2024/04/23 更新

写真a

コンドウ　エイイチ
近藤　英一
Kondo Eiichi
所属
大学院　総合研究部　工学域 物質科学系（先端材料理工学） 教授
職名
教授
ホームページ
http://www.ccn.yamanashi.ac.jp/~kondoh

経歴

  • 山梨大学教授

    2007年11月 - 現在

  • 山梨大学助教授

    2000年10月 - 現在

  • 九州工業大学助教授

    1998年7月 - 現在

  • IMEC（ベルギー）エキスパート研究員

    1997年5月 - 現在

  • IMEC（ベルギー）研究員

    1996年5月 - 現在

  • マックスプランク金属研究所

    1995年4月 - 現在

  • 川崎製鐵（株）ハイテク研究所主任研究員

    1994年7月 - 現在

  • 川崎製鐵（株）（現JFEスチール）入社

    1987年4月 - 現在

▼全件表示

学歴

  • 早稲田大学

    - 1987年3月

    　 詳細を見る

    国名： 日本国

    備考： (事項) 早稲田大学大学院理工学研究科修了

  • 早稲田大学

    - 1985年3月

    　 詳細を見る

    国名： 日本国

    備考： (事項) 早稲田大学理工学部卒

学位

  • 博士（工学） （ 京都大学 ）

教育・研究活動状況

  • ・フィールドを対象とした測定・分析
    ・電波科学教育、無線通信を通じたキャリア教育
    ・アマチュア無線を活用したワイヤレス人材育成

研究分野

  • ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電気電子材料工学  / マイクロ材料工学

  • ナノテク・材料 / ナノ材料科学

研究キーワード

  • 薄膜

  • 超微細加工

  • 集積回路プロセス・材料

  • エレクトロニクス実装

  • 超臨界流体利用

  • エレクトロニクス実装

研究テーマ

  • 集積回路材料

  • マイクロ・ナノ加工

  • アマチュア無線を活用したワイヤレス人材育成教育

共同研究・競争的資金等の研究

  • 次世代集積回路配線と液体／金属接面in-situ計測：どこまでわかりどう使うか？

    研究課題/領域番号：22K04182  2022年4月 - 2025年3月

    日本学術振興会  山梨大学  科学研究費助成事業  基盤研究(C)

    近藤 英一, 金 蓮花

  • ミューラー行列顕微鏡の創製

    研究課題/領域番号：20K04518  2020年4月 - 2023年3月

    日本学術振興会  山梨大学  科学研究費助成事業  基盤研究(C)

    金 蓮花, 近藤 英一

    　 詳細を見る

    本研究の目標は、物体の微細構造と材料特性を同時に観察・評価できる「ミューラー行列エリプソメトリー顕微鏡」の創製である。令和３年度では、昨年度の顕微鏡のハードウェア設計を続けて完成させるとともに、新たなデータ解析方法の提案と検証を行った。
    エリプソメトリーデータ解析では、一般に計測データの分光情報を必要とする。しかし、エリプソメトリー顕微鏡は、光学フィルターを用いた波長走査法により分光計測を行うため、点計測用エリプソメータより、計測時間が長い。そこで、単波長でのデータ解析方法を提案することにより、全体の計測・解析時間の短縮を図った。令和３年度では、提案の有効性を検証するために、透過・反射モードでの顕微鏡計測を可能とし、実際の測定及びデータ解析を行った。実験結果により、提案方法の有効性の証明と同時に新たな問題点の発見があった。本研究成果について、学術雑誌への論文投稿・掲載および国際・国内会議での発表を行った．

  • 超臨界CO2流体を用いた難プラズマエッチング材料の熱化学ドライエッチング

    2019年4月 - 2022年3月

    　 詳細を見る

    担当区分：研究代表者  資金の種類：科学研究費補助金

  • ナノSi結晶とワイドギャップ半導体の複合化プロセスの開発とデバイス提案

    2016年4月 - 2019年3月

    近藤英一、金蓮花 ベルナール　ジェロー

    　 詳細を見る

    担当区分：研究代表者  資金の種類：科学研究費補助金

  • 偏光指紋による物体同定のための光学モデル化およびその応用

    研究課題/領域番号：15K04694  2015年4月 - 2018年3月

    日本学術振興会  山梨大学  科学研究費助成事業  基盤研究(C)

    金 蓮花, 近藤 英一

    　 詳細を見る

    物体による光散乱は構造や物質によりその強度分布や偏光状態が異なる．散乱光中の偏光情報は、試料の屈折率、表面粗さ、プローブ光の波長により異なる。「偏光指紋は」、3次元空間に広がる散乱光の偏光特性を2次元パターンに表すものである。本研究では、「偏光指紋」で見出してきた多様な変化の因果関係を解明するために、計測装置の改良から、基礎計測、基礎データの解析を行い、散乱面における一定の所見を見出した。

  • 物体の偏光指紋の構築及びその応用

    研究課題/領域番号：24560043  2012年4月 - 2015年3月

    日本学術振興会  山梨大学  科学研究費助成事業  基盤研究(C)

    金 蓮花, 近藤 英一, 近藤 英一

    　 詳細を見る

    本研究は，物体表面による散乱光の完全な情報を迅速・コンパクトに取得・表現できる「偏光指紋」を構築することが目的である．本研究では大きく分けて，i)偏光指紋の定義の提案，ii) 偏光指紋計測用の散乱偏光情報の取得装置の開発，iii)金属と誘電体の偏光指紋の構築，iv)偏光指紋の物体同定への応用を視野に，散乱モデルの確立を試み，理論解析を行った．

  • 生物の最適ネットワーク構造探索機能を利用した超高バンド幅集積回路配線形成の試み

    研究課題/領域番号：23656213  2011年 - 2012年

    日本学術振興会  山梨大学  科学研究費助成事業  挑戦的萌芽研究

    近藤 英一

    　 詳細を見る

    本研究では、粘菌などの生体組織表面を超臨界流体プロセスによりメタライズした。粘菌は効率的なネットワークを形成するので、解探索という情報処理能力を持つので導電性を付与できれば高速な電子回路を形成できる可能性がある。 メタライズは、 超臨界 CO2 中で金属錯体を水素還元して行った。一般にこの反応は金属下地上でのみ進行するが、生体組織では特別な前処理を施さずに数ミクロン程度の Cu や Pt を堆積することができた。 実験に用いた生体組織は超臨界流体中で 200℃程度までは形状的に大きな変質をきたすことはなかった。

  • ゆらぎ撮像エリプソメトリによる超臨界流体薄膜プロセスのマルチスケール制御

    研究課題/領域番号：21360147  2009年 - 2011年

    日本学術振興会  山梨大学  科学研究費助成事業  基盤研究(B)

    近藤 英一, 金 蓮花, 垣尾 省司, 渡邉 満洋

    　 詳細を見る

    本研究は、超臨界流体のマイクロ・ナノエレクトロニクス応用を念頭に、超臨界流体中のマルチスケール揺らぎを「測り」「手なづける」ための方法論を構築することが目的である。本研究で大きく分けて,(1)エリプソメーターのナノ測定技術を利用した基板表面(界面)の局所揺らぎの測定と新規プロセスの提案,(2)ゆらぎ高速撮像エリプソメータの開発、(3)弾性表面波の表面敏感性を利用したメゾ～バルクの流体揺らぎ測定技術開発を行った。

  • 触媒作用を利用したシリコンへの微細配線形成技術の開発

    研究課題/領域番号：20035008  2008年 - 2009年

    日本学術振興会  大阪大学  科学研究費助成事業  特定領域研究

    松村 道雄, 池田 茂, 原田 隆史, 平井 豪, 近藤 英一

    　 詳細を見る

    触媒反応を利用したウエットプロセスによるシリコンの微細加工技術開拓の基礎として、触媒針を用い、その電位を外部から制御しながらそれをシリコンウエハに接触させ、シリコンへの孔形成過程を詳しく調べた。
    触媒針として直径100μmの細線を、金属の種類を変えて用いて孔形成を調べると、Ir,Pt,Pdにより良好な細孔が形成された。ある速度での孔形成を実現するための電位は、Pdが最も低く、IrとPtはほぼ同程度であった。このことは、Pdが孔形成の触媒能が強いことを示しているが、孔の形状を制御しにくいという問題があることが分かった。
    直径100μmPt針電極を用いて、シリコンウエハの特性と孔形成の関係を調べると、同じ電位においては、p型、n型によらず、ほぼ同じ速度で孔形成が起こることが確認された。ただし、p型のウエハに対しては、形成される孔に対して多くの電流が流れ、特に、比抵抗の小さいウエハについては、孔形成の電流効率は0.1%程度にまで低下した。
    一方、n型のウエハでは、電流効率が高く、1Ωcm以上の比抵抗のシリコンウエハについては、20%以上の電流効率となった。
    これらの結果に基づいて、触媒針とシリコンの接触箇所の周辺において、シリコンの電位分布が触媒針の電位、針と溶液界面の電気二重層、シリコンと溶液界面の電気二重層などにより決まっており、それらによってシリコンウエハの特性により、触媒針接触部分での溶解と、シリコン内への正孔注入の量的関係が変化するモデルを提唱した。
    孔の位置制御のために、マニュピュレーター付触媒針による加工装置を作製し、任意の形状の溝形成が行えることを実証した。
    ドライプロセスによる微細孔形成、SiCへの微細孔形成は、その速度が遅く、良好な微細加工技術への展開の見通しは立っていない。

  • 超高密度流体中での動的溶解度制御を利用した形状敏感型自己整合ナノプロセス

    研究課題/領域番号：19026005  2007年

    日本学術振興会  山梨大学  科学研究費助成事業  特定領域研究

    近藤 英一

    　 詳細を見る

    本研究は,機能性超高密度流体中(超臨界流体や亜臨界流体など)で実現する「形状敏感」プロセス(凹部へ選択的に物質を堆積、形成する技術)により,スケール限界なくナノ構造体の作製を可能足らしめる堆積技術を実現することを目的とするものである。
    高密度流体中では堆積原料の多層吸着とそれに伴う毛管凝集を利用するもので微細凹構造が自己整合・選択的に埋め込まれる。下地の触媒作用を利用するのではないため,原理的にスケール限界前工程パターニングが簡単である。
    形状敏感特性を検討するため,TaNコート下地に加え,あえてパターンつき酸化膜下地を用いた。パターンは集積回路配線用テストパターンで,80〜300nm幅のヴィア/トレンチである。実験条件は,圧力約20MPa,温度210〜250℃,時間8〜30min,原料はCu(dibm)225mg/cc,水素添加圧力(有の場合)は0.8MPaである。
    Cu(dibm)2の融点以上でかつCu析出反応が起きないよう155℃まで加熱した後,降温・除圧したところ,ヴィア孔のコーナー部にのみ凝集・堆集物が確認された。次に反応開始温度以上まで昇温したところ,ヴィア/トレンチ内に優先的に堆積堆積が生ずることを確認できた。表面の堆積物はヴィア孔内の凝集・充填物を基点として成長した。さらに,原料の導入導入量を多くすることで,埋め込み性が向上することを確認した。
    以上から,前記した充填メカニズムを概略確認することができた。XTEM-EDX分析ではヴィア内のCuは単結晶であり,底コーナー部の残渣様の物質はヴィアCu部に比べてC,Oなどの有機成分を多く含んでいることがわかった。本特定領域研究においては,この凝集機構を堆積温度の動的変化を利用した微細構造内にCuを選択的に成長させ,その条件,ならびにメカニズムの検討を行った。メカニズムの検討は概略完了した。

  • 超臨界エリプソメトリーで切り開く形状敏感ナノデバイスプロセス創製

    研究課題/領域番号：18206031  2006年 - 2008年

    日本学術振興会  山梨大学  科学研究費助成事業  基盤研究(A)

    近藤 英一

    　 詳細を見る

    超臨界流体は気体と液体の中間の性質を有する高密度の溶媒である。超臨界流体中に有機金属錯体を溶解し反応により固体を析出させると細孔内へ原料が凝集して細孔内にのみ選択的に物質を充填でき, 微細プロセス限界を凌駕できると期待できる。本研究ではこの現象を理解するため, 超臨界流体中での吸着・凝集現象を観測する超臨界エリプソメトリーを構築した。実際に凝集の観測に成功するとともに, サブナノ細孔の評価にも適用した。また堆積の評価も行った。

  • 超臨界流体を利用した超高速・低環境負荷型新規薄膜形成技術の開発

    研究課題/領域番号：15360162  2003年 - 2005年

    日本学術振興会  山梨大学  科学研究費助成事業  基盤研究(B)

    近藤 英一

    　 詳細を見る

    本研究は,超臨界流体を利用して,超機能・超微細デバイス用薄膜材料の堆積を行う,新規でかつ低環境負荷型のデバイスプロセス・薄膜堆積技術の創製に関するもので,平成15年度より3カ年間,基盤研究Bとして採択され研究を行ったものである。
    まず,本新規成膜法の成膜機構を明らかにし,成膜速度向上,連続成膜を可能にするため,独自の原理に基づいた流通型反応装置を試作して研究に供した。反応系として,集積回路の微細配線Cuへの応用を前提とし,水素還元Cu堆積反応を取り上げた。Cu堆積はLangmuir-Hinshelwood型の反応であり水素の解離吸着が律速過程であることを見出した。また,段差被覆・埋め込み性についても検討を行い,メカニズムとの対応を検討した。これらの結果,成膜速度や被覆性の向上には水素の供給と解離促進が重要であるという指導原理を得ることができた。更に,分離システムを試作すること未反応原料を回収し,純度調査を行い,リサイクル性・低環境負荷プロセスであることを実証した。
    また新規堆積系として,各種金属や,酸化物堆積を試み,Pt,Ru,ZnOの成膜に成功した。これらの材料を用い,MEMS/NEMS用ナノコンポーネントの試作を行った。本プロセスの超被覆・浸透・埋め込み性を利用し,ナノロッドや3次元集積回路用貫通電極の試作に成功した。
    以上,超臨界流体を利用した成膜プロセスの学術的および応用上の知見を得るという,当初の目標をほぼ達成するとともに,MEMS/NEMSなどの新たな応用展開に関する知見を得ることができた。

  • 超臨界流体を利用した配線形成技術の研究

    研究課題/領域番号：14040210  2002年

    日本学術振興会  山梨大学  科学研究費助成事業  特定領域研究

    近藤 英一

    　 詳細を見る

    超臨界CO2は,液体なみの高密度,気体なみの高拡散性・低粘性,さらにゼロ表面張力や溶媒能を兼ね備えた,特異な流体である.安定,安価,無害,低コストであり,リサイクル性もあることから,食品産業などですでに工業的に利用されている.半導体製造プロセスでも,洗浄・乾燥工程や,低誘電率薄膜の作製工程で,超臨界CO2の利用が試みられている.
    この超臨界CO2を金属堆積のための反応場として用い,有機金属を溶解させ,ナノ空間構造内にCu堆積加工が可能であることを実証した.膜は(111)配向しており,信頼性の高い膜質であることを確認した.比抵抗2.15μΩ.cmと十分低い値が得られた.さらに,きわめて高い反射率が得られた。堆積は, Fe,Au,WN,TiN,TaNなど導電性下地上に優先的に起こった。原料のCuへの転換率はきわめて高いことも判明した.化学気相蒸着法にくらべて100℃以上のプロセス低温化が可能であることを確認した.このような優れた特長が、CO2の溶媒能に由来することを,超臨界Ar流体との比較検討を行うことで,確認した.

