-C4F8 Condensed Gas 国際会議 重要な業績

    Toshihiro Mitani , Tetsuya Sato

    The 16th Pacific Polymer Conference  2019年12月 

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    開催年月日: 2019年12月

    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

  • Synthesis of Super-hydrophobic PTFE Thin Films Using Electronic Excitation of c-C4F8 Condensed Gas 国際会議

    Toshihiro Mitani, Tetsuya Sato

    The 16th Pacific Polymer Conference  2019年12月  Pacific Polymer Federation

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    記述言語:英語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:Singapore  

  • Al (CH ₃ )₃ 凝縮層の 低速電子および 酸素 ラジカル 照射 による Al ₂ O ₃薄膜の低温形成 重要な業績

    大川 敦輝, 山田 大地, 王 谷 洋平, 佐藤 哲也

    第80回応用物理学会秋季学術講演会  2019年9月  応用物理学会

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    開催年月日: 2019年9月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:北海道大学  

  • Al (CH ₃ )₃ 凝縮層の 低速電子および 酸素 ラジカル 照射 による Al ₂ O ₃薄膜の低温形成

    大川 敦輝, 山田 大地, 王 谷 洋平, 佐藤 哲也

    第80回応用物理学会秋季学術講演会  2019年9月  応用物理学会

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    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:北海道大学  

  • ぶどう色素増感型太陽電池の教材開発 重要な業績

    米山 瑠華,佐藤 哲也

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京工業大学・大岡山キャンパス  

  • NF 3凝縮 SiO SiO2基板への DC 放電生起 電子 照射 による による による シリコン酸化膜 のクライオ エッチング 重要な業績

    熊谷仁志、佐藤哲也

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京工業大学・大岡山キャンパス  

  • c-C4F8/SiF4混合凝縮層の電子励起によるa-C:Fの低温合成と物性評価 重要な業績

    三谷 隼弘,佐藤 哲也, 塩澤 佑一朗, 上垣 良信

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京工業大学・大岡山キャンパス  

  • c-C4F8/SiF4混合凝縮層の電子励起によるa-C:Fの低温合成と物性評価

    三谷 隼弘, 佐藤 哲也, 塩澤 佑一朗, 上垣 良信

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月  応用物理学会

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    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京工業大学・大岡山キャンパス  

  • ぶどう色素増感型太陽電池の教材開発

    米山 瑠華, 佐藤 哲也

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月  応用物理学会

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    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京工業大学・大岡山キャンパス  

  • NF 3凝縮 SiO SiO2基板への DC 放電生起 電子 照射 による による による シリコン酸化膜 のクライオ エッチング

    熊谷仁志, 佐藤哲也

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月  応用物理学会

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    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京工業大学・大岡山キャンパス  

  • 低速電子線誘起堆積法により低温合成したグラッシーカーボンのナノ構造制御とTEM観察 重要な業績

    赤池祐輝, 佐藤 哲也, 山本 千綾, 山中 淳二

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京工業大学・大岡山キャンパス  

  • 低速電子線誘起堆積法により低温合成したグラッシーカーボンのナノ構造制御とTEM観察

    赤池祐輝, 佐藤 哲也, 山本 千綾, 山中 淳二

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月  応用物理学会

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    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:東京工業大学・大岡山キャンパス  

  • c-C4F8凝縮層の電子励起による超撥水性樹状 a-C:F の形成 重要な業績

    三谷 隼弘,上垣 良信, 佐藤 哲也

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2018年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:早稲田大学・西早稲田キャンパス  

  • c-C4F8凝縮層の電子励起による超撥水性樹状 a-C:F の形成

    三谷 隼弘, 上垣 良信, 佐藤 哲也

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018年3月  応用物理学会

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:早稲田大学・西早稲田キャンパス  

  • p-Ge基板上にALD堆積したAl2O3への 酸素ラジカル照射の及ぼす影響

    王谷洋平,山田大地,白倉麻依,山本千綾,山中淳二,佐藤哲也,岡本浩,福田幸夫

    平成29年度 応用物理学会 北陸・信越支部 学術講演会  2017年12月  応用物理学会 北陸・信越支部

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    開催年月日: 2017年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:金沢歌劇座  

  • Formation of Al and Hf germanates as interlayers between high-k dielectrics and Ge substrates by radical-enhanced atomic layer deposition 国際会議 重要な業績

    Daichi Yamada, Yohei Otani, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka,Tetsuya Sato, Hiroshi Okamoto, and Yukio Fukuda

    EM-NANO2017 The 6th International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies  2017年6月  応用物理学会 北陸・信越支部

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    開催年月日: 2017年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:福井県福井市AOSSA  

  • バンデグラフを用いた静電気帯電の学習教材研究

    三谷 隼弘 佐藤 哲也

    第64回応用物理学会 春季学術講演会  2017年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2017年3月

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:パシフィコ横浜  

  • バンデグラフを用いた静電気帯電の学習教材研究

    三谷 隼弘, 佐藤 哲也

    第64回応用物理学会 春季学術講演会  2017年3月  応用物理学会

     詳細を見る

    記述言語:日本語   会議種別:ポスター発表  

    開催地:パシフィコ横浜  

  • フッ素化非晶質炭素薄膜の極低温合成および物性評価 重要な業績

    齋藤 登之,年森 隆明,小林 直樹,佐藤 哲也

    第76回応用物理学会秋季学術講演会  2016年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2016年3月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:東工大、大岡山  

  • プラズマ支援原子層堆積法によるa-TiNX薄膜の極低温合成(Ⅱ) 重要な業績

    柳 炳學,関 渓太,佐藤 哲也

    第63回応用物理学会春季学術講演会  2016年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2016年3月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:東工大、大岡山  

  • 極低温合成a-C:F膜のマイクロスクラッチ試験による密着性評価 重要な業績

    曽我 遥華,山井 孝太,森川 恭兵,佐藤 哲也,中川 清和

    第62回応用物理学会春季学術講演会  2015年3月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年3月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:東海大学湘南キャンパス  

  • PFCガスの極低温凝縮層への低速電子線照射により合成したa-C:F薄膜の物性評価 重要な業績

    和光賢司,曽我遥華,森川恭兵,佐藤哲也,中川清和

    第 61 回応用物理学会春季学術講演会  2014年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2014年3月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:青山学院大学相模原キャンパス  

  • テトラメチルシラン添加炭化水素混合凝縮層ヘの 低速電子線照射により極低温合成したa-C:Si:Hの物性評価 重要な業績

    山田竜太郎,関渓太,坂巻直,小林直樹,佐藤哲也,中川清和

    第61回応用物理学会春季学術講演会  2014年3月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2014年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:青山学院大学(相模原キャンパス)  

  • In situ formation of aluminum germanate interlayer for high-k/Ge metal-oxide-semiconductor structures by atomic layer deposition with trimethylaluminum and microwave-generated atomic oxygen 重要な業績

    Hiroki Ishizaki,Yohei Otani,Chiaya Yamamoto,Junji Yamanaka,Tetsuya Sato,Toshiyuki Takamatsu,Yukio Fukuda

    International Symposium on Sputtering & Plasma Process (12th ISSP)  2013年7月 

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    開催年月日: 2013年7月

    記述言語:英語   会議種別:その他  

    開催地:Kyoto Research park  

  • c-C4F8極低温凝縮層への低速電子線照射により合成したa-C:F薄膜の物性評価 重要な業績

    曽我遥華,他5名

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013年3月 

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    開催年月日: 2013年3月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:神奈川工科大学  

  • アセチレン凝縮層への低速電子線照射により合成したa-C:Hの物性評価 重要な業績

    小林直樹,山田竜太郎,佐藤哲也,中川清和

    第60 回応用物理学会春季学術講演会  2013年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2013年3月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:神奈川工科大学  

  • 水素ラジカルによる遷移金属の選択加熱現象を利用した多結晶Si形成技術とデバイスへの応用

    中家大希,他9人

    第60回応用物理学会春季学術講演会   2013年3月  応用物理学会春

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    開催年月日: 2013年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(招待・特別)  

    開催地:神奈川工科大学  

  • アセチレン凝縮層への低速電子線照射により極低温合成したDLC薄膜の物性評価 重要な業績

    小林直樹,山田竜太郎,佐藤哲也,中川清和

    第26回 ダイヤモンドシンポジウム  2012年11月  ニューダイヤモンドフォーラム

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:青山学院大学青山キャンパス  

  • テトラメチルシラン凝縮層の低速電子照射により極低温合成したa-SiC:Hの物性評価 重要な業績

    山田竜太郎,小林直樹,和光賢司,曽我遥華,佐藤哲也,中川清和

    第26回ダイヤモンドシンポジウム  2012年11月  ニューダイヤモンドフォーラム

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年11月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:青山学院大学青山キャンパス  

  • c-C4F8凝縮層の低速電子線衝撃によるa-C:F薄膜の極低温合成 重要な業績

    和光賢司,曽我遥華,山田竜太郎,佐藤哲也,中川清和

    第26回ダイヤモンドシンポジウム  2012年11月  ニューダイヤモンドフォーラム

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年11月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:青山学院大学青山キャンパス  

  • Formation and characterization of electron-cyclotron-resonance plasma-derived germanium nitride for germanium-based CMOS applications.

    Y. Fukuda,Y. Otani,T. Sato,H. Okamoto,T. Ono

    1st Annual World Congress of Advanced Materials -2012  2012年6月 

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    開催年月日: 2012年6月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:Beijing International Convention Center, Beijing, China  

  • 低速電子線誘起反応と低温トンネル反応によるa-SiCx:Hの極低温合成 重要な業績

    山田竜太郎,その他6名

    2012春季第59回応用物理学関係連合講演会  2012年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2012年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:早稲田大学 小白川キャンパス  

  • C3F8凝縮層の低速電子線衝撃によるa-C:F薄膜の極低温合成 重要な業績

    胡 雪冰,山田竜太郎,小林直樹,川上浩一,佐藤哲也

    2012春季第59回応用物理学関係連合講演会  2012年3月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:早稲田大学 小白川キャンパス  

  • 水素プラズマを用いた遷移金属加熱技術の開発(II)

    中村浩之,その他8名

    2012春季第59回応用物理学関係連合講演会  2012年3月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:早稲田大学 小白川キャンパス  

  • Unintentional Formation of HfSixOy on Si Substrate during Atomic Layer Deposition of HfO2 from Tetrakis(dimethlyamido) hafnium and Plasma-Generated Atomic Oxygen 重要な業績

    H. Ishizaki,M. Iida,Y. Fukuda,C. Yamamoto,J. Yamanaka,T. Sato

    2011 MRS fall meeting  2011年12月  Mareirals Research Society

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:Boston MA  

  • Low - temperature fabrication of TiO2 films combined with liquid phase deposition and microwave plasma heating 重要な業績

    Tetsuya Sato,Kenta Hongo,Tetsuji Arai,Kiyokazu Nakagawa,Toshiyuki Takamatsu

    21st International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2011年11月  PVSEC-21 Organizing committee