▼全件表示

論文

  • Maximum thickness determinable by imaging ellipsometry 査読

    Lianhua Jin, Yoriatsu Kitamura, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz

    Japanese Journal of Applied Physics   2023年10月

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.35848/1347-4065/acff31

  • “Reflection and transmission ellipsometry measurement under incoherent superposition of light 査読

    2023年9月

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）  

    DOI： 10.1117/12.3005554

  • Thin layer growth on cobalt surface in solutions simulating slurry chemistry for chemical mechanical polishing 査読

    Eiichi Kondoh, Shota Takeuchi, Lianhua Jin, Ryota Koshino, Satomi Hamada, and Hirokuni Hiyama

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   2022年6月( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.35848/1347-4065/ac6219

  • Influence of Plasma Surface Treatment of Polyimide on the Microstructure of Aluminum Thin Films 査読

    Eiichi Kondoh

    Coatings   12 ( 3 )   334   2022年3月

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： https://doi.org/10.3390/coatings12030334

  • Characterization of thin films from reflection and transmission ellipsometric parameters 査読

    Lianhua Jin, Sota Mogi, Tsutomu Muranaka, Eiichi Kondoh, and Bernard Gello

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   61 ( 1 )   018004   2022年1月( ISSN：0021-4922  eISSN：1347-4065 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.35848/1347-4065/ac42af

    Web of Science

    Scopus

  • Hydrosilylation of High Porosity Porous Silicon with 1-Hexene in Supercritical CO2 Fluid 査読

    Naoto Takura, Lianhua Jin, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz

    ECS Journal of Solid State Science and Technology   10 ( 11 )   116005   2021年11月( ISSN：2162-8769  eISSN：2162-8777 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1149/2162-8777/ac344b

    Web of Science

  • Lateral ellipsometry resolution for imaging ellipsometry measuremen 査読

    Lianhua Jin, Eiichi Kondoh, Yuki Iizuka, Motoyuki Otake, and Bernard Gelloz

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   60 ( 5 )   058003   2021年4月( ISSN：0021-4922  eISSN：1347-4065 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.35848/1347-4065/abf5ac

    Web of Science

    Scopus

  • Synthesis and Characterization of Ni-Pt Alloy Thin Films Prepared by Supercritical Fluid Chemical Deposition Technique 査読

    Sudiyarmanto Eiichi Kondoh

    Nanomaterials   11   2021年1月

    　詳細を見る

    担当区分：責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： https://doi.org/10.3390/nano11010151 htt

  • Enhancing resistant starch content in brown rice using supercritical carbon dioxide processing 査読

    Masahiro Matsubara Yasuhisa Nakato Eiichi Kondo

    JOURNAL OF FOOD PROCESS ENGINEERING   2020年12月( ISSN：0145-8876 )

    　詳細を見る

    担当区分：最終著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1111/jfpe.13617

  • Hydrosilylation of High Porosity Porous Silicon with 1-Hexene in Supercritical CO2 Fluid 査読

    Takura Naoto, Lianhua Jin, Eiichi Kondoh and Bernard Gelloz

    　   98 ( 2 )   131 - 137   2020年10月( ISSN：1938-6737  ISBN：9781607688976  eISSN：1938-5862 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）  

    DOI： 10.1149/09802.0131ecst

    Scopus

  • 超臨界流体と微細プロセス 査読

    近藤英一

    精密工学会誌   86 ( 9 )   672 - 674   2020年9月

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • エリプソメトリック顕微鏡 ～斜め観測用顕微鏡の設計とその応用～ 査読

    金 蓮花 上原 誠 ジェローズ ベルナール 近藤 英

    精密工学会誌   86 ( 7 )   533 - 536   2020年8月

    　詳細を見る

    担当区分：最終著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • ミューラー行列の数値解析による多素子列偏光システムにおける各素子の

    金 蓮花 春日翔貴 近藤英一 高和宏行

    光学   49 ( 7 )   289 - 295   2020年7月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Design of a spectroscopic imaging ellipsometer

    Lianhua Jin, Makoto Uehara, Takashi Iwao, Yuki Iizuka, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz

    　   2020年6月

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）  

  • Kinetics of Ni thin film synthesis by supercritical fluid chemical deposition 査読

    Sudiyarmant Eiichi Kondoh

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59   2020年5月( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    担当区分：最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.35848/1347-4065/ab8be3

  • Growth kinetics of Cu surface layers in H2O2–BTA aqueous solutions 査読

    Eiichi Kondoh1 Mao Toyama Linhua Jin Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59   2020年4月( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.35848/1347-4065/ab83dd

  • Imaging ellipsometry measurement noises associated with non-uniform retardation of the compensator 査読

    Lianhua Jin, Yuki Iizuka, Eiichi Kondoh, Makoto Uehara, and Bernard Gelloz

    OPTICAL REVIEW   27 ( 1 )   73 - 80   2020年2月( ISSN：1340-6000  eISSN：1349-9432 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1007/s10043-019-00569-5

    Web of Science

  • Calibration of the retardation inhomogeneity for the compensator-rotating imaging ellipsometer 査読

    Lianhua Jin, Yuki Iizuka, Takashi Iwao, Eiichi Kondoh, Makoto Uehara, and Bernard Gelloz

    APPLIED OPTICS   58 ( 33 )   9224 - 9229   2019年11月( ISSN：1559-128X  eISSN：2155-3165 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1364/AO.58.009224

    Web of Science

  • Facile and efficient gas-phase pressure-controlled thermal functionalization of nanocrystalline porous silicon with 1-hexene 査読

    Bernard Gelloz, Takuma Iriyama, Naoto Takura, Eiichi Kondoh, and Lianhua Jin

    ECS Journal of Solid State Science and Technology   8 ( 9 )   R109 - R112   2019年8月( ISSN：2162-8769 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1149/2.0051909jss

    Web of Science

  • Imaging ellipsometry of porous silicon

    L. Jin, T. Akiyama, Y. Iizuka, E. Kondoh, and B. Gelloz

    Proceedings of SPIE   11142   1114201-77   2019年4月

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）  

  • Room-Temperature Formation of Intermixing Layer for Adhesion Improvement of Cu/Glass Stacks 査読

    Mitsuhiro Watanabe, Eiichi Kondoh

    IntechOpen   2019年2月

    　詳細を見る

    担当区分：最終著者   記述言語：英語   掲載種別：（MISC）総説・解説（その他）  

    DOI： 10.5772/intechopen.84362

  • Photoetching of Porous Silicon Nanostructures in Hydrofluoric Acid using Monochromatic Light 査読

    Bernard Gelloz, Hiroyuki Fuwa, Eiichi Kondoh, Lianhua Jin

    ECS Journal of Solid State Science and Technology   7 ( 12 )   P730 - P735   2018年12月( ISSN：2162-8769  eISSN：2162-8777 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1149/2.0121812jss

    Scopus

  • Cu Wiring Fabrication by Supercritical Fluid Deposition for MEMS Devices 招待 査読

    Eiichi Kondoh

    IntechOpen   4   47 - 62   2018年11月

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：英語   掲載種別：（MISC）総説・解説（その他）   出版者・発行元：IntechOpen  

    DOI： 10.5772/intechopen.81636

  • Extraction of properties of individual component for the retarder – linear diattenuator – retarder system and its application

    L. Jin, E. Kondoh, H. Kowa, B. Gelloz

    　   108190   108190R   2018年10月

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：（MISC）総説・解説（国際会議プロシーディングズ）  

  • Dimensional measurement of internal profile using the optical caliper

    L. Jin, N. Miyatsu, E. Kondoh, B. Gelloz, N. Kanazawa, T. Yoshizawa

    　   108190   108190K   2018年10月

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：（MISC）総説・解説（国際会議プロシーディングズ）  

  • 超臨界二酸化炭素流体中における薄膜堆積 査読

    近藤英一

    Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan　   25 ( 397 )   431 - 436   2018年9月

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：（MISC）総説・解説（学術雑誌）  

  • Oxygen-assisted platinum etching in supercritical carbon dioxide fluids using hexafluoroacetylacetone 査読

    Eiichi Kondoh and Yuta Ogihara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57   07ME01-1 - 07ME01-2   2018年7月( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Flat-shaped microfluidic optical cell for in situ ellipsometry using glass slide as optical window component 査読

    Eiichi Kondoh, Koki Segawa, Lianhua Jin, Satomi Hamada, Shohei Shima, and Hirokuni Hiyama

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 ( 7 )   07MD01-1 - 07MD01-2   2018年7月( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • 超臨界流体を用いた薄膜堆積・微細埋め込みと関連技術 招待

    近藤英一

    機能材料   38 ( 6 )   13 - 19   2018年6月

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：（MISC）総説・解説（商業誌）  

  • Measurement of diameter of cylindrical openings using a disk beam probe 査読

    Lianhua Jin, Nobuto Miyatsu, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz, Naobumi Kanazawa, and Toru Yoshizawa

    OPTICAL REVIEW   25 ( 6 )   656 - 662   2018年6月( ISSN：1340-6000  eISSN：1349-9432 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    DOI： 10.1007/s10043-018-0459-7

    Web of Science

  • Extracting calibrated parameters from imaging ellipsometric measurement 査読

    Lianhua Jin, Takumi Tanaka, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz, and Makoto Uehara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 ( 11 )   116602-1 - 116602-6   2017年10月( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Polarization characteristics of diffraction scattering from metal rough surface 査読

    L. Jin, T. Taguchi, E. Kondoh, and B. Gelloz

    APPLIED SURFACE SCIENCE   421   565 - 570   2017年10月( ISSN：0169-4332 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • DENSITY EVALUATION OF SUB-100 nm PARTICLES BY USING ELLIPSOMETRY

    Eiichi Kondoh Katsuya Suzuki Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama

    Proceedings of International Conference of Planarization/CMP Technology   60 - 64   2017年10月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 各種金属酸化物のCu/ガラス密着向上層としての利用 査読

    林　知里 渡邉　満洋 近藤　英一

    表面技術   68 ( 12 )   723 - 726   2017年6月

    　詳細を見る

    担当区分：最終著者   記述言語：日本語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Structures of Cu surfaces developing in benzotriazole solutions: Effect of pH 査読

    Eiichi Kondoh Tatsuya Kawakami Mitsuhiro Watanabe Linhua Jin Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56   07KH01-1 - 07KH01-6   2017年6月( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語  

  • Removal of organic template of mesoporous organosilicate thin films using supercritical carbon dioxide fluids 査読

    Eiichi Kondoh1 Koki Segawa Mitsuhiro Watanabe Lianhua Jin Liping Zhang Mikhail R. Baklanov

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 ( 7 )   07KF02-1 - 07KF02-4   2017年6月( ISSN：0021-4922  eISSN：1347-4065 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

    An organic template of periodic mesoporous organosilicate films was removed using supercritical CO2 fluids that are compressive solvents with a nanopenetration capability. The removal efficiency was evaluated by infrared spectroscopy and refractive index measurements. The removal ratio was dependent on treatment pressure and temperature and improved when the fluid density and/or temperature was high. Because a very high process temperature can deteriorate the organosilicate frame structure, the removal at a low temperature and a high pressure is preferable. The films under supercritical CO2 processing were characterized also in situ ellipsometry. It was found that the removal is a fast process and mostly completes during temperature ramping.

    DOI： 10.7567/JJAP.56.07KF02

    Web of Science

  • Fe- or Fe oxide-embedded anodic alumina membrane for nanocarbon growth―fabrication of membrane and observation of initial nanocarbon growth 査読

    Eiichi Kondoh,Shigeaki Tamekuni,Mitsuhiro Watanabe,Soichiro Okubo,Takeshi Hikata,Akira Nakayamab

    MICROELECTRONIC ENGINEERING   176   58 - 61   2017年2月( ISSN：0167-9317 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

    DOI： 10.1016/j.mee.2017.01.039

  • Optical Absorption and Quantum Confinement in Porous Silicon Nanostructures Studied by Chemical Dissolution in HF Solutions and Photoconduction 査読

    B. Gelloz, K. Ichimura, H. Fuwa, E. Kondoh, and L. Jin

    ECS Journal of Solid State Science and Technology   6 ( 1 )   R1 - R6   2017年1月( ISSN：2162-8769 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • In situ ellipsometry of Cu surfaces immersed in benzotriazole-hydrogen peroxide solutions 査読

    Eiichi Kondoh,Tatsuya Kawakami,Mitsuhiro Watanabe,Lianhua Jin,Satomi Hamada,Shohei Shima,Hirokuni Hiyama

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   55 ( 6S3 )   1 - 6   2016年6月( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

    DOI： 10.7567/JJAP.55.06JG03

  • Extraction of polarization properties of the individual components of a layered system by using spectroscopic Mueller matrix analysis 招待 査読

    Lianhua Jin,Daichi Kobayashi,Eiichi Kondoh,Hiroyuki Kowa,Bernard Gelloz

    OPTICS EXPRESS   24 ( 9 )   9757 - 9765   2016年5月( ISSN：1094-4087 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Ellipsometric measurement of particle-spiked wafer surfaces

    Eiichi Kondoh,Hayato Kotagiri,Mitsuhiro Watanabe,Satomi Hamada,Shohei Shima,Hirokuni Hiyama

    Proceedings of 2015 International Conference on Planarization/CMP Technology (ICPT)   188 - 190   2016年4月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Supercritical carbon dioxide etching of transition metal (Cu, Ni, Co, Fe) thin films 査読

    Md Rasadujjaman, Yoshiki Nakamura, Mitsuhiro Watanabe, Eiichi Kondoh, and Mikhail R. Baklanov

    Microelectronic Engineering   153 ( 3 )   5 - 10   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Supercritical fluid chemical deposition of Cu in Ru and TiN-lined deep nanotrenches using a new Cu(I) amidinate precursor 査読

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudoh, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh

    Microelectronic Engineering   137 ( 10 )   32 - 36   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Polarization characteristics of scattered light from macroscopically rough surfaces 査読

    Lianhua Jin, Koji Yamaguchi, Mitsuhiro Watanabe, Shinichiro Hira, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz

    Optical Review   22 ( 4 )   511 - 520   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Selective Cu fillingof nanopores using supercritical carbon dioxide 査読

    Eiichi Kondoh, Yukihiro Tamegai, Mitsuhiro Watanabe, and Lianhua Jin

    Japanese Journal of Applied Physics   54 ( 5S )   05EA02-1 - 05EA02-4   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Agglomeration and diffusion in Cu thin films under supercritical CO2 annealing 査読

    Yoshiki Nakamura, Mitsuhiro Watanabe, and Eiichi Kondoh

    Japanese Journal of Applied Physics   54 ( 5S )   05EA03-1 - 05EA03-4   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Formation of zinc oxide thin film using supercritical fluids and its application in fabricating a reliable Cu/glass stack 査読

    Mitsuhiro Watanabe, Shigeaki Tamekuni, and Eiichi Kondoh

    Microelectronic Engineering   141 ( 6 )   184 - 187   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Dispersion measurement of the electro-optic coefficient r22 of the LiNbO3 crystal with Mueller matrix spectropolarimetry 査読

    Lianhua Jin, Kouhei Nara, Kuniharu Takizawa, and Eiichi Kondoh

    Japanese Journal of Applied Physics   54 ( 7 )   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Supercritical CO2 reactor for wafer-scale thin film deposition: reactor concept, numerical results, and Cu deposition 査読 重要な業績

    Eiichi Kondoh, Takahiro Ueno, Shuhei Kurita, Mitsuhiro Watanabe, Satoshi Yamamoto, and Tatsuo Suemasu

    The Journal of Supercritical Fluids   591 ( 9 )   13 - 17   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Fabrication of a Cu/Ni stack in supercritical carbon dioxide at low-temperature 査読

    Md Rasadujjaman,Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudoh, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh

    Thin Solid Films   591 ( 9 )   13 - 17   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Correction of large retardation window effect for ellipsometry measurements using quasi-Newton method 査読

    Lianhua Jin, Syouki Kasuga, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz

    Applied Optics   54 ( 10 )   2991 - 2998   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 塗布法によって堆積したZnO薄膜を用いたCu/ガラス構造の密着性向上ならびにその形成条件の検討 査読

    渡邉満洋, 小池光海, 近藤英一

    表面技術   66 ( 11 )   534 - 539   2015年

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • In situ imaging ellipsometer using a LiNbO3 electrooptic crystal 査読

    Lianhua Jin, Yusuke Wakako, Kuniharu Takizawa, Eiichi Kondoh

    Thin Solid Films   571   532 - 537   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Improvement of adhesion and interfacial diffusion behavior in Cu/glass structures using OsOx layers for microelectromechanical systems 査読

    Mitsuhiro Watanabe and Eiichi Kondoh

    Microelectronic Engineering   120 ( 5 )   59 - 66   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Room-temperature intermixing for adhesion enhancement of Cu/SiO2 interface by adopting SiO2 surface dope and noble metal catalyzation 査読 重要な業績

    Mitsuhiro Watanabe, Akira Teraoka, and Eiichi Kondoh

    Japanese Journal of Applied Physics   53 ( 5 )   05GA02-1 - 05GA02--6   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Cu coating inside small (15um) and ultrahigh-aspect-ratio (> 130) through-holes using supercritical CO2 fluid 査読 重要な業績

    Mitsuhiro Watanabe, Yuto Takeuchi, Takahiro Ueno, Eiichi Kondoh, Satoshi Yamamoto, Naohiro Kikukawa, and Tatsuo Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics   53 ( 5 )   05GA08-1 - 05GA08--7   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Codeposition of Cu/Ni thin films from mixed precursors 査読

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, and Eiichi Kondohprecursors in supercritical carbon dioxide solutions

    Japanese Journal of Applied Physics   53 ( 5 )   05GA07-1 - 05GA07-5   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Design of a Multi-Wafer Reactor for Supercritical Fluid Deposition of Cu in Mass Production: (1) Reaction Mechanism and Kinetics 査読

    Takeshi Momose, Masakazu Sugiyama, Eiichi Kondoh and Yukihiro Shimogaki

    Journal of Chemical Engineering of Japan   47 ( 9 )   737 - 742   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • In situ observation of Pt deposition process by using spectroscopic ellipsometry 査読

    Toshiaki Goto, Mitsuhiro Watanabe, Lianhua Jin, and Eiichi Kondoh

    Microelectronic Engineering   121 ( 6 )   39 - 41   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Nanohole Coat/Fill with Pt via Chemical Deposition in Supercritical Fluids 査読

    Eiichi Kondoh, Toshiaki Goto, and Mitsuhiro Watanabe

    Key Engineering Materials   617   184 - 186   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Copper deposition in microporous silicon using supercritical fluid 査読

    Lianhua Jin, Toshifumi Oya, Shigeaki Tamekuni, Mitsuhiro Watanabe, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz

    Thin Solid Films   567 ( 9 )   82 - 86   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Nickel filling in nanofeatures using supercritical fluid and its application to fabricating a novel catalyst structure for continuous growth of nanocarbon fibers 査読

    Mitsuhiro Watanabe, Kazuma Osada, Eiichi Kondoh, Soichiro Okubo, Takeshi Hikata, and Akira Nakayama

    APL Materials   2 ( 10 )   100701   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Design of a Multi-Wafer Reactor for Supercritical Fluid Deposition of Cu in Mass Production: (2) Benchmarks for Single- and Multiple-Wafer Reactors 査読

    Takeshi Momose, Masakazu Sugiyama, Eiichi Kondoh and Yukihiro Shimogaki

    Journal of Chemical Engineering of Japan   47 ( 9 )   743 - 749   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • General window correction method for ellipsometry measurements 査読

    Lianhua Jin, Syouki Kasuga, and Eiichi Kondoh

    Optics Express   22 ( 23 )   27811 - 27820   2014年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 自己集積化ナノリソグラフィを利用したSiナノホールアレイ形成とCu埋め込み 査読

    藤英一，玉井架，松村道雄

    表面技術   64 ( 12 )   659 - 661   2013年12月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • 超臨界流体を利用した生体組織のメタライズ 査読

    近藤英一, 望月裕文, 渡邉満洋

    表面技術   64 ( 8 )   365 - 368   2013年8月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Supercritical fluid deposition of copper into mesoporous silicon 査読

    L. Jin, E. Kondoh, T. Oya, B. Gelloz

    Thin Solid Films   545   357 - 360   2013年8月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Adhesion Strength and Microstructure of Cu/Ni/OsOx/glass Structure for Highly-Reliable Cu Interconnection 査読

    Mitsuhiro Watanabe and Eiichi Kondohd Lianhua Jin

    Materials Research Society (MRS) Online proceedings Library,   1559   2013年8月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

    On line only

  • Correction of large birefringent effect of windows for in-situ ellipsometry measurements 査読

    L. Jin and E. Kondoh

    Optics Letters   39 ( 6 )   1549 - 1552   2013年6月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Room-Temperature Formation of a ZnO-Based Adhesion Layer for Nanoprecision Cu/Glass Metallization 査読

    Akira Teraoka, Mitsuhiro Watanabe, Yoichi Nabetani, and Eiichi Kondoh

    Japanese Journal of Applied Physics　   52 ( 5 )   05FB04-1 - 05FB04-6   2013年5月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Fast Imaging Ellipsometer Using a LiNbO3 Electrooptic Crystal 査読

    Lianhua Jin , Riyouma Yagi, Kuniharu Takizawa, and Eiichi Kondoh

    Japanese Journal of Applied Physics　   52   036702-1 - 036702-7   2013年2月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Effects of surface modification of carbon nanotube on platinum nanoparticle deposition using supercritical carbon dioxide fluid 査読

    Mitsuhiro Watanabe, Tatsunori Akimoto, and Eiichi Kondoh

    Phys. Status Solidi A   209 ( 12 )   2514 - 2520   2012年9月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Resonance Properties of Surface Acoustic Wave Resonator in Supercritical CO2 査読

    Shoji Kakio, Katsuhiro Hayashi, and Eiichi Kondoh

    Japanese Journal of Applied Physics　   51   07GC18-1 - 07GC18-4   2012年7月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Birefringence Polarimeter Using Dual LiNbO3 Electrooptic Crystal Modulators 査読

    Takeshi Saitou, Muhammad Nurdin Bin, Hiroyuki Kowa, Norihiro Umeda, Kuniharu Takizawa, Eiichi Kondoh, and Lianhua Jin

    Japanese Journal of Applied Physics　   51   086801-1 - 086801-5   2012年7月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 超臨界CO2中堆積法を利用した活性炭表面へのPtナノ粒子担持 査読

    秋本　竜昇，渡邉　満洋，近藤　英一

    表面技術   63 ( 6 )   365 - 368   2012年6月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Conformal Copper Coating of True Three-Dimensional Through-Holes Using Supercritical Carbon Dioxide 査読

    M. Watanabe, Y. Takeuchi, T. Ueno, M. Matsubara, E. Kondoh, S. Yamamoto, N. Kikukawa, and T. Suemasu

    Japanese Journal of Applied Physics　   51   05EA01-1 - 05EA01-5   2012年5月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • In-situ Spectroscopic Ellipsometry of the Cu Deposition Process from Supercritical Fluids: Evidence of an Abnormal Surface Layer Formation 査読

    T. Sasaki, Y. Tamegai, T. Ueno, M. Watanabe, L. Jin, and E. Kondoh

    Japanese Journal of Applied Physics　   51   05EA02-1 - 05EA02-11   2012年5月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Behavior of Surface Acoustic Wave Resonators in Supercritical CO2 査読

    Shoji Kakio,Katsuhiro Hayashi,Eiichi Kondoh,Yasuhiko Nakagawa

    Japanese Journal of Applied Physics　   50   07HD0 - 07HD1   2011年7月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • In-situ ellipsometry of porous low-dielectric constant films in supercritical carbon dioxide 査読

    Eiichi Kondoh,Shosaku Aruga

    Microelectronic Engineering   88   623 - 626   2011年5月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Theoretical Analysis for the Fast Birefringence Measurement System using Dual Electro-optic Crystal Modulators 査読

    L.Jin,Y. Masamura,E. Kondoh,H. Kowa,K. Takizawa

    Journal of the Japanese Society for Experimental Mechanics   ss198 - ss203   2011年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 359 高速複屈折計測システムの理論解析(計測制御)

    齋藤 壮, 金 蓮花, 近藤 英一, 高和 宏行, 滝沢 國治

    山梨講演会講演論文集 : Yamanashi district conference   2010   90 - 91   2010年10月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   出版者・発行元：一般社団法人日本機械学会  

    高速複屈折測定技術において,異なる周波数で駆動する2つのYカットZ伝搬(Y-Z)LiNbO_3(LN)電気光学結晶を用いる方法を紹介する.また,変調振幅及びベッセル関数の次数がこれらの周波数比の決定に大きく影響されることを理論解析によって明らかにする.

    CiNii Books

  • 化学工学年鑑2009（§9.5 材料製造）

    近藤英一（分担）

    73 ( 10 )   517 - 517   2010年10月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • 超臨界流体での化学的薄膜堆積－なせ被覆性・充填性に優れているのか－

    近藤英一

    表面技術   61 ( 8 )   566 - 570   2010年8月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Initial Cu Growth in Cu-Seeded and Ru-Lined Narrow Trenches for Supercritital Fluid Cu Chemical Deposition 査読

    Eiichi　Kondoh,Masahiro　Matsubara,Kakeru　Tamai,Yukihiro　Shimogaki

    Japanese Journal of Applied Physics　   49 ( 6 )   05FA7 - 05FA9   2010年5月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 超臨界流体を用いたCu薄膜の作製と半導体素子の配線・実装応用

    近藤英一,松原正弘

    JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OD JAPAN   2009年10月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • 3次元集精機回路電極用Siマイクロ孔内側壁に超臨界流体を利用してCuを堆積した際の被覆特性の検討

    近藤英一,松原正弘

    表面技術   60 ( 8 )   533 - 539   2009年8月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Kinetics of Deposition of Cu Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solutions from a F-Free Copper(II) beta-Diketonate Complex 査読 重要な業績

    Masahiro Matsubara,Michiru Hirose,Kakeru Tamai,Yukihiro Shimogaki,Eiichi Kondoh

    Journal of Electrochemical Society   156 ( 6 )   443 - 447   2009年6月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 超臨界流体を用いた極微細孔構造体への金属充填技術

    近藤　英一

    ケミカルエンジニアリング   386 - 391   2009年

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Topography-sensitive copper deposition in supercritical solutions 査読

    E.Kondoh,K.Nagano,C.Yamamoto,J.Yamanaka

    Microelectronic Engineering　86   902 - 905   2009年

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 3次元集精機回路電極用Siマイクロ孔内側壁に超臨界流体を利用してCuを堆積した際の被覆特性の検討 査読

    近藤英一,松原正弘

    表面技術   60 ( 8 )   533 - 539   2009年

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • 超臨界流体でＩＣを加工

    山梨日日新聞   2008年10月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Conformal Deposition and Gap-Filling of Copper into Ultranarrow Patterns by Supercritical Fluid Deposition 査読

    Takeshi Momose,Masakazu Sugiyama,Eiichi Kondoh,Yukihiro Shimogaki

    Applied Physics Express   1   1 - 3   2008年9月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 超臨界流体中薄膜エリプソメトリ

    近藤英一

    Ｊａｓｃｏ　ｒｅｐｏｒｔ   18 - 21   2008年9月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Deposition of Zinc Oxide Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solutions 査読

    Eiichi Kondoh,Kenji Sasaki,Yoichi Nabetani

    Applied Physics Express   1   1 - 3   2008年6月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Deposition Kinetics and Narrow-Gap-Filling in Cu Thin Film Growth from Supercritical Carbon Dioxide Fluids 査読

    Eiichi Kondoh,Junpei Fukuda

    Journal of Supercritical Fluids   44   466 - 474   2008年5月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Condensation and cleaning of an organometallic copper compound to/from porous low-dielectric constant thin films in supercritical carbon dioxide 査読

    E. Kondoh,E. Ukai,S. Aruga

    Physica status solidi (c)   5   1219 - 1222   2008年5月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術とMEMS・NEMSプロセス応用

    近藤英一

    Material Stage   7 ( 5 )   21 - 24   2007年8月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

    ISSN 13463926

  • Novel topography-sensitive bottom-up growth of ruthenium and copper for filling nano-features using supercritical CO2 fluids: beyond scalability 査読

    Kondoh, E.,Hirose, M.,Ukai, E.,Nagano, K.:

    Mater. Res. Soc. Symp. Proc.   992   1 - 6   2007年5月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Cu thin film deposition from supercritical carbon dioxide fluids using a flow-type depositon proecessor 査読

    E. Kondoh,M. Hirose,J. Fukuda

    Proc. Advanced Metallization Conference 2006   91 - 95   2007年4月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Reduction of thin oxidized copper films using a hot-filament hydrogen radical source 査読 重要な業績

    E. Kondoh,M. Fukasawa,Ojimi

    J. Vac. Sci. Technol.A   25 ( 3 )   415 - 420   2007年3月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • "Low-k materials face damages induced by mismatch of thermal expansion around the global bus lines when operation frequency is high

    H. Kato,T. Yoshida,T. Tatsuta,E. Kondoh

    Proceedinsg of Advanced Metallization Conference 2006 (MRS, PA, 2007), pp.489-493   2007年2月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Cu thin film deposition from supercritical carbon dioxide fluids using a flow-type depositon proecessor

    E. Kondoh,M. Hirose,J. Fukuda

    Proceedinsg of Advanced Metallization Conference 2006 (MRS, PA, 2007), pp.91-95   2007年2月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Nanostructure formation using supercritical fluids

    Eiichi Kondoh,Michiru HiroseEiichi Ukai

    Proceedings of the 8th Internatilanl Symposium on Supercritical Fluids, Nov. 5-8, 2006, Kyoto Intnl Conf Hall, Kyoto Japan, paper OB-3-02 (CD-ROM)   2006年11月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • "A noise-free and jitterless cavity system to distribute clocks over 10GHz 査読

    H. Kato,T. Kohori,E. Kondoh,T. Akitsu

    IEEE Trasn. On Microwave Theory and Techniques   54 ( 11 )   3960 - 3967   2006年11月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤英一

    表面技術   57 ( 10 )   695 - 7--   2006年6月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • How to deliver a high-frequency clock over 100GHz using common BEOL Technologies

    H. Kato, T. Kohori, K. Watanabe, Y. Kodaira, E. Kondoh, T. Akitsu, and H. Kato

    Proc. Advanced Metaliization Conference (Oct. 13-14, Tokyo, 2005, pp.165-170 2006/2   2006年2月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Characteristics of Copper Deposition in a Supercritical CO2 Fluid 査読

    E. Kondoh

    Thin Solid Films, Volume 491, Issues 1-2, 22 November 2005, Pages 228-234   1 ( 1 )   1 - 2   2005年11月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Deposition of Ru Thin Films from Supercritical Carbon Dioxide Fluids 査読 重要な業績

    E. Kondoh

    Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 44, No. 7B, p. 5799-5802   1 ( 1 )   1 - 2   2005年7月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Futures of microcavity to distribute high-frequency clock over than 10GHz

    T. Kohori, H. Kato, E. Kondoh, and T. Akitsu

    Proc. 2004 Advanced Metallization Conference, in press (2005)   2005年2月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • その他の発表論文の標題

    近藤英一

    日本機械学会誌 Vol. 107, No. 1032, p. 45   2004年11月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Control of selective and blanket ruthenium film deposition chemistry in supercritical CO2 fluid chemical deposition

    E. Kondoh

    Proc. 2004 International Microprocess and Nanotechnology Conference, p. 48--49 2004   2004年10月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Barrier/Copper Direct Deposition Possibility using Supercritical Carbon Dioxide Fluid (invited)

    E. Kondoh

    Proc. 21st International VLSI Multilevel Interconnection Conference (Sep 30/Oct 1, Hawaii), p.17-18. 2004   2004年9月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

    invited

  • その他の発表論文の標題

    記事

    Semiconductor FPD World, Vol. 23, No.9, pp. 44-47   2004年9月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Deposition of Cu and Ru thin films in deep nanotrenches/holes using supercritical carbon dioxide 査読 重要な業績

    E. Kondoh

    Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 43, No. 6B, p. 3928-3933.   1 ( 1 )   1 - 2   2004年6月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • その他の発表論文の標題

    近藤英一

    クリーンテクノロジー Vol. 14, No. 6, pp. 55-58.   2004年6月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Direct Deposition of Cu\Barrier Stacks on Dielectric/Nonconductive Layers using Supercritical CO2

    E. Kondoh, M. Hishikawa, M. Yanagihara, and K. Shigama

    Proc. 2004 IEEE International Interconnect Technology Conference, p.33 2004   2004年5月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Nanoscale Deposition in Supercritical Fluids, Cu Metallization Process and Barrier Metal Deposition Possibility

    E. Kondoh, M. Hishikawa, K. Shigama

    Proc. Advanced Metallization Conference 2003, (Oct. 21-23, Montreal, Canada / Tokyo, 2003.), p. 583-588. 2004   2004年2月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Noise free and jitter-less clock distribution method for high-frequency system using microcavity

    H. Kato, E. Kondoh, T. Akitsu, T. Kobori and H. Morishita

    Proc. Advanced Metallization Conference 2003, (Oct. 21-23, Montreal, Canada / Tokyo, 2003.), p. 65-68 2004   2004年2月

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Metal Filling in Deep Nano Trechnces/Holes using Supercritical Carbon Dioxide

    E. Kondoh

    Proc. 2003 International Microprocess and Nanotechnology Conference, p. 42 2003   2003年10月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • その他の発表論文の標題

    新聞記事

    山梨日日新聞　Ｈ１５年５月３日　   2003年5月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Paving the Way for Full-Fluide IC Metallization using Supercritical Carbon Dioxide

    E. Kondoh, V. Vezin, K. Shigama, S. Sunada, K. Kubo, and T. Ohta

    Proc. 2003 IEEE International Interconnect Technology Conference, p. 141, 2003.   2003年5月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • その他の発表論文の標題

    新聞記事

    日本工業新聞　Ｈ１５年４月２１日   2003年4月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Copper Deposition Characteristics from a Supercritical CO2 Fluid

    E. Kondoh

    Proc. Advanced Metallization Conference 2002, Sep. 29-Oct. 1, San Diego/Tokyo, 2002.   2002年9月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Characteristics of copper deposition in a supercritical CO2 fluid 査読

    E. Kondoh and H. Kato

    Microelectronic Engineering, Vol. 64, No. 1-4, p 495-499   1 ( 1 )   1 - 2   2002年7月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • 多孔質低誘電率薄膜の微細構造

    近藤英一

    応用物理   70 ( 5 )   546 - 549   2001年5月

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：日本語   掲載種別：（MISC）総説・解説（学術雑誌）  

  • Comparative Study of Porous SOG Films with Different Non-destructive Instrumentation,

    M.R. Baklanov, E.Kondoh, E.K.Lin,

    2001年5月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Comparative study of pore size of low-dielectric-constant porous spin-on-glass films using different methods of nondestructive instrumentation 査読

    E. Kondoh, M. R. Baklanov, E. Lin, D. Gidley, and A. Nakashima

    Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 40, No. 4A, pp.L323-L326   1 ( 1 )   1 - 2   2001年4月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Change of Refractive Index and Thickness of Porous Spin-on-Glass Films during Exposure to Ar, O2, and H2 plasma 査読

    E. Kondoh

    Eurasina ChemTech Journal, Vol. 2, 245-250   1 ( 1 )   1 - 2   2001年2月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Adhesion and Texture of Cu-1 mass% Thin Films Deposited on Polyimide 査読

    E. Kondoh

    Journal of Japan Institute of Metals, Vol. 64, No. 9, 715-718   1 ( 1 )   1 - 2   2000年9月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Wafer Thermal Desorption Spectrometry in a Rapid Thermal Processing Reactor Using Atmospheric Pressure Ionization Mass Spectrometry 査読

    G. Vereecke, E. Kondoh, P. Richardson, K. Maex, M.M. Heyns, and Z. Nenyei.

    IEEE Trans. Semicon. Manufacturing, Vol. 13, No.3, pp.315-321. (Piscataway, NJ)   1 ( 1 )   1 - 2   2000年8月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Application of in-line oxygen monitoring to a rapid thermal processing tool: diagnosing gas flow dynamics and silicidation processes 査読

    E. Kondoh, M. R. Baklanov, and K. Maex

    Materials Science in Semiconductor Processing, Vol 2, No. 4, pp.341-348.   1 ( 1 )   1 - 2   2000年7月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Dehydration after plasma oxidation of porous low-dielectric-constant spin-on-glass films 査読

    E. Kondoh, T. Asano, H. Arao, A. Nakashima, and M. Komatu

    Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 39, No. 7A, pp.3919-3923   1 ( 1 )   1 - 2   2000年7月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Effect of Oxygen Plasma Exposure of Porous Spin-On-Glass Films 査読

    E. Kondoh, T. Asano, A. Nakashima, and M. Komatsu

    Journal of Vacuum Science and Technology, Vol. B18, No. 3, pp.1276-1280.   1 ( 1 )   1 - 2   2000年5月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Material characterization of Cu(Ti)-polyimide thin film stacks 査読

    E. Kondoh

    Thin Solid Films, Vol. 359, No. 2, pp. 255-260.(Amsterdam)   1 ( 1 )   1 - 2   2000年1月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • A chemical role of refractory metal caps in Co silicidation: Evidence of SiO2 reduction by Ti cap 査読

    E. Kondoh, T. Conard, S. J. W. Vandervorst, H. Bender, M. de Potter, and K. Maex

    Journal of Materials Research, Vol. 14, No. 11, pp. 4402-4408.(Pittsburgh, PA)   1 ( 1 )   1 - 2   1999年11月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • Measurements of trace ambient gaseous impurities on an atmospheric pressure rapid thermal processor 査読

    E. Kondoh, G. Vereecke, M. M. Heyns, K. Maex, and T. Gutt

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   17 ( 2 )   650 - 656   1999年( ISSN：0734-2101 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Process integration induced thermodesorption from SiO2/SiLK resind dielectric based interconnects 査読