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年11月

    記述言語:英語   会議種別:その他  

    開催地:Hilton Hotel, Fukuoka  

  • フルオロカーボン凝縮層の低速電子線照射によるa-C:Fの極低温合成 重要な業績

    胡 雪冰,その他5名

    2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会  2011年9月  応用物理学会

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    開催年月日: 2011年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:山形大学 小白川キャンパス  

  • 水素プラズマを用いた加熱技術の開発

    中村浩之,その他7名

    2011年秋季第72回応用物理学会学術講演会  2011年9月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:山形大学 小白川キャンパス  

  • Selective Heating Method for Poly-crystallization of Amorphous Si Using Hydrogen Microwave Plasma 重要な業績

    Tetsuji ARAI,その他10名

    International Conference on Materials for Advanced Technologies (ICMAT2011), CGCT-5-Functional materials crystallization, characterization and devices  2011年6月  Materials Research Society

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    開催年月日: 2011年6月

    記述言語:英語   会議種別:その他  

    開催地:Suntec , Singapore  

  • Crystallization of Amorphous TiO2 Thin Films using Microwave Plasma Heating 重要な業績

    Tetsuji ARAI,Kenta HONGO,Haocheng GUO,Toshiyuki TAKAMATSU,Tetsuya SATO,Kiyokazu NAKAGAWA

    International Conference on Materials for Advanced Technologies (ICMAT2011), CGCT-5-Functional materials crystallization, characterization and devices  2011年6月  Materials Research Society

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年6月

    記述言語:英語   会議種別:その他  

    開催地:Suntec , Singapore  

  • 水素ラジカルによる選択加熱現象を利用した多結晶ゲルマニウム形成技術

    荒井哲司,その他7人

    2011 年春季第58 回応用物理学関係連合講演会  2011年3月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:神奈川工科大  

  • RF スパッタ法によるGe 基板上へのSrTiO3 薄膜の作製

    王谷 洋平,福田 幸夫,佐藤 哲也

    2011 年春季第58 回応用物理学関係連合講演会  2011年3月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:神奈川工科大  

  • マイクロ波生成プラズマ支援ALD法によるSi基板上HfO2薄膜の形成

    飯田真正,その他7人

    2011 年春季第58 回応用物理学関係連合講演会  2011年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2011年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(招待・特別)  

    開催地:神奈川工科大  

  • CF4凝縮層の低速電子線衝撃によるa-C:F薄膜の極低温合成 重要な業績

    胡 雪冰,鍋田貴大,土屋新平,森田直樹,佐藤哲也

    2010 年秋季第71回応用物理学会学術講演会  2010年9月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2010年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:長崎大学  

  • CH4/Ar固体薄膜への低速電子線衝撃:Arマトリックス単離赤外分光法による反応解析 重要な業績

    佐藤哲也,その他7人

    2010年秋季第71 回応用物理学会学術講演会  2010年9月  応用物理学会

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    開催年月日: 2010年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:長崎大学  

  • マイクロ波リモートプラズマを用いた原子堆積法によるSi基板上へのAl2O3薄膜の作製

    石崎博基,その他6人

    2010 年秋季第71 回応用物理学会学術講演会  2010年9月  応用物理学会

     詳細を見る

    開催年月日: 2010年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:長崎大学  

  • 低速電子線誘起反応と低温トンネル反応により合成した炭素膜のTEM観察 重要な業績

    森田直樹,伊東佑将,渡辺 陵,荒井哲司,佐藤哲也,山本千綾,有元圭介,山中淳二,中川清和

    第57回応用物理学関係連合講演会  2010年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2010年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:東海大学 湘南キャンパス  

  • Effective passivation of Ge surface by high-quality GeO2 formed by Electron-Cyclotron-Resonance plasma oxidation for Ge-based electronic and photonic device applications

    Yukio Fukuda, Yohei Otani, Tetsuya Sato, Hiroshi Toyota and Toshiro Ono

    5th International Workshop on New group IV Semiconductor Nanoelectronics  2010年1月  MEXT, JSPS, IEEJ

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    開催年月日: 2010年1月

    記述言語:英語   会議種別:口頭(招待・特別)  

    開催地:Tohoku University  

  • 低速電子線誘起反応と水素原子の低温トンネル反応による炭素薄膜の極低温合成 重要な業績

    佐藤哲也

    2009年度実用表面分析講演会(PSA-09)  2009年11月  表面分析研究会

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    開催年月日: 2009年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(招待・特別)  

    開催地:山梨大学  

  • 液相析出法とマイクロ波放電プラズマ加熱法により合成した酸化チタンの表面分析

    本郷健太,荒井哲司,佐藤哲也,中川清和

    2009年度実用表面分析講演会(PSA-09)  2009年11月  表面分析研究会

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    開催年月日: 2009年11月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:山梨大学  

  • 低速電子線誘起反応とトンネル反応により合成した炭素薄膜の表面分析

    森田直樹,伊東佑将,胡雪氷,土屋新平,渡辺陵,佐藤哲也,山本千綾,有元圭介,山中淳二,中川清和

    2009年度実用表面分析講演会(PSA-09)  2009年11月  表面分析研究会

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    開催年月日: 2009年11月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:山梨大学  

  • 低速電子線誘起堆積法と水素原子の低温トンネル反応による炭素薄膜の極低温合成 重要な業績

    伊東佑将,胡 雪氷,土屋新平,森田直樹,荒井哲司,佐藤哲也,中川清和

    2009 年秋季第70 回応用物理学会学術講演会  2009年9月  応用物理学会

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    開催年月日: 2009年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:富山大学  

  • μ波プラズマ加熱による金属の選択加熱現象を利用した多結晶シリコン形成技術2

    荒井哲司,有泉 慧,池野祐喜,板山泰裕,有元圭介,山中淳二,佐藤哲也,他4人

    第56回応用物理学関係連合講演会  2009年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2009年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:筑波大学(茨城)  

  • マイクロ波プラズマ加熱による非晶質酸化チタン薄膜の結晶化 重要な業績

    佐藤哲也,過 皓晟,本郷健太,村松親雄,今村友一,他5名

    第56回応用物理学関係連合講演会  2009年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2009年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:筑波大学  

  • メタン凝縮層の低速電子線衝撃による炭素薄膜の極低温合成(II) 重要な業績

    佐藤哲也,井草裕志,伊東佑将,小林憲明,荒井哲司,他2名

    第56回応用物理学関係連合講演会  2009年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2009年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:筑波大学  

  • 金属イオンによって変化するビオロゲン誘導体の光還元特性

    今村友一,桑原哲夫,佐藤哲也

    第56回有機合成化学協会関東支部シンポジウム  2008年11月 

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    開催年月日: 2008年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

  • 分光エリプソ法によるSi3N4/GeNx/Ge構造の光学的評価

    福田幸夫,,王谷洋平,,佐藤哲也,,坂口明生,,小野俊郎

    2008年秋季 第69回応用物理学会学術講演会  2008年9月  応用物理学会

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    開催年月日: 2008年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:中部大学  

  • マイクロ波プラズマCVD法によるゲート酸化膜の形成 重要な業績

    平田真大,有元圭介,山中淳二,佐藤哲也,その他5人

    2008年秋季第69回応用物理学会学術講演会  2008年9月  応用物理学会

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    開催年月日: 2008年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:中部大学  

  • メタン凝縮層の低速電子線衝撃によるダイヤモンド状アモルファス炭素膜の極低温合成 重要な業績

    伊東佑将,その他5人

    2008年秋季第69回応用物理学会学術講演会  2008年9月  応用物理学会

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    開催年月日: 2008年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:中部大学  

  • ECR酸素プラズマ照射がGeNx/Ge界面特性に及ぼす影響

    王谷洋平,福田幸夫,佐藤哲也,中川清和,豊田宏,小野俊郎

    第25回強誘電体応用会議  2008年5月  強誘電体応用会議 運営委員会

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    開催年月日: 2008年5月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:コープイン京都 (京都)  

  • 低速電子誘起反応と極低温トンネル反応により合成したSiNxの電気特性評価 重要な業績

    林憲明,その他6名

    第55回応用物理学関係連合講演会  2008年3月 

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    開催年月日: 2008年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:日本大学、船橋キャンパス  

  • ECR法によるSi3N4/GeNx/Ge MISキャパシタ界面特性の成膜温度依存性

    笠原康司,その他5名

    第55回応用物理学関係連合講演会  2008年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2008年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:日本大学、船橋キャンパス  

  • ECR 法によるGeNx 形成前のECR 酸素プラズマ照射の効果に関する検討

    王谷洋平, 他5名

    第55回応用物理学関係連合講演会  2008年3月  日本応用物理学会

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    開催年月日: 2008年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:日本大学(船橋キャンパス)  

  • 有機フィルム基板上へのSiNxおよびa-Si:Hの極低温形成 重要な業績

    佐藤哲也, 他6名

    第50 回放射線化学討論会  2007年10月  日本放射線化学会

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    開催年月日: 2007年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:京都大学(宇治キャンパス)  

  • 低速電子誘起成膜法によるSiNxの極低温合成と物性評価 重要な業績

    小林 憲明,その他7名

    第50 回放射線化学討論会  2007年10月  日本放射線化学会

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    開催年月日: 2007年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:京都大学  

  • 低速電子線誘起堆積法とH原子トンネル反応を利用した水素化アモルファスシリコンの合成 重要な業績

    佐藤哲也, 小林憲明, 今村友一, 中川清和, 佐藤昇司

    第54回応用物理学関係連合講演会  2007年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2007年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:青山学院大学  

  • シリコン窒化膜の極低温合成に関する研究 重要な業績

    小林憲明, 今村友一,佐藤哲也,中川清和, 佐藤昇司

    第49回放射線化学討論会  2006年10月  日本放射線化学会

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    開催年月日: 2006年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:日本原子力研究機構 高崎  

  • 低速電子誘起化学気相成長法によるSiNx膜の極低温合成

    佐藤哲也,小林憲明,今村友一,三井実,中川清和,青木裕,佐藤昇司

    2006年秋季 第67回応用物理学会学術講演会  2006年8月 

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    開催年月日: 2006年8月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:立命館大学びわこ・くさつキャンパス  

  • TEOS-SiO2の界面準位密度と酸化膜内欠陥密度(Ⅱ)

    荒井哲司,平田真大,土屋勇介,三井実,有元圭介,佐藤哲也,中川清和,福田幸夫,高松利行,佐藤昇司

    2006年秋季 第67回応用物理学会学術講演会  2006年8月 

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    開催年月日: 2006年8月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:立命館大学びわこ・くさつキャンパス  

  • TEOS酸化膜の界面準位密度と酸化膜内欠陥密度 重要な業績

    土屋勇介,他8人

    第53回応用物理学関係連合講演会  2006年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2006年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:武蔵工業大学  