    M. R. Baklanov, M. Muroyama, M. Judelewicz, E. Kondoh, H. Li, J. Waeterloos, S. Vanhaelemeersch, and K. Maex

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B   17 ( 5 )   2136 - 2146   1999年( ISSN：1071-1023 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • X-ray photoelectron spectroscopy and time-of-flight secondary ion mass spectrometry study of the role of Ti and TiN caps on the cobalt/SiO2 interface 査読

    T. Conard, E. Kondoh, H. De Witter, K. Maex, and W. Vandervorst

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   17 ( 4 )   1244 - 1249   1999年( ISSN：0734-2101 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Self-Aligned CoSi2 for 0.18 um and Below 査読

    K. Maex, A. Lauwers, P. Besser, E. Kondoh, M. de Potter, and A. Steegen

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES   46 ( 7 )   1545 - 1550   1999年( ISSN：0018-9383 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Characterization of HF Cleaning of Ion-Implanted Si Surfaces 査読

    E. Kondoh, M. R. Baklanov, and K. Maex

    Solid State Phenomena   65/66   271 - 274   1999年

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Oxidation and roughening of silicon during annealing in a rapid thermal processing chamber 査読

    B. Mohadjeri, M. Baklanov, E. Kondoh, and K. Maex

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   83 ( 7 )   3614 - 3619   1998年

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Structural Change in Porous Silica Thin Films after Plasma Treatment 査読

    E. Kondoh, M. R. Baklanov, H. Bender, and K. Maex

    Electrochemical and Solid State Letters   1 ( 5 )   224 - 226   1998年

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Interaction between Co and SiO2 査読

    E. Kondoh, R. A. Donaton, S. Jin, H. Bender, and K. Maex

    APPLIED SURFACE SCIENCE   136 ( 1/2 )   87 - 94   1998年

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Characterization of HF-last cleaning of ion-implanted Si surfaces 査読

    E. Kondoh, M. R. Baklanov, F. Jonckx, and K. Maex

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   1 ( 2 )   107 - 117   1998年

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Limitation of HF-Based Chemistry for Deep-Submicron Contact Hole Cleaning on Silicides 査読

    M. R. Baklanov, E. Kondoh, R. A. Donaton, S. Vanhaelemeersch, and K. Maex

    JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY   145 ( 9 )   3240 - 3246   1998年

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Critical role of degassing for hot aluminum filling 査読

    J. Proost, E. Kondoh, G. Vereecke, M. Heyns, and K. Maex

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B   16 ( 4 )   2091 - 2098   1998年( ISSN：1071-1023 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Interactions at interface between Cu99Ti1 films and polyimide 査読

    E. Kondoh, T.-P. Nguyen, D. Plachke, H. Carstanjen, and E. Arzt

    APPLIED PHYSICS LETTERS   70 ( 10 )   1251 - 1252   1997年

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Chemical vapor deposition of aluminum from dimethylaluminumhydride (DMAH): Characteristics of DMAH vaporization and Al growth kinetics 査読

    E. Kondoh and T. Ohta

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   14 ( 6 )   2863 - 2871   1996年( ISSN：0734-2101 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語  

  • 選択Al‐CVD法によるAl/Al直接接続ビア埋め込み技術の開発

    太田与洋，竹安伸行，近藤英一，河野有美子，山本浩

    まてりあ   34 ( 6 )   780 - 782   1995年6月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   掲載種別：（MISC）総説・解説（学術雑誌）  

  • ダイヤモンド気相合成の速度論および結晶成長に関する研究 査読

    近藤英一

    学位論文(京都大学）   1 ( 1 )   1 - 2   1995年

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：日本語  

  • メタライゼーション―Alの可能性を探る 第2部 ビア/コンタクトホールの信頼性 選択Al‐CVD法とEM耐性

    河野有美子，近藤英一，竹安伸行，太田与洋

    月刊Semiconductor World   1994   1994年12月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   掲載種別：（MISC）機関テクニカルレポート，プレプリント等  

  • 高度なCVDパラメータ制御性を有する熱フィラメント法によるダイヤモンド合成

    近藤英一，太田与洋

    New Diamond   1994 ( 1 )   13 - 19   1994年1月

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語   掲載種別：（MISC）総説・解説（学術雑誌）  

  • Characterization of direct-contact via plug formed by using selective aluminum chemical vapor deposition 査読

    N. Takeyasu, Y. Kawano, E. Kondoh, T. Katagiri, H. Yamamoto, H. Shinriki, and T. Ohta

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   33 ( 1B )   424 - 428   1994年( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Effect of gas-phase composition on the surface morphology of polycrystalline diamond films 査読

    E. Kondoh, T. Ohta, T. Mitomo, and K. Ohtsuka

    DIAMOND AND RELATED MATERIALS   3   270 - 276   1994年( ISSN：0925-9635 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者,　責任著者   記述言語：英語  

  • Surface reaction kinetics of gas-phase diamond growth 査読

    E. Kondoh, T. Ohta, T. Mitomo, and K. Ohtsuka

    Journal of Applied Physics, Vol. 73, No. 6, pp. 3041-3046.(College Park, MD)   1 ( 1 )   1 - 2   1993年7月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

  • CVDダイヤモンド形成条件下でのマイクロ波プラズマCVD法のin‐situ観測

    太田与洋，近藤英一，三友亨

    New Diamond   9 ( 2 )   17 - 24   1993年4月

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   掲載種別：（MISC）総説・解説（学術雑誌）  

  • Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Aluminum-Copper Alloy Films 査読

    T. Katagiri, E. Kondoh, N. Takeyasu, T. Nakano, H. Yamamoto, and T. Ohta

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   32 ( 8A )   L1078 - L1080   1993年( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

  • Interconnection Formation by Doping Chemical-Vapor-Deposition Aluminum with Copper Simultaneously: Al-Cu CVD 査読

    E. Kondoh, Y. Kawano, N. Takeyasu, and T. Ohta

    JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY   141 ( 12 )   3494 - 3499   1993年( ISSN：0013-4651 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語   掲載種別：研究論文（学術雑誌）  

  • Reactive-flow simulation of the hot-filament chemical-vapor deposition of diamond 査読

    E. Kondoh, K. Tanaka, and T. Ohta

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   74 ( 7 )   4513 - 4520   1993年( ISSN：0021-8979 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語  

  • Homoepitaxial growth of diamond by an advanced hot- filament chemical vapor deposition method 査読

    E. Kondoh, K. Tanaka, and T. Ohta

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   74 ( 3 )   2030 - 2035   1993年( ISSN：0021-8979 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者,　最終著者,　責任著者   記述言語：英語  

  • Thermal Chemical Vapor Deposition of Diamond from Methane-Hydrogen Gas System Pyrolized at Low Temperature (1450 °C) 査読

    E. Kondoh, T. Ohta, T. Mitomo, and K. Ohtsuka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   31 ( 12B )   L1781 - L1784   1992年( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語  

  • Experimental and calculational study on diamond growth by an advanced hot filament chemical vapor deposition method 査読

    E. Kondoh, T. Ohta, T. Mitomo, and K. Ohtsuka

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   72 ( 2 )   705 - 711   1992年( ISSN：0021-8979 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語  

  • Reflection High-Energy Electron Diffraction Observation of Anti-Phase Domain Ordering of the 2x1 Reconstructed (111) Surface of Chemical-Vapor-Deposited Diamond 査読

    E. Kondoh, K. Tanaka, and T. Ohta

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   32 ( 7A )   L947 - L949   1992年( ISSN：0021-4922 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語  

  • 一方向凝固させたFe-C共晶合金の固液界面形状に及ぼすSの影響 査読

    近藤英一 中江秀雄

    日本金属学会誌   55 ( 4 )   437 - 443   1991年4月

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語  

  • 基板温度精密制御熱フィラメント法によるダイヤモンドの気相合成 査読

    近藤 英一 太田 与洋 三友 亨 大塚 研一

    表面科学   12 ( 5 )   336 - 338   1991年

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：日本語  

  • Determination of activation energies for diamond growth by an advanced hot filament chemical vapor deposition method 査読

    E. Kondoh, T. Ohta, T. Mitomo, and K. Ohtsuka

    APPLIED PHYSICS LETTERS   59 ( 4 )   488 - 490   1991年( ISSN：0003-6951 )

    　詳細を見る

    担当区分：筆頭著者   記述言語：英語  

  • An Investigation of product distributions in microwave plasma for diamond growth 査読

    T. Mitomo, T. Ohta, E. Kondoh, and K. Ohtsuka

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   70 ( 8 )   4532 - 4539   1991年( ISSN：0021-8979 )

    　詳細を見る

    記述言語：英語  

▼全件表示

書籍等出版物

  • Micro- and Nanofabrication for Beginners 重要な業績

    （ 担当： 単著）

    Jenny Stanford Publishing  2021年6月  （  ISBN:9789814877091 ）

    　詳細を見る

    記述言語：英語   著書種別：学術書

  • Micro- and Nanofabrication for Beginners

    Eiichi Kondoh（ 担当： 単著）

    Jenny Stanford Publishing  2021年6月  （  ISBN:9789814877091 ）

    　詳細を見る

    記述言語：英語   著書種別：学術書

  • 半導体・MEMSのための超臨界流体 重要な業績

    近藤英一（編著）,上野和良,内田寛,曽根正人,生津英夫,服部毅,堀照夫,森口誠（ 範囲: -）

    コロナ社  2012年9月 

    　詳細を見る

    総ページ数：227   担当ページ：-   記述言語：日本語  

  • 半導体・MEMSのための超臨界流体

    近藤英一, 上野和良, 内田寛, 曽根正人, 生津英夫, 服部毅, 堀照夫, 森口誠（ 範囲: -）

    コロナ社  2012年9月 

    　詳細を見る

    総ページ数：227   担当ページ：-   記述言語：日本語  

  • 第3章．5超臨界流体を利用した薄膜堆積技術

    近藤英一（ 範囲: -）

    CMC出版  2008年9月 

    　詳細を見る

    担当ページ：-   記述言語：日本語  

  • 薄膜ハンドブック第2版 重要な業績

    近藤英一（ 範囲: -）

    オーム社  2008年3月 

    　詳細を見る

    担当ページ：-   記述言語：日本語  

  • 超臨界流体中薄膜堆積法　～原理，特徴，差別化要素～ 重要な業績

    近藤英一（ 範囲: -）

    化学工業社  2007年12月 

    　詳細を見る

    総ページ数：175   担当ページ：58-65   記述言語：日本語  

  • 機械・材料系のための　マイクロ・ナノ加工の原理 重要な業績

    近藤英一（ 範囲: -）

    共立出版  2005年10月 

    　詳細を見る

    総ページ数：226   担当ページ：-   記述言語：日本語  

▼全件表示

講演・口頭発表等

  • イメージングエリプソメトリーによる計測可能な最大膜厚

    金 蓮花，北村 賢功，近藤 英一，ジェローズ ベルナール

    第84回応用物理学会秋季学術講演会  2023年9月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Cu 表面における SAM 膜形成の in-situ エリプソメトリ評価

    神保宏務，近藤英一

    表面技術協会第148回講演大会  2023年9月  表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2023年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界CO2を用いた Ni エッチングの温度・エッチャント濃度依存性

    竹内創太, 近藤英一

    第 87 回半導体・集積回路技術シンポジウム  2023年8月  電気化学会電子材料委員会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2023年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京  

  • “Reflection and transmission ellipsometry measurement under incoherent superposition of light 国際会議

    Yoriatsu Kitamura, Sota Mogi, Tsutomu Muranaka, Keisuke Arimoto, Eiichi Kondoh, Lianhua Jin, and Bernard Gelloz

    Optical Technology and Measurement for Industrial Applications Conference  2023年4月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    DOI： 10.1117/12.3005554

  • 透過型ミューラー行列顕微鏡による薄膜膜厚分布計測

    長瀬 仁，北村 賢功，有元 圭介，近藤 英一，金 蓮花，ジェローズ ベルナール

    第70回応用物理学会春季学術講演会(2023年3月15－18日), 上智大学　四谷キャンパス  2023年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2023年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

  • ドライプロセスへの超臨界CO2流体の応用

    化学工学会CVD反応分科会 第9回講演会  2022年6月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2022年6月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • Reflection and Transmission Ellipso-Microscopy 国際会議

    Lianhua Jin, Sota Mogi, Yoriatsu Kitamura, Tsutomu Muranaka, Keisuke Arimot, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz

    The 9th International Conference on Spectroscopic Ellipsometry (ICSE-9), , May 22-28, 2022.  2022年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2022年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • 反射・透過型エリプソメトリーによる薄膜厚計測

    茂木 壮太，有元 圭介，近藤 英一，金 蓮花，ジェローズ ベルナール

    第69回応用物理学会春季学術講演会  2022年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：青山学院大学 相模原キャンパス  

  • 反射・透過型エリプソメトリーによる薄膜厚計測

    茂木 壮太, 有元 圭介, 近藤 英一, 金 蓮花, ジェローズ ベルナール

    第69回応用物理学会春季学術講演会  2022年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：青山学院大学 相模原キャンパス  

  • 超臨界CO2金属エッチングの温度・エッチャント濃度依存性

    竹内 創太、近藤 英一

    電気化学会第89回大会  2022年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2022年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：オンライン  

  • 超臨界CO2金属エッチングの温度・エッチャント濃度依存性

    竹内 創太, 近藤 英一

    電気化学会第89回大会  2022年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：オンライン  

  • 甲斐江戸期梵鐘の非破壊成分分析の試み

    近藤英一

    山梨講演会  2021年11月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 甲斐江戸期梵鐘の非破壊成分分析の試み

    近藤英一

    山梨講演会  2021年11月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • In-situ ellipsometric measurements of surface layer formation on Co in aqueous solutions corrosion inhibitor and oxidizer 国際会議

    Eiichi Kondoh, Shota Takeuchi, Lianhua Jin,Ryota Koshino, Satomi Hamada, Shohei Shima, Hirokuni Hiyama

    Advanced Metallization Conference Asian Session (ADMETA plus 2021)  2021年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  • In-situ ellipsometric measurements of surface layer formation on Co in aqueous solutions corrosion inhibitor and oxidizer 国際会議

    Eiichi Kondoh, Shota Takeuchi, Lianhua Jin, Ryota Koshino, Satomi Hamada, Shohei Shima, Hirokuni Hiyama

    Advanced Metallization Conference Asian Session (ADMETA plus 2021)  2021年10月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Virtual  

  • 反射・透過型エリプソメトリーによる薄膜厚計測

    金 蓮花，茂木 壮太，村中 司，近藤 英一，ジェローズ ベルナー

    Optics & Photonics Japan 2021  2021年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：オンライン  

  • 反射・透過型エリプソメトリーによる薄膜厚計測

    金 蓮花, 茂木 壮太, 村中 司, 近藤 英一, ジェローズ ベルナー

    Optics & Photonics Japan 2021  2021年10月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：オンライン  

  • 酸化前処理が Co 表面 BTA 層形成に及ぼす影響

    竹内翔太 ，金 蓮花 ，近藤英一，濱田聡美 ，小篠諒太，嶋 昇平 ，檜山浩國

    表面技術協会第144回講演大会  2021年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 酸化前処理が Co 表面 BTA 層形成に及ぼす影響

    竹内翔太, 金 蓮花, 近藤英一, 濱田聡美, 小篠諒太, 嶋 昇平, 檜山浩國

    表面技術協会第144回講演大会  2021年9月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 集積回路配線金属薄膜表面の防食層のエリプソメトリその場解析

    近藤英一

    2021年電気化学秋季大会  2021年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：オンライン  

  • 集積回路配線金属薄膜表面の防食層のエリプソメトリその場解析

    近藤英一

    2021年電気化学秋季大会  2021年9月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：オンライン  

  • Effect of plasma pretreatment of polyimide the microstructures of aluminum in aluminum/polyimide stack formation 国際会議

    Eiichi Kondoh

    Interfinish 2020 (postponed one year)  2021年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  • Copper oxide as Cu/glass adhesion layer and its stability under reduction chemistry 国際会議

    Eiichi Kondoh and Takeshi Ito

    Interfinish 2020 (Postponed one year)  2021年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年9月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  • Copper oxide as Cu/glass adhesion layer and its stability under reduction chemistry 国際会議

    Eiichi Kondoh, Takeshi Ito

    Interfinish 2020 (Postponed one year)  2021年9月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Virtual  

  • Effect of plasma pretreatment of polyimide the microstructures of aluminum in aluminum/polyimide stack formation 国際会議

    Eiichi Kondoh

    Interfinish 2020 (postponed one year)  2021年9月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：Virtual  

  • イメージングエリプソメトリーにおける分解能に関する考察

    第68回応用物理学会春季学術講演会  2021年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：日本語  

    開催地：オンライン  

  • イメージングエリプソメトリーにおける分解能に関する考察

    第68回応用物理学会春季学術講演会  2021年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語  

    開催地：オンライン  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCo表面の保護膜形成過程

    近藤英一 竹内翔太 金蓮花 濵田聡美 小篠諒太, 檜山浩國

    日本機械学会 関東支部　第27期総会・講演会  2021年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Zoom on line  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCo表面の保護膜形成過程

    近藤英一, 竹内翔太, 金蓮花, 濵田聡美, 小篠諒太, 檜山浩國

    日本機械学会 関東支部 第27期総会・講演会  2021年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Zoom on line  

  • H2O2添加BTA, m-BTA水溶液中におけるCo表面上形成過程の比較

    竹内翔太 金 蓮花 近藤英一 濱田聡美 小篠諒太 檜山浩國

    表面技術協会大143回講演大会  2021年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2021年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：山梨大学(Zoom online)  

  • H2O2添加BTA, m-BTA水溶液中におけるCo表面上形成過程の比較

    竹内翔太, 金 蓮花, 近藤英一, 濱田聡美, 小篠諒太, 檜山浩國

    表面技術協会大143回講演大会  2021年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：山梨大学(Zoom online)  

  • 深層学習を用いた画像処理によるイメージングエリプソメータの空間分解能向上の試み

    飯塚 祐基 金 蓮花 近藤 英一 ジェローズ ベルナール

    Optics & Photonics Japan 2020  2020年11月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 深層学習を用いた画像処理によるイメージングエリプソメータの空間分解能向上の試み

    飯塚 祐基, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    Optics & Photonics Japan 2020  2020年11月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Online  

  • Application of Supercritical Carbon Dioxide Fluids to Advanced Metallization 国際会議

    Eiichi Kondoh

    IEEE International Interconnect Technology Conference  2020年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • Application of Supercritical Carbon Dioxide Fluids to Advanced Metallization 国際会議

    Eiichi Kondoh

    IEEE International Interconnect Technology Conference  2020年10月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：On line  

  • Deposition of Ni-Based Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solution Via Flow-Type Reaction System 国際会議

    Sudiyarmanto Eiichi Kondoh

    Pacific rim meeting on electrochemical and solid state science (PRiME)  2020年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Deposition of Ni-Based Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solution Via Flow-Type Reaction System 国際会議

    Sudiyarmanto, Eiichi Kondoh

    Pacific rim meeting on electrochemical and solid state science (PRiME)  2020年10月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：On line  

  • Hydrosilylation of High Porosity Porous Silicon with 1-Hexene in Supercritical CO2 Fluid

    Takura Naoto, Lianhua Jin, Eiichi Kondoh and Bernard Gelloz

    acific Rim Meeting on Electrochemical and Solid State Science 2020 (PRiME 2020)  2020年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Hydrosilylation of High Porosity Porous Silicon with 1-Hexene in Supercritical CO2 Fluid

    Takura Naoto, Lianhua Jin, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz

    acific Rim Meeting on Electrochemical and Solid State Science 2020 (PRiME 2020)  2020年10月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Hawaii, USA / Virtual  

  • BTA-H2O2混合溶液中におけるCo表面層形成のpH依存性

    竹内翔太 金 蓮花 近藤英一 濱田聡美 小篠諒太 嶋 昇平 檜山浩國

    表面技術協会　第142回講演大会  2020年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：名古屋大学（オンライン）  

  • BTA-H2O2混合溶液中におけるCo表面層形成のpH依存性

    竹内翔太, 金 蓮花, 近藤英一, 濱田聡美, 小篠諒太, 嶋 昇平, 檜山浩國

    表面技術協会 第142回講演大会  2020年9月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：名古屋大学（オンライン）  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCu表面とCo表面上の層形成過程の比較

    竹内　翔太 遠山真央 金蓮花 近藤英一 濱田聡美 小篠諒太 嶋昇平 檜山浩國

    半導体集積回路シンポジウム  2020年8月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年8月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：オンライン  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCu表面とCo表面上の層形成過程の比較

    竹内 翔太, 遠山真央, 金蓮花, 近藤英一, 濱田聡美, 小篠諒太, 嶋昇平, 檜山浩國

    半導体集積回路シンポジウム  2020年8月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：オンライン  

  • Design of a spectroscopic imaging ellipsometer 国際会議

    Lianhua Jin, Makoto Uehara, Takashi Iwao, Yuki Iizuka, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz

    Optics & Photonics International Congress 2020, Optical Technology and Measurement for Industrial Applications 2020 (OPTM2020)  2020年4月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年4月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • Design of a spectroscopic imaging ellipsometer 国際会議

    Lianhua Jin, Makoto Uehara, Takashi Iwao, Yuki Iizuka, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz

    Optics & Photonics International Congress 2020, Optical Technology and Measurement for Industrial Applications 2020 (OPTM2020)  2020年4月  SPIE Technologies and Applications of Structured Light, 2020

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：Pasifico Yokohama, Japan  

  • エリプソメトリーを利用した薄膜上ナノ粒子検出

    近藤 英一，高橋 篤史，島田 航暉，鈴木 雄也，金 蓮花 濵田 聡美，小篠 涼太，嶋 昇平，檜山 浩國

    日本機械学会関東支部 第 26 期総会・講演会  2020年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：早稲田大学  

  • エリプソメトリーを利用した薄膜上ナノ粒子検出

    近藤 英一, 高橋 篤史, 島田 航暉, 鈴木 雄也, 金 蓮花, 濵田, 聡美, 小篠 涼太, 嶋 昇平, 檜山 浩國

    日本機械学会関東支部 第 26 期総会・講演会  2020年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：早稲田大学  

  • 1-ヘキセンを⽤いた⾼多孔率ポーラスシリコンの超臨界CO2流体中のヒドロシリル化

    田倉　直人，金 蓮花，近藤 英一，ジェローズ ベルナール

    第67回応用物理学会春季学術講演会  2020年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：上智大学 四ツ谷キャンパス  

  • 1-ヘキセンを⽤いた⾼多孔率ポーラスシリコンの超臨界CO2流体中のヒドロシリル化

    田倉 直人, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    第67回応用物理学会春季学術講演会  2020年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：上智大学 四ツ谷キャンパス  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCo表面その場分光エリプソメトリ測定

    竹内翔太，金 蓮花，近藤英一，濵田聡美，小篠諒太，嶋 昇平，檜山浩國

    表面技術協会第141回講演大会  2020年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2020年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：首都大学東京  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCo表面その場分光エリプソメトリ測定

    竹内翔太, 金 蓮花, 近藤英一, 濵田聡美, 小篠諒太, 嶋 昇平, 檜山浩國

    表面技術協会第141回講演大会  2020年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：首都大学東京  

  • 超臨界CO2流体中の1－ヘキセンを用いたナノクリスタルシリコンのヒドロシリル化日.

    田倉　直人，金 蓮花，近藤 英一，ジェローズ ベルナール

    第四回フォトニクス研究会  2019年11月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：沖縄青年会館  

  • 超臨界CO2流体中の1－ヘキセンを用いたナノクリスタルシリコンのヒドロシリル化日.

    田倉 直人, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    第四回フォトニクス研究会  2019年11月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：沖縄青年会館  

  • 超臨界二酸化炭素流体中における薄膜堆積・表面反応プロセス ～半導体製造応用を視野に～ 招待

    近藤英一

    INCHEM2019  2019年11月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年11月

    記述言語：日本語   会議種別：シンポジウム・ワークショップ パネル（指名）  

    開催地：東京ビックサイト  

  • 超臨界二酸化炭素流体中における薄膜堆積・表面反応プロセス ～半導体製造応用を視野に～ 招待

    近藤英一

    INCHEM2019  2019年11月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：シンポジウム・ワークショップ パネル（指名）  

    開催地：東京ビックサイト  

  • Initial changes of Cu surfaces in H2O2-BTA aqueous solutions studied by using microfluidic reactor 国際会議

    Eiichi Kondoh, Mao Tōyama, Lianhua Jin, Satomi Hamada, Shohei Shima, Hirokuni Hiyama

    Advanced Metallzation Conference Asian Session  2019年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年10月

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

  • Initial changes of Cu surfaces in H2O2-BTA aqueous solutions studied by using microfluidic reactor 国際会議

    Eiichi Kondoh, Mao Tōyama, Lianhua Jin, Satomi Hamada, Shohei Shima, Hirokuni Hiyama

    Advanced Metallzation Conference Asian Session  2019年10月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：The University of Tokyo  

  • マイクロ流通セルを用いたBTA-H2O2混合溶液中におけるCu表面のその場分光エリプソメトリ解析

    近藤英一，遠山真央，濵田聡美，嶋 昇平，檜山浩國

    表面技術協会第140回講演大会  2019年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：福岡工業大学  

  • マイクロ流通セルを用いたBTA-H2O2混合溶液中におけるCu表面のその場分光エリプソメトリ解析

    近藤英一, 遠山真央, 濵田聡美, 嶋 昇平, 檜山浩國

    表面技術協会第140回講演大会  2019年9月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：福岡工業大学  

  • 超臨界流 CO2流体を用いた金属ドライエッチング

    近藤英一

    半導体集積回路シンポジウム  2019年8月  電気化学会電子材料委員会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年8月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東京理科大学森戸記念館  

  • 超臨界流 CO2流体を用いた金属ドライエッチング

    近藤英一

    半導体集積回路シンポジウム  2019年8月  電気化学会電子材料委員会

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

    開催地：東京理科大学森戸記念館  

  • 超臨界流体半導体プロセス応用～薄膜形成・エッチングを中心として～ 招待

    近藤英一

    超臨界流体部会第18回サマースクール  2019年7月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年7月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：秋保リゾートホテルクレセント  

  • 超臨界流体半導体プロセス応用～薄膜形成・エッチングを中心として～ 招待

    近藤英一

    超臨界流体部会第18回サマースクール  2019年7月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：秋保リゾートホテルクレセント  

  • 超臨界流体半導体プロセス応用 招待

    近藤英一

    NEDIA材料部品部会　第二十三回勉強会  2019年6月  一般社団法人　日本電子デバイス産業協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年6月

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：御茶ノ水めっきセンタ  

  • 超臨界流体半導体プロセス応用 招待

    近藤英一

    NEDIA材料部品部会 第二十三回勉強会  2019年6月  一般社団法人 日本電子デバイス産業協会

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：御茶ノ水めっきセンタ  

  • Etching, photoetching of porous silicon in hydrofluoric acid studied by photoconduction and monochromatic light 国際会議

    Gelloz, H. Fuwa, E. Kondoh, and L. Jin

    3rd International Symposium on Anodizing Science and Technology (AST2019)  2019年6月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年6月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Etching, photoetching of porous silicon in hydrofluoric acid studied by photoconduction and monochromatic light 国際会議

    Gelloz, H. Fuwa, E. Kondoh, L. Jin

    3rd International Symposium on Anodizing Science and Technology (AST2019)  2019年6月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Awaji Yumebutai International Conference Center, Awaji Island, Hyogo, Japan, June 2-5, 2019  

  • Oxygen-assisted etching/removal of Pt in supercritical CO2 solutions 国際会議

    Eiichi Kondoh

    Materials Research Society Spring Meetings  2019年4月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年4月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Oxygen-assisted etching/removal of Pt in supercritical CO2 solutions 国際会議

    Eiichi Kondoh

    Materials Research Society Spring Meetings  2019年4月  Materials Research Society

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Phoenix, AZ  

  • １-ヘキセン分子を用いたポーラスシリコンの圧力制御ヒドロシリル化と発光安定性

    入山 拓未，金 蓮花，近藤　英一，ジェローズ　ベルナール

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京工業大学　大岡山キャンパス  

  • 位相子回転型イメージングエリプソメータのデータ処理

    飯塚 祐基，金 蓮花，近藤　英一，ジェローズ　ベルナール，上原　誠

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京工業大学　大岡山キャンパス  

  • 位相子回転型イメージングエリプソメータのデータ処理

    飯塚 祐基, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール, 上原 誠

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京工業大学 大岡山キャンパス  

  • １-ヘキセン分子を用いたポーラスシリコンの圧力制御ヒドロシリル化と発光安定性

    入山 拓未, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京工業大学 大岡山キャンパス  

  • イメージングエリプソメトリーによるポーラスシリコンの光学定数測定

    秋山 泰輝，飯塚 祐基，金 蓮花，近藤　英一，ジェローズ　ベルナール

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2019年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京工業大学　大岡山キャンパス  

  • イメージングエリプソメトリーによるポーラスシリコンの光学定数測定

    秋山 泰輝, 飯塚 祐基, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京工業大学 大岡山キャンパス  

  • イメージングエリプソメトリーによるナノ結晶シリコンの製作評価

    秋山 泰輝，飯塚 祐基，金 蓮花，近藤 英一，ジェローズ ベルナール

    第三回フォトニクス研究会  2018年12月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：沖縄科学技術大学院大学OIST　シーサイドハウス  

  • イメージングエリプソメトリーによるナノ結晶シリコンの製作評価

    秋山 泰輝, 飯塚 祐基, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    第三回フォトニクス研究会  2018年12月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：沖縄科学技術大学院大学OIST シーサイドハウス  

  • Detection of sub-100 nm particles attached to Si wafers and SiO2/Si wafers by using spectroscopic ellipsometry 国際会議

    E. Kondoh, K. Suzuki, K. Shimada, L. Jin, S. Hamada, S. Shima, H. Hiyama

    Advanced Metallization Conference Asian Session  2018年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Detection of sub-100 nm particles attached to Si wafers and SiO2/Si wafers by using spectroscopic ellipsometry 国際会議

    E. Kondoh, K. Suzuki, K. Shimada, L. Jin, S. Hamada, S. Shima, H. Hiyama

    Advanced Metallization Conference Asian Session  2018年10月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Beijing International Convention Center, Beijing, China  

  • Dimensional measurement of internal profile using the optical caliper 国際会議

    L. Jin, N. Miyatsu, E. Kondoh, B. Gelloz, N. Kanazawa, T. Yoshizawa

    SPIE Photonics Asia 2018  2018年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • Photo-Assisted Etching of Porous Silicon Nanostructures in Hydrofluoric Acid using Monochromatic Ligh 国際会議

    B. Gelloz, H. Fuwa, E. Kondoh, L. Jin

    Americas International Meeting on Electrochemistry and Eolid state science (AiMES2018)  2018年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • Extraction of properties of individual component for the retarder – linear diattenuator – retarder system and its application 国際会議

    L. Jin, E. Kondoh, H. Kowa, B. Gelloz

    SPIE Photonics Asia 2018  2018年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Dimensional measurement of internal profile using the optical caliper 国際会議

    L. Jin, N. Miyatsu, E. Kondoh, B. Gelloz, N. Kanazawa, T. Yoshizawa

    SPIE Photonics Asia 2018  2018年10月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：Beijing, China  

  • Photo-Assisted Etching of Porous Silicon Nanostructures in Hydrofluoric Acid using Monochromatic Ligh 国際会議

    B. Gelloz, H. Fuwa, E. Kondoh, L. Jin

    Americas International Meeting on Electrochemistry and Eolid state science (AiMES2018)  2018年10月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：Cancun, Mexico  

  • Extraction of properties of individual component for the retarder – linear diattenuator – retarder system and its application 国際会議

    L. Jin, E. Kondoh, H. Kowa, B. Gelloz

    SPIE Photonics Asia 2018  2018年10月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Beijing, China  

  • マイクロ流通セルを用いたB TA-H2O2混合溶液中におけるCu表面のその場分光エリプソメトリ解析

    瀬川紘幹，近藤英一，濵田聡美，嶋 昇平，檜山浩國

    (一社)表面技術協会第138回講演大会  2018年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道工業大学  

  • マイクロ流通セルを用いたB TA-H2O2混合溶液中におけるCu表面のその場分光エリプソメトリ解析

    瀬川紘幹, 近藤英一, 濵田聡美, 嶋 昇平, 檜山浩國

    (一社)表面技術協会第138回講演大会  2018年9月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道工業大学  

  • Inkjet Particle-Spiking of Wafer Surfaces and Evaluation of Particle Density With Ellipsometry 国際会議

    E. Kondoh, K. Suzuki, L. Jin S. Hamada, S. Shima, H. Hiyama

    22nd International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization  2018年8月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年8月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • Inkjet Particle-Spiking of Wafer Surfaces and Evaluation of Particle Density With Ellipsometry 国際会議

    E. Kondoh, K. Suzuki, L. Jin, S. Hamada, S. Shima, H. Hiyama

    22nd International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization  2018年8月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：Crowne Plaza Lake Placid, Lake Placid, NY, USA  

  • Nanostructure fabrication processes in supercritical fluids 国際会議

    Eiichi Kondoh

    THERMEC 2018  2018年7月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年7月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Nanostructure fabrication processes in supercritical fluids 国際会議

    Eiichi Kondoh

    THERMEC 2018  2018年7月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Paris, France  

  • Nanogap/pore fill with wide bandgap material using supercritical fluids aiming at realizing p-Si based LEDs 国際会議

    Eiichi Kondoh, Yuichiro Yamamoto, Bernard Gelloz, Lianhua Jin

    The International Symposium on Inorganic and Environmental Materials 2018  2018年6月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年6月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Nanogap/pore fill with wide bandgap material using supercritical fluids aiming at realizing p-Si based LEDs 国際会議

    Eiichi Kondoh, Yuichiro Yamamoto, Bernard Gelloz, Lianhua Jin

    The International Symposium on Inorganic and Environmental Materials 2018  2018年6月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Ghent University, Ghent, Belgium  

  • 光ノギスによる内径測定

    金 蓮花，宮津　暢人，近藤　英一，ジェローズ　ベルナール，金澤　直文，吉澤　徹

    第61回光波センシング技術研究会  2018年6月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年6月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京理科大学　森戸記念館  

  • 光ノギスによる内径測定

    金 蓮花, 宮津 暢人, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール, 金澤 直文, 吉澤 徹

    第61回光波センシング技術研究会  2018年6月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京理科大学 森戸記念館  

  • 位置情報パケット通信システムの伝搬域の調査～山地行動者の行動把握を目指して～

    近藤英一

    富士山測候所を活用する会第11回成果報告会  2018年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

  • 位置情報パケット通信システムの伝搬域の調査～山地行動者の行動把握を目指して～

    近藤英一

    富士山測候所を活用する会第11回成果報告会  2018年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：ポスター発表  

  • “PBSキューブにおける各層の性能評価

    金 蓮花，近藤 英一，高和 宏行，ジェローズ ベルナー

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：早稲田大学西早稲田キャンパス  

  • “光伝導を利用したHF溶液中でのポーラスシリコンナノ構造のフォトエッチング観測

    ジェローズ ベルナール，不破 弘樹，近藤 英一，金 蓮花

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：早稲田大学西早稲田キャンパス  

  • “PBSキューブにおける各層の性能評価

    金 蓮花, 近藤 英一, 高和 宏行, ジェローズ ベルナー

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：早稲田大学西早稲田キャンパス  

  • “光伝導を利用したHF溶液中でのポーラスシリコンナノ構造のフォトエッチング観測

    ジェローズ ベルナール, 不破 弘樹, 近藤 英一, 金 蓮花

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：早稲田大学西早稲田キャンパス  

  • 超臨界CO2流体中での薄膜堆積 招待

    近藤英一

    電気化学会第85回大会 シンポジウムS19. 電子材料及びナノ機能素子技術  2018年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年3月