  • 低速電子誘起成膜法によるシリコン半導体薄膜の極低温合成 重要な業績

    佐藤哲也, 三井実, 中川清和, 青木裕, 佐藤昇司

    第47回 放射線化学討論会  2005年10月  日本放射線化学会

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    開催年月日: 2005年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:大阪大学産業科学研究所  

  • Formation of microcrystalline Silicon and SiNx films by electron- beam-induced-chemical vapor deposition at ultra low temperature 重要な業績

    Tetsuya Sato,他6人

    Fourth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ISCI-4)  2005年5月 

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    開催年月日: 2005年5月

    記述言語:英語   会議種別:その他  

    開催地:淡路島  

  • 微結晶シリコンの極低温形成 重要な業績

    佐藤哲也,その他6人

    2005春季第52回応用物理関係連合講演会  2005年3月  日本応用物理学会

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    開催年月日: 2005年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:埼玉大学  

  • Synthesis of Microcrystalline Silicon Films by Low Energy Electron-Beam-Induced Deposition at Cryogenic Temperature 重要な業績

    T. Sato, K. Nakagawa, Y. Aoki, S. Sato

    Group-IV Semiconductor Nanostructures, edited by Leonid Tsybeskov, David J. Lockwood, Christophe Delerue, and Masakazu Ichikawa (Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 832, Warrendale, PA , 2005),  2004年12月  US-MRS

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    開催年月日: 2004年12月

    記述言語:英語   会議種別:その他  

    開催地:Boston  

  • 電子誘起成膜法によるシリコン系半導体薄膜の合成と物性評価 重要な業績

    佐藤哲也,他5名

    第47回放射線化学討論会  2004年10月  日本放射線化学会

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    開催年月日: 2004年10月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

  • 極低温で合成した半導体薄膜の表面分析

    佐藤哲也

    2004JEOL EPMA・表面分析ユーザーズミーティング  2004年9月  日本電子株式会社

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    開催年月日: 2004年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(招待・特別)  

    開催地:中野サンプラザ(東京)  

  • 低速電子照射による微結晶Siの低温形成

    佐藤哲也,その他6名

    2004秋季第65回応用物理学会学術講演会  2004年9月  応用物理学会

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    開催年月日: 2004年9月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:東北学院大学  

  • 極低温反応によるシリコン系薄膜の合成 重要な業績

    佐藤哲也,望月慎高,中川清和,青木裕, 佐藤昇司, 宮田千治, 高松利行

    第51回応用物理学関係連合講演会  2004年3月  日本応用物理学会

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    開催年月日: 2004年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:東京工科大  

  • 極低温反応によるa-Si:Hおよびμc-Si:H薄膜の形成

    望月慎高,佐藤哲也,三井実,中川清和,佐藤昇司,宮田千治

    第51回応用物理学関係連合講演会  2004年3月  日本物理学会

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    開催年月日: 2004年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:東京工科大  

  • ホルムアルデヒド及びメタノール薄膜と水素原子との極低温トンネル反応に関する研究 重要な業績

    上野敏幸,他8人

    第46回放射線化学討論会  2003年9月  日本放射線化学会

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    開催年月日: 2003年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:箱根小涌園(神奈川)  

  • 単原子分子(Ar, Kr, Xe)薄膜の400eV Ne+イオン衝撃によるTOF-SIMS 重要な業績

    雨宮僚,上原涼,佐藤哲也,平岡賢三

    第51回質量分析総合討論会  2003年5月  日本質量分析学会

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    開催年月日: 2003年5月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:産業技術総合研究所(つくば)  

  • 極低温トンネル反応によるa-Si:H薄膜の合成 重要な業績

    高島英彰,他5人

    第50回応用物理学関係連合講演会  2003年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2003年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:神奈川大学(横浜キャンパス)  

  • リニア直衝突/多重反射型飛行時間質量分析装置の開発と応用 重要な業績

    佐藤哲也

    日本質量分析学会創立50周年記念若手講演会  2002年11月  日本質量分析学会

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    開催年月日: 2002年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(招待・特別)  

    開催地:東京大学  

  • Chemical synthesis by means of low temperature tunneling reaction : from interstellar molecules to thin film semiconductors 重要な業績

    K.Hiraoka, N.Sogoshi, H.Takashima and T.Sato

    4th International Conference on Low Temperature Chemistry  2002年8月  4th International Conference o

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    開催年月日: 2002年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭(招待・特別)  

    開催地:Finland  

  • Study on the tunneling reaction of H atoms in interstellar ices 重要な業績

    佐藤哲也,他8人

    4th International Conference on Low Temperature Chemistry  2002年8月  4th International Conference o

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    開催年月日: 2002年8月

    記述言語:英語   会議種別:その他  

    開催地:Finland  

  • MSのイオン化の進歩と未来 重要な業績

    佐藤哲也

    第50回質量分析総合討論会  2002年5月  日本質量分析学会

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    開催年月日: 2002年5月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(招待・特別)  

    開催地:京都工芸繊維大学  

  • Si2H6薄膜とH原子の極低温トンネル反応によるSi薄膜の形成 重要な業績

    佐藤昇司,他6人

    Si2H6薄膜とH原子の極低温トンネル反応によるSi薄膜の形成  2002年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2002年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:東海大学(湘南校舎)  

  • H原子GeH4薄膜との極低温トンネル反応によるGe薄膜の形成 重要な業績

    曽越宣仁,他6人

    第49回応用物理学関係連合講演会  2002年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2002年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:東海大学(湘南校舎)  

  • 水素原子とシラン薄膜の極低温トンネル反応:シリコン薄膜の形成

    佐藤哲也,他11人

    第42回真空に関する連合講演会  2001年10月  日本真空学会

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    開催年月日: 2001年10月

    記述言語:日本語   会議種別:その他  

    開催地:機会振興会館(東京)  