    記述言語：日本語   会議種別：シンポジウム・ワークショップ パネル（指名）  

    開催地：東京理科大学葛飾キャンパス  

  • 超臨界CO2流体中での薄膜堆積 招待

    近藤英一

    電気化学会第85回大会 シンポジウムS19. 電子材料及びナノ機能素子技術  2018年3月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：シンポジウム・ワークショップ パネル（指名）  

    開催地：東京理科大学葛飾キャンパス  

  • 分光エリプソメトリー計測の勘所とin-situ計測応用

    近藤英一

    ＯＲＩＳＴ技術情報セミナー(和泉センター)　第 2 回分光エリプソメーター活用セミナー  2018年2月  （地独）大阪産業技術研究所

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年2月

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：大阪産業技術研究所 森之宮センター  

  • 分光エリプソメトリー計測の勘所とin-situ計測応用

    近藤英一

    ＯＲＩＳＴ技術情報セミナー(和泉センター) 第 2 回分光エリプソメーター活用セミナー  2018年2月  （地独）大阪産業技術研究所

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等  

    開催地：大阪産業技術研究所 森之宮センター  

  • 分光エリプソメトリーによるsub 100-nm粒子の検出と粒子密度評価

    プレナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会（精密工学会）第163回研究会  2018年2月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2018年2月

    記述言語：日本語   会議種別：シンポジウム・ワークショップ パネル（指名）  

  • 分光エリプソメトリーによるsub 100-nm粒子の検出と粒子密度評価

    プレナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会（精密工学会）第163回研究会  2018年2月 

    　詳細を見る

    記述言語：日本語   会議種別：シンポジウム・ワークショップ パネル（指名）  

  • Photo-Assisted Dissolution of Porous Silicon Nanostructures in HF Solutions Monitored by Photoconduction

    Bernard Gelloz, Hiroki Fuwa, Eiichi Kondoh, and Lianhua Jin

    第78回応用物理学会秋季学術講演会  2017年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2017年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：福岡国際会議場  

  • Photo-Assisted Dissolution of Porous Silicon Nanostructures in HF Solutions Monitored by Photoconduction

    Bernard Gelloz, Hiroki Fuwa, Eiichi Kondoh, Lianhua Jin

    第78回応用物理学会秋季学術講演会  2017年9月 

    　詳細を見る

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：福岡国際会議場  

  • 各種金属酸化物のCu/ガラス界面密着層としての利用の試み

    林知里,渡邉満洋,近藤英一

    日本機械学会関東支部第23期総会・講演会  2017年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京理科大学 葛飾キャンパス  

  • エリプソメトリ法によるSi基板表面の微粒子検出

    鈴木雄也,近藤英一,濱田聡美,嶋昇平,檜山浩國

    日本機械学会関東支部第23期総会・講演会  2017年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京理科大学 葛飾キャンパス  

  • その場分光エリプソメトリ測定を用いたBTA-H2O2混合溶液中におけるCu表面の初期処理過程の解析

    瀬川紘幹,近藤英一,濱田聡美,嶋昇平,檜山浩國

    日本機械学会関東支部第23期総会・講演会  2017年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京理科大学 葛飾キャンパス  

  • 表面清浄度・クリーニング評価としてのエリプソメトリ

    第64回応用物理学会春季学術講演会  2017年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：日本語   会議種別：シンポジウム・ワークショップ パネル（指名）  

    開催地：パシフィコ横浜  

  • HexafluoroacetylacetoneによるPtエッチング

    近藤 英一,荻原 佑太

    第64回春季応用物理学会学術講演会  2017年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：パシフィコ横浜  

  • ラフな表面における散乱光の偏光特性の波長依存性

    金 蓮花,周 聡,近藤 英一

    第64回春季応用物理学会学術講演会  2017年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2017年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：パシフィコ横浜  

  • Application of supercritical CO2 to porogen removal and metal deposition in nanoscale/HAR features 国際会議

    International Workshop on Materials for Advanced Interconnects  2016年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：North China University of Technology  

  • Fabrication of catalyst membrane for long-length nanocarbon growth—Atmospheric pressure CVD fill of Fe and FexOy to nano-through-holes of selfstanding anodic alumina 国際会議

    Eiichi Kondoh,Shigeaki Tamekuni,Mitsuhiro Watanabe,Soichiro Okubo,Takeshi Hikata,Akira Nakayama

    42nd International Conference on Micro and Nano Engineering  2016年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Reed Messe Wien, Congress Center, Vienna  

  • エリプソメトリ測定によるSiウェハ表面の粒子検出評価

    第77回応用物理学会秋季学術講演会  2016年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：朱鷺メッセ  

  • 有機物共晶組織観察用教材の開発と学生実験での利用

    瀧澤 周平,近藤 英一

    第77回応用物理学会秋季学術講演会  2016年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：朱鷺メッセ  

  • 超臨界CO2流体を用いた低誘電率薄膜のテンプレート除去

    瀬川 紘幹,近藤 英一,渡邉 満洋,Mikhail R. Baklanov,Liping Zhang

    第77回応用物理学会秋季学術講演会  2016年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：朱鷺メッセ  

  • Optical Absorption of Porous Silicon during Dissolution in HF Investigated by Photoconduction

    Bernard Gelloz,Kazuki Ichimura,Eiichi Kondoh,Lianhua Jin

    第77回応用物理学会秋季学術講演会  2016年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：朱鷺メッセ  

  • ナノカーボン成長過程における埋め込み型Fe触媒の材料的安定性

    近藤英一,為國成昭,渡邉満洋,大久保総一郎,中山　明

    表面技術協会第134 回講演大会  2016年9月  表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年9月

    記述言語：日本語   会議種別：その他  

    開催地：東北大学川内キャンパス  

  • In-situ Ellipsometry of Cu Surfaces Immersed in BTA-H2O2 Solutions 国際会議

    Eiichi Kondoh

    Clarkson University 20th International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization  2016年8月  Clarkson University CAMP

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年8月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：Crowne Plaza Lake Placid, NY  

  • 埋め込み型触媒上の ナノカーボン初期成長過程の観察 招待

    爲國 成昭,鈴木和弥,渡邉満洋,近藤英一,大久保総一郎,日方威,中山明

    cat-CVD研究会第13回研究会  2016年7月  cat-CVD研究会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年7月

    記述言語：日本語   会議種別：シンポジウム・ワークショップ パネル（指名）  

    開催地：北見工業大学  

  • 日本機械学会関東支部第22期総会講演会

    川上達也,近藤英一, 渡邉満洋, 濱田聡美, 嶋昇平, 檜山浩國

    日本機械学会関東支部第22期総会講演会  2016年3月  日本機械学会関東支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京工業大学（目黒区）  

  • エリプソメトリ測定によるウェハー表面の粒子検出

    鈴木雄也,小田切隼人, 渡邉満洋,近藤英一, 濱田聡美, 嶋昇平, 檜山浩國

    日本機械学会関東支部第22期総会講演会  2016年3月  日本機械学会関東支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京工業大学（目黒区）  

  • BTA-H2O2溶液におけるCu表面のその場エリプソメトリ

    川上達也,近藤英一, 渡邉満洋, 濵田聡美, 嶋昇平, 檜山浩國

    応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第187回研究集会  2016年1月  応物シリコンテクノロジー分科会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：東京大学  

  • アミドネート1価Cu錯体を用いた超臨界流体中Cu堆積

    Md Rasadujjaman, 渡邉満洋,須藤弘, 町田英明, 近藤英一

    応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第187回研究集会  2016年1月  応物シリコンテクノロジー分科会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2016年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京大学  

  • Ellipsometric measurement of particle-spiked wafer surfaces

    Eiichi Kondoh, Hayato Kotagiri, Mitsuhiro Watanabe, Satomi Hamada, Shohei Shima, and Hirokuni Hiyama

    2015 International Conference on Planarization/CMP Technology (2015ICPT)  2015年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Chandler, AZ, USA  

  • Supercritical CO2 etching of metal thin films for magnetoresistive memory processing

    Md Rasadujjaman, Yoshiki Nakamura, Mitsuhiro Watanabe, Eiichi Kondoh, and Mikhail R. Baklanov

    41stInternational Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2015)  2015年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Hague, Nethrlands  

  • In-situ ellipsometry of Cu surfaces immersed in BTA-H2O2 solutions

    Eiichi Kondoh, Tatsuya Kawakami, Mitsuhiro Watanabe, Satomi Hamada, Shohei Shima, and Hirokuni Hiyama

    Advanced Metallization Conference 2015: 25th Asian Session (ADMETAPlus2015)  2015年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Seoul National University  

  • Versatility of ZnO as a room-temperature adhesion promoter for Cu/glass stacks

    Mitsuhiro Watanabe, Shigeaki Tamekuni, Koumi Koike, and Eiichi Kondoh

    Advanced Metallization Conference 2015: 25th Asian Session (ADMETAPlus2015)  2015年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Seoul National University  

  • Copper Thin Film Growth using Cu(I) Amidinate Precursor in Supercritical Carbon Dioxide: Deposition Kinetics and Narrow-Gap-Filling

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudoh, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh

    Advanced Metallization Conference 2015: 25th Asian Session (ADMETAPlus2015)  2015年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Seoul National University  

  • 高密着性Cu/ガラス構造の常温形成

    渡邉満洋,近藤英一

    2015年度第2回TSV応用研究会  2015年9月  電気学会電子情報システム部門

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：主婦プラザ（東京）  

  • セル中の試料の複屈折特性のその場計測方法

    金 蓮花,小林 大地,高和 宏行,近藤 英一

    第76回応用物理学会秋季学術講演会  2015年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：名古屋国際会議場  

  • 埋め込み型触媒上のナノカーボン初期成長過程の観察

    爲國成昭, 鈴木和弥, 渡邉満洋,近藤英一, 大久保総一郎, 日方威, 中山明

    表面技術協会第130回講演大会  2015年9月  （一社）表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：信州大学  

  • 高密着性Cu/ガラス構造の常温形成

    渡邉満洋,近藤英一

    2015マイクロエレクトロニクスショー　アカデミックプラザ  2015年6月  電気化学会電解科学技術委員会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年6月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：東京ビッグサイト  

  • Thermal etching of metal thin films using supercritical fluid

    Mitsuhiro Watanabe, Yoshiki Nakamura, Eiichi Kondoh, and Mikhail R. Baklanov

    Plasma Etch and Strip in Microtechnology 2015 (PESM2015)  2015年4月  IMEC

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年4月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：IMEC, Leuven, Belgium  

  • Low Temperature Interdiffusion of Cu/Ni in Supercritical Fluid Carbon Dioxide Using a New Cu(I) Amidinate Precursor

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudoh, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh

    2015 Materials Research Society (MRS) Spring Meeting & Exhibit  2015年4月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年4月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：San Francisco Moscone  

  • 粘菌のネットワーク解探索機能の配線・流路構造への利用の提案

    山口博樹, 渡邉満洋, 近藤英一

    日本機械学会関東支部第21期総会講演会  2015年3月  日本機械学会関東支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：横浜国立大学  

  • 超臨界流体を用いたZnO薄膜の堆積とそれを用いたCu/ガラス構造の高密着化

    渡邉満洋, 爲國成昭, 近藤英一

    日本機械学会関東支部第21期総会講演会  2015年3月  日本機械学会関東支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：横浜国立大学  

  • ウェハーレベル超臨界流体堆積装置の開発

    栗田修平, 近藤英一, 植野隆大, 竹内裕人, 渡邉満洋, 山本敏, 末益龍夫

    化学工学会第80年会  2015年3月  化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：芝浦工業大学  

  • 準ニュートン法を用いたエリプソメトリー計測の窓補正

    金 蓮花,春日 翔貴,近藤 英一

    第62回応用物理学会春季学術講演会  2015年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道大学  

  • 粘菌を利用した金属微粒子配列

    山口博樹, 望月裕文, 渡邉満洋, 近藤英一

    第62回応用物理学会春季学術講演会  2015年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東海大学  

  • 超臨界CO2流体中における金属薄膜のエッチング

    中村良輝, 渡邉満洋, 近藤英一, ミハイルバクラノフ

    第62回応用物理学会春季学術講演会  2015年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東海大学  

  • 高密着性Cu/ガラス構造におけるZnO堆積手法の影響

    渡邉満洋, 小池光海, 近藤英一

    表面技術協会第131回講演大会  2015年3月  表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2015年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：関東学院大学  

  • 超臨界CO2流体中におけるCu薄膜の凝集ならびに拡散挙動

    中村良輝, 渡邉満洋, 近藤英一

    応用物理学会SC東海地区学術講演会2014  2014年11月  応用物理学会東海支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：名古屋大学  

  • Novel supercritical CO2 reactor for wafer-scale deposition], Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014

    Eiichi Kondoh, Takahiro Ueno, Yuto Takeuchi, and Mitsuhiro Watanabe, Satoshi Yamamoto, and Tatsuo Suemasu

    Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014)  2014年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：University of Tokyo  

  • Selective Cu fill into nanopores using supercritical carbon dioxide

    Eiichi Kondoh, Yukihiro Tamegai, Mitsuhiro Watanabe, and Lianhua Jin

    Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014)  2014年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：University of Tokyo  

  • Preparation of a novel catalyst structure for continuous growth of nanocarbon fibers

    Mitsuhiro Watanabe, Kazuma Osada, Eiichi Kondoh, Soichiro Okubo, Takashi Hikata, and Akira Nakayama

    Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014)  2014年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：University of Tokyo  

  • Agglomeration and diffusion in Cu thin films under supercritical CO2 annealing

    Yoshiki Nakamura, Mitsuhiro Watanabe, and Eiichi Kondoh

    Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014)  2014年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：University of Tokyo  

  • Low Temperature Interdiffusion of Cu/Ni in Supercritical Fluid Carbon Dioxide using a New Cu(I) Amidinate Precursor

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudoh, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh

    Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014)  2014年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：University of Tokyo  

  • Slime mold as a smart interconnect

    Eiichi Kondoh, Hiroki Yamaguchi, and Mitsuhiro Watanabe

    40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014)  2014年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Lausannne Ecole polytechnique federale de Lausannne (EPFL)  

  • Reliable glass metallization for 3D MEMS with using supercritical fluids

    Mitsuhiro Watanabe, Shigeaki Tamekuni, and Eiichi Kondoh

    40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014)  2014年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Lausannne Ecole polytechnique federale de Lausannne (EPFL)  

  • 超臨界流体を用いたZnO薄膜堆積とそのCu密着層としての利用

    爲國成昭, 渡邉満洋, 近藤英一

    表面技術協会第130回講演大会  2014年9月  表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：京都大学  

  • Preparation of membrane-embedded nanocatalysts for fabricating long carbon nanotubes], 40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014)

    Mitsuhiro Watanabe, Kazuma Osada, Eiichi Kondoh, Soichiro Okubo, Takeshi Hikata, and Akira Nakayama

    40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014)  2014年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Lausannne Ecole polytechnique federale de Lausannne (EPFL)  

  • Low temperature interdiffusion of Cu/Ni thin film in supercritical carbon dioxide

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudoh, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh

    40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014)  2014年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Lausannne Ecole polytechnique federale de Lausannne (EPFL)  

  • 基板面間差圧を利用した貫通電極めっき用装置

    植野隆大, 渡邉満洋, 近藤英一

    表面技術協会第130回講演大会  2014年9月  表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：京都大学  

  • エリプソメトリーにおける観測窓補正の一般化

    金蓮花，春日翔貴，近藤英一

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道大学  

  • 基板表裏面間差圧を用いたウェハレベル超臨界Cu均一成膜

    渡邉満洋,植野隆大,近藤英一,山本敏,末益龍夫

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道大学  

  • Supercritical Fluid Chemical Deposition of Cu in Ru-lined Deep Nanotrenches using a New Cu(I) Amidinate Precursor

    Md Rasadujjaman,Mitsuhiro Watanabe,Hiroshi Sudo,Hideaki Machida,Eiichi Kondoh

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道大学  

  • 学大将を育てる「ティーチサイエンス」キャリアハウス教育

    岡部奈央, 武田明子, 内山和治, 渡邉満洋, 有元圭介, 佐藤哲也, 渡辺勝儀, 張本鉄雄, 近藤英一, 田中功, 中川清和

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道大学  

  • リフレッシュ理科教室の教材「息で動かすスーハーエンジン」

    岡田遼，近藤英一

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道大学  

  • 「ティーチサイエンス」：放射線とは何か？

    矢﨑智昌，佐藤哲也，近藤英一，田中功，張本鉄雄

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道大学  

  • High-precision curving process of Si wafer for X-ray MEMS mirror used in space application

    Rasadujjaman Md，倉島優一，前田敦彦，廣島洋，高木秀樹，近藤英一，江副祐一郎

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道大学  

  • 新規1価Cu原料を用いたRuライナートレンチへのCu埋め込み

    Md Rasadujjaman,渡邉満洋,近藤英一,須藤弘,町田英明

    平成26年電気学会電子・情報・システム部門大会  2014年9月  電気学会電子情報ｼｽﾃﾑ部門

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：島根大学  

  • 新しい金属薄膜・ガラス常温接合

    渡邉満洋,近藤英一

    平成26年電気学会電子・情報・システム部門大会  2014年9月  電気学会電子情報ｼｽﾃﾑ部門

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：島根大学  

  • Deposition of Cu in Ru Lined Deep Nanotrenches Using a New Cu(I) Amindinate Precursor from Supercritical Fluids

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudoh, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh

    Clarkson University 19th International Symposium on Chemical Mechanical Planarization  2014年8月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年8月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Albany Mariott  

  • 新規低温分解1価Cu原料を用いた超臨界流体中Cu堆積

    Md Rasadujjaman,渡邉満洋,須藤弘,町田英明,近藤英一

    電気化学会電解科学技術委員会第24回電極材料研究会  2014年7月  電気化学会電解科学技術委員会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年7月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：山梨大学  

  • 超臨界CO2流体中におけるCu薄膜の凝集ならびに拡散挙動

    渡邉満洋, 中村良輝, 近藤英一

    2014年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Cu埋め込みされたマイクロポーラスシリコンの電気特性

    大矢敏史，近藤英一，ジェローズ　ベルナール，金蓮花

    2014年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • ラフな鉄表面による散乱光の偏光特性および光学モデリング

    山口晃司，近藤英一，ジェローズ　ベルナール，金蓮花

    2014年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • その場エリプソ計測における観測窓の影響の補正

    金蓮花，近藤英一

    2014年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 長尺カーボンナノチューブ作製用ナノ触媒金属埋め込み法の検討

    長田和真, 渡邉満洋, 近藤英一, 大久保総一郎, 日方威, 中山明

    2014年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Znドープと貴金属触媒効果による拡散加速を利用したCu/ガラス界面の常温接合

    寺岡暁, 渡邉満洋, 近藤英一

    2014年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Deposition of Cu in Ru-lined Deep Nanotrenches using a New Cu(I) Amidinate Precursor

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudo, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh

    2014年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Interfacial reaction in Cu/noble metal/Zn-doped glass stacks

    Mitsuhiro Watanabe, Akira Teraoka, and Eiichi Kondoh

    2014年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2014年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Cu coating inside ultra high-aspect-ratio (>130) and bended through-hole using supercritical CO2 fluid

    Mitsuhiro Watanabe, Yuto Takeuchi, Takahiro Ueno, Masahiro Matsubara, Eiichi Kondoh, Satoshi Yamamoto, Naohiro Kikukawa, and Tatsuo Suemasu

    2013年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Deposition of Cu-Ni Alloy Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solutions

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, and Eiichi Kondoh

    2013年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Room-temperature intermixing at Cu/SiO2 interface in reliable metallization by adopting SiO2 surface dope and noble metal catalyzation

    Mitsuhiro Watanabe, Akira Teraoka, and Eiichi Kondoh

    2013年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Nonohole Coat/fill with Pt via Chemical Deposition in Supercritical Fluids

    Toshiaki Goto and Eiichi Kondoh

    2013年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Cu/ZnO/ガラス構造の高密着化におけるZnO/ガラス界面の影響

    渡邉満洋, 寺岡暁, 近藤英一

    2013年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体を利用した3次元高アスペクト貫通孔内への均一Cu被覆

    植野隆大, 竹内裕人, 松原正弘, 渡邉満洋, 近藤英一, 山本敏, 末益龍夫

    2013年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • In‐situ observation of Pt deposition process by using spectroscopic ellipsometry

    Toshiaki Goto and Eiichi Kondoh

    2013年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Photo-assisted metal fill to nanopores using a supercritical fluid along with in-situ spectroscopic ellipsometric observation]

    Eiichi Kondoh, Yukihiro Tamegai, Mitsuhiro Watanabe, and Lianhua Jin

    2013年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • 生体を利用した高バンド幅立体金属配線構造，電気学会電子・情報・システム部門大会（C部門）

    近藤英一

    2013年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • In‐situ observation of Pt deposition process by using spectroscopic ellipsometry

    Toshiaki Goto and Eiichi Kondoh

    2013年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • 分光エリプソメトリを利用したPt堆積のその場測定

    後藤利章, 渡邉満洋, 近藤英一

    2013年7月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年7月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界CO2流体を利用した白金合金ナノ粒子担持

    渡邉満洋, 近藤英一

    2013年7月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年7月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Scattering light pattern of rough surface

    K. Yamaguchi，A. Muhammad，B. Gelloz，E. Kondoh, and L. Jin

    2013年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • Adhesion strength and microstructure of Cu/Ni/OsOx/glass structure for highly reliable Cu interconnection

    Mitsuhiro Watanabe and Eiichi Kondoh

    2013 Materials Research Society (MRS) Spring Meeting & Exhibit  2013年4月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年4月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体中Cu薄膜堆積のその場分光エリプソメトリ解析（第3報）

    近藤英一，五味瞭汰，田部井幸寛，渡邉満洋，金蓮花

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：神奈川工科大学  

  • 生体のネットワーク解探索機能を活用した配線構造の提案と生体メタライズ

    近藤英一，渡邉満洋，望月裕文，後藤利章

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：神奈川工科大学  

  • 超臨界流体を用いたメソポーラスシリコンへのCu 埋め込み

    金蓮花，大矢敏史，近藤英一，Bernard Gelloz

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：神奈川工科大学  

  • LiNbO3電気光学結晶を用いたその場イメージングエリプソメーターの開発

    若子裕亮，滝沢國治，近藤英一，金蓮花

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：神奈川工科大学  

  • ラフな面におけるIn-plane散乱光パターン

    山口晃司，アティラ ムハマド，近藤英一，金蓮花

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：神奈川工科大学  

  • 超臨界CO2 を利用したナノ微細構造体へのNi の埋め込み

    長田和真，渡邉満洋，近藤英一

    第127回講演大会  2013年3月  表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：日本工業大学  

  • ナノ級厚金属酸化物層を用いたCu/ガラス構造の密着性改善

    渡邉満洋，寺岡 暁，近藤英一

    第127回講演大会  2013年3月  表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：日本工業大学  

  • 超臨界CO2中における弾性表面波共振子の共振特性

    垣尾 省司 ・ 林 克洋 ・ 近藤 英一

    第78年会  2013年3月  化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：大阪大学豊中キャンパス  

  • ZnOを密着層として用いたガラス/Cu構造の密着性とナノ組

    渡邉 満洋，寺岡 暁，鍋谷 暢一,近藤英一

    第19期総会講演会  2013年3月  日本機械学会 関東支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：首都大学東京 南大沢キャンパス  

  • Can bio veins be used as interconnects?

    Eiichi Kondoh, Hirofumi Mochizuki, and Mitsuhiro Watanabe

    2013年3月  Universiteit Ghent and IMEC

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Kotholike Universiteit Leuven  

  • Adhesion improvement for MEMS-use Cu/glass metallization by inserting nano-precision metallic oxide layers

    M. Watanabe and E. Kondoh

    2013年3月  Universiteit Ghent and IMEC

    　詳細を見る

    開催年月日： 2013年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Kotholike Universiteit Leuven  

  • 超臨界流体を利用した金属薄膜堆積技術

    近藤英一

    将来めっき技術検討部会第十回例会「あたらしいめっき関連技術」  2012年11月  表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：回路会館  

  • ZnO Adhesion Layer for Nanoprecision Electroless-Cu/glass Metallization

    A. Teraoka, M. Watanabe, Y. Nabetani, and E. Kondoh

    Advanced Metallization Conference 2012: 22nd Asian Session  2012年10月  JSAP

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：The University of Tokyo  

  • Multilayer Absorption Kinetics in Nickel Thin Film Deposition from Supercritical CO2.

    Kazuma Osada, Mitsuhiro Watanabe, Eiichi Kondoh

    10th International Conference on Supercritical Fluids  2012年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Hyatt Regency San Francisco  

  • In-situ Spectroscopic Ellipsometry of Cu Deposition Process from Supercritical Fluids - Evidence for a Surface Condensation Layer Formation.

    Eiichi Kondoh, Takuya Sasaki, Yukihiro Tamegai, Mitsuhiro Watanabe, Lianhua Jin

    10th International Conference on Supercritical Fluids  2012年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Hyatt Regency San Francisco  

  • Preparation of Carbon Supported Platinum Alloy Nanoparticles using Supercritical Carbon Dioxide.

    Mitsuhiro Watanabe, Tatsunori Akimoto, Eiichi Kondoh

    10th International Conference on Supercritical Fluids  2012年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Hyatt Regency San Francisco  

  • Extraction of Trans Fatty Acid Free Rice Bran Oil Using Supercritical Carbon Dioxide

    Masahiro Matsubara, Yasuhisa Nakato, Eiichi Kondoh

    103rd AOCS Annual Meeting & Expo.  2012年5月  American Oil Chemists' Society

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年5月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Long Beach Convention Center, Long Beach CA  

  • 超臨界二酸化炭素を用いた金属超微粒子/多孔質カーボン複合体の作製

    渡邉 満洋， 秋本 竜昇， 近藤 英一

    日本金属学会  2012年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：横浜国立大学  

  • デュアル電気光学結晶を用いた高速複屈折計測システムの開発及び応用

    齋藤　壮，ヌルディン ムハマド，高和宏行，手島昂太朗，梅田倫弘，滝沢國治，近藤英

    第59回応用物理学関係連合講演会  2012年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：早稲田大学  

  • 超臨界流体中Cu薄膜堆積のその場分光エリプソメトリ解析（第2報）

    佐々木 拓哉， 田部井 幸寛， 植野 隆大， 渡邉 満洋， 金 蓮花， 近藤 英一

    第59回応用物理学関係連合講演会  2012年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：早稲田大学  

  • 超臨界CO2を用いた多孔質カーボン表面へのPt-Ru超微粒子担持

    渡邉 満洋， 秋本 竜昇， 近藤 英一

    化学工学会第77年会  2012年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：工学院大学  

  • 超臨界流体中Cu堆積過程のその場分光エリプソメトリ

    佐々木 拓哉， 田部井 幸寛， 植野 隆大， 渡邉 満洋， 金 蓮花， 近藤 英一

    化学工学会第77年会  2012年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：工学院大学  

  • 光変調技術の偏光計測への応用

    金　蓮花，齋藤　壮，八木　亮磨，山口　晃司，若子　裕亮，近藤　英一

    精密工学会  2012年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：首都大学  

  • 超臨界CO2 を用いて堆積したNi 薄膜の成膜特性

    長田和真，渡邉満洋，近藤英一

    表面技術協会  2012年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京都市大学  

  • 超臨界CO2を利用した三次元屈曲貫通孔への均一Cu堆積

    渡邉満洋，竹内裕人，近藤英一

    日本機械学会関東支部第１８期講演会  2012年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2012年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：日本大学生産工学部  

  • 超臨界流体を用いた高アスペクト・屈曲貫通孔内のCu ライニング

    近藤英一，渡邉満洋，竹内裕人，松原正弘

    第48 回X 線材料強度に関する討論会  2011年12月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：島津製作所  

  • Resonance properties of surface acoustic wave resonators in supercritical CO2

    K. Hayashi， S. Kakio， and E. Kondoh

    Symposium Ulstrasonic Electronics  2011年11月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：京都大学  

  • 超臨界CO2中における弾性表面波共振子の共振特性

    林　克洋,垣尾省司,近藤英一

    電子情報通信学会超音波研究会  2011年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：山梨大学  

  • Resonance properties of surface acoustic wave resonator in supercritical CO2

    S. Kakio， K. Hayashi， and E. Kondoh

    IEEE Internatilal Ultrasonic Symposium  2011年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：USA, Orlando  

  • EXTRACTION OF RICE BRAN OIL WITH SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE.

    Matsubara M.， Kondoh E.， and Nakato Y

    The 13th European Meeting on Supercritical Fluids  2011年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：the World Forum Convention Center in The Hague  

  • Conformal Copper Coating of True 3D Through-holes Using Supercritical Carbon Dioxide

    M. Watanabe， Y. Takeuchi， T. Ueno， M. Matsubara， E. Kondoh， S. Yamamoto， N

    Advanced Metallizaion Conference USA  2011年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Hyatt Regency Mission Bay, USA San Diego  

  • 超臨界CO2を利用して作製したNi/ガラス構造体の密着性と界面組織

    渡邉満洋，青山 央，近藤英一

    表面技術協会第124回講演大会  2011年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：名古屋大学  

  • 3次元集積回路電極用Siマイクロ孔内側壁に超臨界流体を利用してCuを堆積した 際の被覆特性

    松原正弘，近藤英一

    表面技術協会第124回講演大会  2011年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：名古屋大学  

  • 超臨界CO2を用いた多孔質カーボン上への金属微粒子担持における表面処理の影響

    秋本 竜昇， 近藤 英一， 渡邉 満洋

    化学工学会第43回秋季大会  2011年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：名古屋工業大学  

  • In-situ Spectroscopic Ellipsometry of Cu Deposition Process from Supercritical Fluids -An Evidence for an Abnormal Surface Layer Formation-

    T. Sasaki， Y. Tamegai， M. Watanabe， L. Jin， and E. Kondoh

    Advanced Metallizaion Conference Asian Session  2011年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京大学  

  • Conformal Copper Coating of True 3D Through-holes Using Supercritical Carbon Dioxide

    M. Watanabe， Y. Takeuchi， T. Ueno， M. Matsubara， E. Kondoh， S. Yamamoto， N

    Advanced Metallizaion Conference Asian Session  2011年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京大学  

  • 超臨界CO2を用いた高アスペクトマイクロ孔への均一Cu被覆

    竹内裕人，松原正弘，渡邉満洋，近藤英一

    第72回 応用物理学会学術講演会  2011年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：山形大学  

  • Sciences in micro- and nanoelectronics processes using an environmentally-friendly medium . supercritical CO2 fluid and its application

    E. Kondoh

    NATO Advanced Research Workshop  2011年6月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年6月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：Jurmala Spa, Riga, Latvia  

  • 新規成膜手法によるSiNx膜の低温プロセス化

    武山真弓,藤政毅,佐藤　勝,町田英明,近藤英一,野矢　厚

    2011年春季第58回応用物理学関係連合講演会  2011年3月  社団法人　応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：神奈川工科大学  

  • 超臨界CO2法によるTrue3次元貫通配線孔内への均一Cu被覆

    竹内裕人，近藤英一，松原正弘，山本敏，,末益龍夫

    2011年春季第58回応用物理学関係連合講演会  2011年3月  社団法人　応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：神奈川工科大学  

  • 超臨界CO2を用いた多孔性カーボン上への金属微粒子担持

    秋本竜昇，近藤英一

    化学工学会第76年会  2011年3月  社団法人　化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2011年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京農工大学  

  • In-situ Spectroscopic Ellipsometry in Supercritical CO2 Solutions and Its Application to Low-k Thin Film Characterization

    E. Kondoh, Y. Tamegai K. Kotaka and L. Jin

    Advanced Metallization Conference 20th Asian Session 2010  2010年10月  ADMETA Committee

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Takeda Building, The Univ. of Tokyo, Tokyo  

  • 超臨界CO2流体内の多孔質低誘電率薄膜の構造変化のその場分光エリプソメトリによる観測

    田部井幸寛，小高和也，金蓮花，近藤英一

    2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会  2010年9月  社団法人　応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：長崎大学  

  • 高アスペクトシリコンゴムのメタライズを利用したバイオピンセットの作製

    竹内裕人，青山央，松原正弘，増井裕久，山田善博，近藤英一

    化学工学会 第42回秋季大会  2010年9月  社団法人　化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：同志社大学  

  • 超臨界流体中その場分光エリプソメトリの開発と薄膜膨潤測定への応用

    田部井幸寛 ，小高和也，近藤英一

    化学工学会 第42回秋季大会  2010年9月  社団法人　化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：同志社大学  

  • Science in Porosity Engineering of Low-k Dielectrics Using Supercritical Carbon Dioxide-Pore Characterization and Pore Cleaning

    E.　Kondoh

    15th International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization  2010年8月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年8月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：Lake Placid ,NY  

  • 超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス　～ 細孔の評価と洗浄 ～

    近藤英一

    電子情報通信学会技術研究報告  2010年7月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年7月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：道の駅しゃり  

  • Mechanisms of Chemical Deposition from Supercritical Fluids for Advanvced Microelectronics Appilicitions

    E.Kondoh, K.Tamai, N. Fukasawa, K. Kotaka, M. Matsubara

    ICMPSN 2010 International Conference on Modern Problems in the Physics of Surface and Nanostructures  2010年6月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年6月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：Yanoslavl State University,Yaroslavl,Russia  

  • 超臨界流体中堆積法を用いたナノ構造の作製プロセス

    近藤英一

    サテライトプログラム　第7回ナノクリスタルセラミックス研究会  2010年3月  日本セラミックス協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：東京農工大学  

  • フロー式堆積装置を用いたCu薄膜の堆積特性-流量依存性

    竹内裕人,志村勇紀,深澤直樹,玉井架,松原正弘,近藤英一

    化学工学会第75年会  2010年3月  社団法人　化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：鹿児島大学  

  • その場分光エリプソメトリにおける高圧容器用光学窓の偏光補正と吸着解析への適用

    小高和也,田部井幸寛,金蓮花,近藤英一

    2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会  2010年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東海大学　湘南キャンパス  

  • 高アスペクトシリコンゴムの超臨界メタライズを利用したバイオピンセットの作製

    竹内裕人，松原正弘，増井裕久，山田善博，近藤英一

    第123回講演大会  2010年3月  社団法人　表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：関東学院大学  

  • 超臨界流体を用いた高アスペクトガラスマイクロ孔内Cu被覆

    松原正弘,竹内裕人,近藤英一

    第121回講演大会  2010年3月  (社）表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：成蹊大学  

  • 超臨界CO2を用いたCu薄膜の大面積堆積へのアプローチ

    深澤直樹,松原正弘,近藤英一

    日本機械学会第16期総会講演会  2010年3月  日本機械学会　関東支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：明治大学  

  • Evalaution of the connectivity of micropores(<2 nm)and supermicropores(<0.5 mn)in low-k thin films using supercritical fluids

    E.Kondoh

    ＭＡＭ2010  2010年3月  IMEC

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年3月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Lamot Mechelen, Belgium  

  • Science in porosity engineering of low-k dielectrics using supercritical carbon dioxide?pore haracterization and pore cleaning