  • vdW薄膜のHe+イオン衝撃:二次イオン強度の膜厚依存性 重要な業績

    佐藤哲也,他4人

    第26回原子衝突研究協会研究会  2001年8月  原子衝突研究協会研究会

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    開催年月日: 2001年8月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:立教大学 (東京)  

  • 水素原子の固相トンネル反応を利用した新規な半導体薄膜形成法の開発 重要な業績

    佐藤哲也,他9人

    第49回質量分析総合討論会(2001)  2001年6月  日本質量分析学会

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    開催年月日: 2001年6月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:東京大学(本郷キャンパス)  

  • SiH4薄膜とH原子の極低温トンネル反応によるSi薄膜の形成

    鈴木克憲,他9人

    第48回応用物理学関係連合講演会  2001年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2001年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:明治大学(駿河台キャンパス)  

  • 水素原子の固相トンネル反応を利用した半導体薄膜形成のための極低温反応装置の開発(Ⅱ) 重要な業績

    佐藤哲也,他9人

    第48回応用物理学関係連合講演会  2001年3月  応用物理学会

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    開催年月日: 2001年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭(一般)  

    開催地:明治大学(駿河台キャンパス)  

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産業財産権

  • 成膜方法及び成膜装置

    佐藤 哲也、布瀬 暁志、久保田 雄介、東雲 秀司

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    出願人:山梨大学 東京エレクトロン株式会社

    出願番号:特願2021-103284  出願日:2021年6月

    公開番号:特開2023-2200  公開日:2023年1月

    出願国:外国  

    マスクを設けることなく、金属膜と絶縁膜が表面に露出した基板の金属膜上に選択的に成膜を行うこと。

  • 排気ガスの固定化処理法、及びその処理装置

    佐藤哲也

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    出願人:国立大学法人山梨大学

    出願番号:特願2011-42049  出願日:2011年2月

    公開番号:特開2012-179503  公開日:2012年9月

    特許番号/登録番号:特許第5703516号  登録日:2015年3月 

    出願国:国内  

学外あるいは所属学部等外の組織との共同研究

  • プラズマ成膜したDLC膜の分光分析

    山梨県産業技術センター

    2022年07月22日 - 2023年03月31日  代表

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    極低温成膜した水素含有非晶質カーボン/フッ素含有非晶質カーボン薄膜を各種分光計測(XPS、NEXAFS)により明らかにした

  • high-k/Ge構造における界面物理構造のプロセス依存の解明

    東北大学電気通信研究所

    2022年04月01日 - 2023年03月31日  分担

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    極低温ALD法によりGe基板上にa-C:Fを堆積し、電気特性、結合状態の評価を行った。I-V測定からpn接合が確認された。

  • 次世代ぶどう栽培における太陽光発電の有効性の検証

    山梨県富士工業技術センター、ぶどうソーラー活用研究会

    2014年12月02日 - 2015年03月31日  代表

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    色素増感型太陽電池の高効率化に関する基礎研究を行い、種々の太陽電池のぶどう栽培における利用形態を提案し、その有効性についての可能性を検討した。

  • ジャーマネイト系高誘電率ゲート絶縁膜材料の探索と低温直接形成法に関する研究

    諏訪東京理科大学

    2014年04月01日 - 2017年03月31日  分担

     詳細を見る

    分光学的解析等による極薄膜の構造解析

  • 水素ラジカルを用いた高品位Ge/Si基板ヘテロ構造形成技術の開発

    山梨大学クリスタル科学研究センター

    2013年04月01日 - 2016年03月31日  分担

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    マイクロプラズマ診断、加熱機構解析

  • マイクロ波プラズマ励起種を用いた選択加熱技術の開発
    (平成22年度~24年度、科学研究費基盤(C))

    山梨大学 クリスタル科学研究センター

    2010年04月01日 - 2013年03月31日  分担

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    プラズマ診断、プロセス・装置開発

  • 極低温トンネル反応と低速電子線誘起反応を利用した炭素薄膜の合成
    (科研費H21-23年度)

    応用化学科、クリスタル科学研究センター

    2009年04月01日 - 2012年03月31日  代表

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    研究総括・炭素薄膜の合成および物性評価。

  • ナノクリスタル酸化チタン色素増感太陽電池に関する研究

    応用化学科、クリスタル科学研究センター

    2006年10月01日 - 2011年03月31日  代表

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    研究総括、TiO2の低温合成技術の開発。

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担当授業科目(学内)

  • 分光学 重要な業績

    2023年度  科目区分:専門教育(学部)

    量子化学の基礎的事項を整理し、原子・分子の構造とそのスペクトルについて解説した。群論により取り扱う方法を学び、光の吸収/発光スペクトルの解析など、具体的な事例(演習問題)を取り上げ開設した。

  • 教職履修カルテ

    2023年度

  • 量子材料科学特論

    2023年度

  • 分光学 重要な業績

    2022年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 量子材料科学特論 重要な業績

    2022年度  科目区分:修士(大学院)

  • 数学演習I 重要な業績

    2022年度  科目区分:専門教育(学部)

    微分積分学担当

  • 入門化学I 重要な業績

    2022年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 数学演習II 重要な業績

    2022年度  科目区分:専門教育(学部)

    微分積分学担当

  • 化学実験 重要な業績

    2022年度  科目区分:その他(学部)

  • 量子材料科学特論 重要な業績

    2021年度  科目区分:修士(大学院)

  • 分光学 重要な業績

    2021年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 化学実験 重要な業績

    2021年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 数学演習II 重要な業績

    2021年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 数学演習I 重要な業績

    2021年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 入門化学I 重要な業績

    2021年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 数学演習I 重要な業績

    2020年度  科目区分:共通教育(学部)

  • 分光学 重要な業績

    2020年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 化学実験 重要な業績

    2020年度

  • 数学演習II 重要な業績

    2020年度

  • 量子材料科学特論 重要な業績

    2020年度  科目区分:修士(大学院)

  • 入門化学I 重要な業績

    2020年度

  • 応用工学実験Ⅰ 重要な業績

    2017年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 入門化学Ⅰ 重要な業績

    2017年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 入門化学Ⅰ 重要な業績

    2016年度  科目区分:専門教育(学部)

  • 入門化学Ⅰ 重要な業績

    2012年度  科目区分:専門教育(学部)

    実験を含む

  • 化学実験 重要な業績

    2012年度  科目区分:専門教育(学部)

  • エネルギー量子化学特論第二 重要な業績

    2011年度  科目区分:修士(大学院)

  • 量子物理化学特論 重要な業績

    2011年度  科目区分:博士(大学院)

  • 地球環境化学とエネルギー 重要な業績

    2007年度  科目区分:共通教育(学部)

  • 量子材料システム工学特論 重要な業績

    2005年度  科目区分:修士(大学院)

  • 分子素子設計工学特論 重要な業績

    2004年度  科目区分:博士(大学院)

    調査・レポート課題形式

  • 基礎物理学I 重要な業績

    2004年度  科目区分:その他(学部)

  • 化学実験

    2004年度  科目区分:その他(学部)

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教育実績

  • 第7回全学教育FD研修会「緊急対策としての授業のオンライン化」

    2020年03月24日 - 2020年04月03日

     詳細を見る

    動画を視聴し、二つの必須小テストを実施しクリアした

社会貢献活動

  • 「宇宙がひらく材料科学の世界~『星間分子』ができるまで~」

    役割:講師

    山梨大・読売新聞甲府支局共催  令和5年度 連続市民講座第15部  2023年10月

  • サイエンスラボ 化学系講座「天然色素を用いた色素増感型太陽電池の作製」

    役割:講師, 助言・指導

    日川高等学校  山梨大学 工学 B1号館―202実験室  2022年10月

     詳細を見る

    対象: 高校生

    種別:その他

    身近にある材料で霧箱を製作し、Raからの放射線を観察した。

  • 「宇宙に学ぶ新エネルギー材料創製」

    山梨県立白根高等学校  山梨県立白根高等学校  2022年9月

     詳細を見る

    対象: 高校生

    種別:出前授業

    放射線の性質・霧箱実験、宇宙における極低温下での化学反応研究、放電・プラズマの演示、材料創成法について紹介した。

  • サイエンスラボ 化学系講座「霧箱による放射線の観察」

    役割:講師, 助言・指導

    日川高等学校  山梨大学 工学 B1号館―202実験室  2021年10月

     詳細を見る

    対象: 高校生

    種別:その他

    身近にある材料で霧箱を製作し、Raからの放射線を観察した。

  • No.2020-3「宇宙に学ぶ新エネルギー材料創製 ~省エネ型の画期的な成膜技術(低温表面処理と薄膜合成)の研究~」

    山梨中央銀行  山梨大学発"ビジネスチャンス"直行便!  2021年3月 - 現在

     詳細を見る

    対象: 社会人・一般, 企業

    種別:インターネット

  • サイエンスラボ 化学系講座「霧箱による放射線の観察」

    役割:講師, 助言・指導

    日川高等学校  山梨大学 工学 B1号館―202実験室  2020年9月

     詳細を見る

    対象: 高校生

    種別:その他

    身近にある材料で霧箱を製作し、Raからの放射線を観察した。

  • 科学実験講座 実験工作教室「飛行機雲のように放射線を目で観察しよう」

    役割:講師, 実演

    山梨県立科学館  山梨県立科学館  2020年8月

     詳細を見る

    対象: 教育関係者

    種別:セミナー・ワークショップ

    理科実験工作を小・中・高・特別支援学校教員9名に指導した。

  • 科学実験講座 実験工作教室「飛行機雲のように放射線を目で観察しよう」

    役割:講師, 実演

    山梨県立科学館  山梨県立科学館  2020年8月

     詳細を見る

    対象: 教育関係者

    種別:セミナー・ワークショップ

    理科実験工作を小・中・高・特別支援学校教員9名に指導した。

  • SSHサイエンスラボ 化学系講座 「天然色素を用いた太陽電池の作製」

    役割:講師, 助言・指導

    山梨県立日川高等学校  山梨大学工学部 B1号館202  山梨大学工学部 B1-202  2019年8月

     詳細を見る

    対象: 高校生

    種別:その他

    環境問題と太陽電池の仕組みついて講義した(20分)、天然色素を用いた色素増感型太陽電池作製の実験を指導した(1時間40分)。

  • SSHサイエンスラボ 化学系講座 「天然色素を用いた太陽電池の作製」

    役割:講師, 助言・指導

    山梨県立日川高等学校  山梨大学工学部 B1号館202  山梨大学工学部 B1-202  2019年8月

     詳細を見る

    対象: 高校生

    種別:その他

    環境問題と太陽電池の仕組みついて講義した(20分)、天然色素を用いた色素増感型太陽電池作製の実験を指導した(1時間40分)。

  • SSH山梨大学実験研修「環境化学と太陽電池」

    役割:講師, 助言・指導

    韮崎高等学校  山梨大学工学部 T1号館-21、B1-202実験室  2019年8月

     詳細を見る

    対象: 高校生

    種別:その他

    環境問題と太陽電池の仕組みついて講義した(90分×1コマ)、天然色素を用いた色素増感型太陽電池作製の実験を指導した(3時間半)。

  • 天然色素を用いた太陽電池、霜箱

    役割:取材協力, 講師, 助言・指導, 実演

    山梨大学、山梨英和中学校・高等学校、山梨県立男女共同参画推進センターぴゅあ総合 共催事業  ガールズサイエンスcafe@山梨  山梨県防災新館  2018年9月

     詳細を見る

    対象: 小学生, 中学生, 高校生, 社会人・一般

    種別:サイエンスカフェ

    ぶどうを使用した色素増感太陽電池の工作。

  • 天然色素を用いた太陽電池、霜箱

    役割:取材協力, 講師, 助言・指導, 実演

    山梨大学、山梨英和中学校・高等学校、山梨県立男女共同参画推進センターぴゅあ総合 共催事業  ガールズサイエンスcafe@山梨  山梨県防災新館  2018年9月

     詳細を見る

    対象: 小学生, 中学生, 高校生, 社会人・一般

    種別:サイエンスカフェ

    ぶどうを使用した色素増感太陽電池の工作。

  • SSHサイエンスラボ「宇宙に学ぶ新エネルギー材料創成」

    役割:講師, 助言・指導

    山梨県立日川高等学校  山梨大学工学部 B1号館202  山梨大学工学部 B1-202  2018年8月

     詳細を見る

    対象: 高校生

    種別:その他

    環境問題と太陽電池の仕組みついて講義した(90分×1コマ)、天然色素を用いた色素増感型太陽電池作製の実験を指導した(3時間半)。

  • SSHサイエンスラボ「宇宙に学ぶ新エネルギー材料創成」

    役割:講師, 助言・指導

    山梨県立日川高等学校  山梨大学工学部 B1号館202  山梨大学工学部 B1-202  2018年8月

     詳細を見る

    対象: 高校生

    種別:その他

    環境問題と太陽電池の仕組みついて講義した(90分×1コマ)、天然色素を用いた色素増感型太陽電池作製の実験を指導した(3時間半)。

  • SSH「環境化学と太陽電池」

    役割:講師, 助言・指導

    韮崎高等学校  山梨大学工学部 T1号館-21、B1-202実験室  2018年8月

     詳細を見る

    対象: 高校生

    種別:その他

    環境問題と太陽電池の仕組みついて講義した(90分×1コマ)、天然色素を用いた色素増感型太陽電池作製の実験を指導した(3時間半)。

  • 第21回リフレッシュ理科教室

    役割:助言・指導

    応用物理学会、山梨大学、山梨県立科学館  2018年8月

     詳細を見る

    対象: 小学生, 中学生

    種別:セミナー・ワークショップ

    工作・実験の指導

  • 太陽電池工作教室ーぶどうで発電

    役割:取材協力, 講師, 助言・指導, 実演

    山梨県立科学館、キャリアハウス「ティーチサイエンス」  科学探求講座事業  山梨県立科学館  2018年3月

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    対象: 小学生, 中学生

    種別:その他

    ぶどうを使用した色素増感太陽電池の工作。

  • 太陽電池工作教室ーぶどうで発電

    役割:講師, 助言・指導, 実演

    甲州市中央公民館  2017年12月

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    対象: 小学生, 中学生

    種別:セミナー・ワークショップ

    環境・エネルギー問題の解説と太陽電池工作

  • SSHサイエンスラボ「天然色素で太陽電池をつくろう」

    役割:講師, 助言・指導

    山梨県立日川高等学校  山梨大学工学部 B1号館202  2017年8月

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    対象: 高校生

    種別:その他

    環境問題と再生可能エネルギーの解説、天然色素を用いた色素増感型太陽電池の実験

  • SSHサイエンスセミナー「宇宙に学ぶ新エネルギー材料創成」

    山梨県立都留高等学校  都留高等学校  2014年8月

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    総合的な学習の時間の進路学習、進路や大学進学への意識を高めるための授業として、
    宇宙環境、元素の起源、物質の化学進化、放射線、プラズマ、材料創生について
    演示実験を交えた授業を行った。

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所属学協会

  • 日本天文学会

    2000年8月 - 現在

  • 応用物理学会

    2000年1月 - 現在

  • 日本放射線化学会

    1998年6月 - 現在

  • 日本質量分析学会

    1993年7月 - 現在

  • 日本化学会

    1993年7月 - 現在

  • 日本物理学会

    1988年9月 - 現在

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委員歴

  • 応用物理学会   プラズマエレクトロニクス分科会幹事  

    2020年4月 - 2021年3月   

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    団体区分:学協会

  • 応用物理学会   プラズマエレクトロニクス分科会幹事  

    2019年4月 - 2020年3月   

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    団体区分:学協会

  • 応用物理学会   プラズマエレクトロニクス分科会幹事  

    2019年4月 - 2020年3月   

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    団体区分:学協会

メディア報道

  • 極低温下の化学反応 応用へ 新聞・雑誌

    読売新聞  p.30 山梨 (地域)  2023年10月

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    執筆者:本人以外 

    山梨大・読売新聞甲府支局共催連続市民講座第15部「知る喜び~ひと・くらし・けんこう~」第6回目の講座にて、「宇宙がひらく材料科学の世界~『星間分子』ができるまで~」と題して解説した。