    Eiichi Kondoh

    SEMICON Korea 2010  2010年2月  SEMI

    　詳細を見る

    開催年月日： 2010年2月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：COEX Korea  

  • Initial Cu growth in Cu-seeded and Ru-lined narrow trenches for supercriticalfluid Cu chemical deposition

    Eiichi Kondoh,Masahiro Matsubara,Kakeru Tamai

    Advanced Metallization Conference 19th Asian Session 2009  2009年10月  ADMETA Committee

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo, Tokyo  

  • Deposition kinetics of Cu thin films in supercritical carbon dioxide from a Cu(Ⅱ)beta-diketonate complex

    Eiichi Kondoh,Yuto Takeuchi,Masahiro Matsubara

    Supergreen 2009  2009年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Sakura Hall,Tohoku University  

  • Formation of periodically arrayed Si nano-hole filled with Cu using supercritical CO2

    T.Kakeru,M.Matsubara,C.Lee,M.Matsumura,E.Kondoh

    35th International Conference  2009年9月  MNE2009

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：ICC Ghent, Belgium  

  • Siマイクロ孔内に超臨界流体を利用してCuを堆積した際の被覆特性の検討

    松原正弘,近藤 英一

    化学工学会 第41回秋季大会  2009年9月  社団法人　化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：広島大学  

  • 超臨界流体中Cu堆積法におけるCuシード付トレンチ内への初期堆積特性

    近藤英一,玉井架,松原正弘

    2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会  2009年9月  社団法人　応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：富山大学  

  • 超臨界流体中堆積法を用いたナノ構造の作製プロセス

    サテライトプログラム　第7回ナノクリスタルセラミックス研究会  2009年3月  日本セラミックス協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：東京農工大学  

  • 超臨界流体中有機金属還元法による金属薄膜堆積

    近藤英一

    第119回講演大会  2009年3月  社団法人　表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：山梨大学　  

  • 超臨界流体中エリプソメトリーを用いた多孔質膜細孔度評価の検討

    小高和也，　有賀庄作，近藤英一

    2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会  2009年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：筑波大学  

  • 超臨界流体を利用した超ミクロ細孔の連結度評価

    近藤英一，有賀庄作，伊藤文則，林喜弘

    化学工学会第74年会  2009年3月  社団法人　化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：横浜国立大学  

  • Siナノホールの作製と超臨界CO２によるCu埋め込み

    玉井架，松原正弘，近藤英一，李佳龍，松村道雄

    日本機械学会第15期総会講演大会  2009年3月  日本機械学会　関東支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2009年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：茨城大学  

  • A fast new approach for evaluating the connectivity of micropores(＜2nm)and supermicropores(＜0.5mn) in low-k thin films

    Eiichi Kondoh, Shosaku Aruga,Fuminori Ito and Yoshinori Hayashi

    Advanced Metallization Conference Asian Session 2008  2008年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo, Tokyo  

  • 超臨界流体中エリプソメトリを用いた多孔質low-k膜の開孔性評価法の検討

    有賀庄作，齊藤雄亮，米山明里，近藤英一

    2008年秋季 第69回応用物理学会学術講演会  2008年9月  社団法人　応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：中部大学  

  • 各種低密度薄膜の超臨界流体中でのその場エリプソメトリー観測

    有賀 庄作，斉藤 雄亮・米山 明里，小高 和也，玉井 架，近藤 英一

    化学工学会 第40回秋季大会  2008年9月  社団法人　化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東北大学  

  • 超臨界流体を用いた各種細胞からの核酸のとりだし

    近藤 英一，堀内 愛，御園生 拓

    化学工学会 第40回秋季大会  2008年9月  社団法人　化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東北大学  

  • フロー方式のCu薄膜堆積の成膜特性と三次元貫通電極作成の試み

    松原 正弘，深澤 直樹，米山 明里

    化学工学会 第40回秋季大会  2008年9月  社団法人　化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東北大学  

  • Nanorod formation via topography-sensitive deposition in supercritical solutions

    Eiichi Kondoh, Michiru Hirose,Eiichi Ukai,Kodai Nagano,Junju Yamanaka, Chiaya Yamamoto

    34th International Conference  2008年9月  MNE2008

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Athens Hilton Hotel Greece  

  • 超臨界流体中での表面・薄膜のその場観測

    近藤英一

    2008年7月  化学工学会　超臨界流体部会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年7月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：熱海ニューフジヤホテル  

  • 超臨界流体を用いたCu成膜

    近藤英一

    電子ジャーナルテクニカルセミナー  2008年5月  電子ジャーナル

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：総評会館  

  • 超臨界流体を用いたCu薄膜堆積～成膜特性検討と貫通電極プロセスへの適用の試み

    松原正弘，近藤英一

    電子材料研究会  2008年5月  社団法人　電気学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：社団法人　電気学会  

  • Cu film deposition from super critical carbon dioxide fluids for 3D-IC THRU via formation

    Masahiro Matsubara, Eiichi Kondoh

    11th European Meeting on Supercritical Fluids  2008年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Serhs Campus Hotel Barcelona,Spain  

  • 多孔質Low-k膜を超臨界二酸化炭素洗浄した際の共溶媒の挙動

    有賀 庄作,小高 和也,近藤 英一

    2008年春季 第55回応用物理学関係連合講演会  2008年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：日本大学理工学部 船橋キャンパス  

  • 超臨界CO2堆積法を用いたMEMS貫通電極ヴィア孔内のCu薄膜形成(フロー方式第6報)

    近藤英一,松原正弘

    2008年春季 第55回応用物理学関係連合講演会  2008年3月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：日本大学理工学部 船橋キャンパス  

  • 超臨界CO2流体を利用したDNA抽出の試み

    近藤英一,堀内愛,御園生拓

    化学工学会第73年会  2008年3月  化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：静岡大学　浜松キャンパス  

  • βジケトン錯体原料を用いたフロー式Cu薄膜堆積の堆積特性

    松原正弘,近藤英一

    化学工学会第73年会  2008年3月  化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：静岡大学　浜松キャンパス  

  • In-situ偏光解析法による超臨界流体中での有機金属浸透のモニタリング

    近藤 英一,有賀 庄作,鵜飼 栄一

    化学工学会第73年会  2008年3月  化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：静岡大学　浜松キャンパス  

  • フロー超臨界薄膜装置による薄膜の堆積特性と長時間成膜への適用

    近藤英一,松原正弘

    日本機械学会第14期総会講演会  2008年3月  日本機械学会　関東支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：東京海洋大学　越中島キャンパス  

  • 超高密度流体中での動的溶解度制御を利用した形状敏感型自己整合ナノプロセス　構造形成メカニズムの検討

    近藤英一

    科研費特定領域研究 シリコンナノエレクトロニクスの新展開「ポストスケーリングテクノロジー」第二回成果報告会  2008年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：秋葉原コンベンションホール  

  • フィラメント活性化方式の表面処理

    近藤英一

    諏訪圏産学リエゾンフェア  2008年3月  財団法人長野県テクノ財団

    　詳細を見る

    開催年月日： 2008年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：ＲＡＫＯ華乃井ホテル  

  • 超臨界流体中での薄膜堆積法～原理,特徴,差別化要素～

    近藤　英一

    最近の化学工学講習会58  2007年12月  化学工学会超臨界部会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：早稲田大学理工学部（大久保キャンパス）  

  • 超臨界二酸化炭素中その場偏光解析法の開発～多孔質low-k膜の洗浄過程の解析

    近藤英一,有賀庄作

    第１回偏光計測研究会  2007年11月  東北大学多元物質科学研究所

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：東北大学多元物質科学研究所  

  • Deposition of Oxide Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Fluids

    Eiichi Kondoh

    The Sixth Pacific Rim International Conference on Advanced Materials and Processing  2007年11月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年11月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：ICC Jeju  

  • Low-temperature texture improvement of copper thin films by using hot-filament radical source

    Eiichi Kondoh,Masaya Fukasawa

    Advanced Metallization Conference Asian Session 2007  2007年10月  ADMETA委員会,応物

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo, Tokyo  

  • Topography sensitive copper deposition for "post-scalability" era--A novel nano selective deposition mode

    Eiichi Kondoh, Michiru Hirose, Eiichi Ukai, and Shosaku Aruga

    Advanced Metallization Conference Asian Session 2007  2007年10月  ADMETA委員会,応物

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo, Tokyo  

  • Bottom-up interconnect formation possibility using supercritical fluids: beyond scalability,

    Eiichi Kondoh

    The International Conference "Micro- and nanoelectronics - 2007" (ICMNE-2007)  2007年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年10月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：The　holiday hotel Lepiki  

  • 熱フィラメント水素ラジカルソースによるCu薄膜改質

    近藤 英一,深澤 真也

    化学工学会 第39回秋季大会  2007年9月  化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道大学  

  • フロー堆積システムによるCu薄膜堆積

    近藤 英一,廣瀬 みちる,福田 順平,松原 正弘

    化学工学会 第39回秋季大会  2007年9月  化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道大学  

  • 活用広がる機能性高密度流体プロセッシング

    近藤英一

    2007年（平成19年）秋季 第68回応用物理学会学術講演会講演予稿集  2007年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：北海道工業大学  

  • Metalization using supercritical fluids for post-scalability ULSI processing

    Eiichi Kondoh

    8th Seminar Porous Glasses-Special Glasses ; Porous Glass Technology for Detection of Chemical Agents(PGL'2007)  2007年9月  NATO

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：Wroclaw University ofTechnology,Poland  

  • 超臨界二酸化炭素中その場偏光解析法の開発(2)～多孔質low-k膜の洗浄過程の解析

    有賀庄作,鵜飼栄一,近藤英一

    2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会  2007年9月  応用物理学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：北海道工業大学  

  • In-situ ellipsometric study on the condensation and cleaning of a metalorganic copper compound to/from porous k thin films in supercritical carbon dioxide

    Eiichi Kondoh

    12th International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization  2007年8月  Clarkson　University

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年8月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Hilton Lake Placid Resoｒt (New York)  

  • 超臨界流体内での金属薄膜堆積

    近藤　英一

    第1回表面物性研究会  2007年6月  (社）表面技術協会　関西支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年6月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：大阪市工業研究所　  

  • Condensation and cleaning of a metalorganic copper compound to/from porous low-κthin films in supercritical carbon dioxide　

    E. Kondoh , E.Ukai

    4th International Conference on Spectroscopic Ellipsometry  2007年6月  ICSE4 Committee

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年6月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：Folkets Hus, Stockholm  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤　英一

    （独）日本学術振興会半導体界面制御技術第１５４委員会第５４回研究会 2006・5・23弘済会館"  2007年6月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年6月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤　英一

    ナノプレーティング研究会第２２回（通算８６回）例会  2007年5月  （社）日本金属学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：山梨県 大泉高原（八ヶ岳ロイヤルホテル）  

  • Novel topography-sensitive bottom-up growth of ruthenium and copper for filling nano-features using supercritical CO2 fluids: beyond scalability

    E. Kondoh, M. Hirose, E. Ukai, K. Nagano

    2007　MRS　SPRING　MEETING  2007年4月  MRS

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年4月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：SAN　FRANCISCO　MARRIOTT　HOTEL（MosconeWest, SanFrancisco,CA)  

  • "超臨界流体中薄膜堆積法における「形状敏感」堆積モード:Beyond Scalability

    近藤英一,廣瀬みちる,鵜飼栄一,有賀庄作,長能広大

    2007年春季 第54回応用物理学関係連合講演会 青山学院大学 相模原キャンパス  2007年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • エリプソメトリ－薄膜測定入門　　　　　　　～講義とEXCEL測定演習～

    近藤英一

    エリプソメトリーセミナー  2007年3月  情報機構

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：大田区産業プラザ  

  • 超臨界流体による次世代製膜・埋め込み技術～「全流体式」フロー超臨界薄膜堆積装置の製作～

    （正）近藤英一,廣瀬みちる

    総会講演会  2007年3月  日本機械学会　関東支部

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：宇都宮大学峰キャンパス  

  • 超臨界流体の配線技術への応用

    近藤英一，廣瀬みちる

    日本機械学会関東支部２００７年総会・講演会，2007年3月16日，宇都宮大学  2007年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体を利用したULSI多層配線用金属薄膜の形成

    近藤英一

    化学工学会反応工学部会CVD反応分科会の設立準備シンポジウム，2007/2/22,日本工業大学専門職大学院  2007年2月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2007年2月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • Kinetics and Narrow-Gap Filling in Cu Thin Film Deposition from Supercritical Carbon Dioxide Fluids-Precise and Reliable Experiments using a Flow-Type Deposition Processor

    E. Kondoh,M. Hirose,J. Fukuda

    "Advanced Metallization Conference 2006: 16th Asian Session Sept. 25-27, 2006, Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo, Tokyo"  2006年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤　英一

    産業技術総合研究所new-SIC研究会第3回研究会，９月２０日，産総研仙台  2006年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • Nanostructure formation using supercritical fluids

    E. Kondoh

    32nd International Conference on Micro- and Nano- Engineering (MNE06), 18/9-20/9, Barcelona WTC, Spain.  2006年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年9月

    記述言語：英語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤　英一

    化学工学会　超臨界流体部会　第5回サマースクール　平成１８年８月２２～２３日　熱海ニューフジヤホテル  2006年8月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • Metallization using Supercritical Carbon Dioxide Fluid

    E. Kondoh

    10th International Symposium on Chemical-Mechanical Plaranization, Aug 14-17, 2005, Lakcplacid NY  2006年8月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • ナノプレーティング研究会（日本金属学会）第18回例会

    超臨界流体を利用した薄膜堆積技術  2006年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • 超臨界流体を利用した薄膜堆積技術

    近藤英一

    （独）日本学術振興会半導体界面制御技術第１５４委員会第５４回研究会  2006年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：弘済会館  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤　英一 "

    "ナノプレーティング研究会（日本金属学会）第18回例会  2006年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：八ヶ岳ロイヤル  

  • 超臨界二酸化炭素を用いた微細配線形成技術～フロー式成膜実験装置を用いた堆積特性の検討～

    日本機械学会関東支部第12期総会講演会2006/3/10-11東洋大学川越キャンパス  2006年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 22a-R-9 超臨界CO2流体中におけるRuの形状敏感堆積の基礎検討 山梨大院医工　○（M）廣瀬みちる，近藤英一

    2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会 開催場所： 武蔵工業大学（東京都世田谷区） 期間： 2006年3月22日（水）～26日（日）  2006年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 24a-J-2 超臨界流体中化学堆積法における下地及び反応容器壁の堆積への影響 山梨大医工院　○鵜飼栄一，近藤英一

    2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会 開催場所： 武蔵工業大学（東京都世田谷区） 期間： 2006年3月22日（水）～26日（日）  2006年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 24a-J-3 フロー方式超臨界薄膜堆積装置の原料濃度制御とその堆積への影響(2) 山梨大医工院　○廣瀬みちる，福田順平，近藤英一

    2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会 開催場所： 武蔵工業大学（東京都世田谷区） 期間： 2006年3月22日（水）～26日（日）  2006年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 24p-J-13 ホットフィラメント法によるCuOの還元及びポーラスlow-k材料へのダメージ評価 山梨大医工院　○（M）深澤真也，近藤英一

    2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会 開催場所： 武蔵工業大学（東京都世田谷区） 期間： 2006年3月22日（水）～26日（日）  2006年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 熱フィラメント水素ラジカル源を用いたCu表面処理 近藤英一，深澤真也

    応用物理学会分科会シリコンテクノロジー No.79, p.18-22, 2006/2/6/機械技術振興会館  2006年2月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2006年2月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術，近藤　英一

    （社）表面技術協会関東支部第68回例会講演会，平成17年11月30日，山梨県工業技術センター  2005年11月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Planarization challenges in Cu metallization by supercritical CO2 (Invited Talk), E. Kondoh

    The 2nd Pac-Rim International Conference on Planarization CMP and Its Application Technology (PacRim-CMP 2005), November 17 ~ 19, 2005, COEX, Seoul, Korea  2005年11月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • 超臨界温泉について

    科学知総合研究所フォーラム  2005年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年10月

    記述言語：日本語   会議種別：その他  

    開催地：東京大学産学連携センター  

  • To transfer familiar dry-process design to supercritical fluid chemical deposition appratus for studying deposition science, E. Kondoh and J. Fukuda

    Advanced Metallization Conference Asian Session, Oct. 13-14, 2005, Tokyo  2005年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Hot Filament Technology for Quick and Low Temperatuer Copper Surface Recuperation, E. Kondoh

    Advanced Metallization Conference Asian Session, Oct. 13-14, 2005, Tokyo  2005年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 10p-ZF-5 超臨界二酸化炭素中その場偏光解析法の開発（1） 山梨大　医工院　○鵜飼栄一，近藤英一

    2005年秋季 第66回応用物理学会学術講演会 開催場所： 徳島大学 期間： 2005年 9月 7～11日  2005年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 8a-A-7 フロー方式超臨界薄膜堆積装置の原料濃度制御とその堆積への影響 山梨大　医工院　○福田順平，近藤英一

    2005年秋季 第66回応用物理学会学術講演会 開催場所： 徳島大学 期間： 2005年 9月 7～11日  2005年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Metallization using Supercritical Carbon Dioxide Fluid, E. Kondoh

    10th International Symposium on Chemical-Mechanical Plaranization, Aug 14-17, 2005, Lakcplacid NY  2005年8月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • 超臨界流体を利用したナノプロセッシング

    フロンティアプロセス2005, 2005/8/19-20，産総研つくばセンター  2005年8月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Metallization using Supercritical Carbon Dioxide Fluid for 45nm Technology Node and Beyond, E. Kondoh

    ISSF2005  2005年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体を利用した金属薄膜堆積

    （独）日本学術振興会薄膜第１３１委員会第２２５回研究会，2005/4/15，アジュール竹芝  2005年4月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年4月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界二酸化炭素を用いた微細配線形成技術 （連続・フロー式成膜実験装置の開発） 福田順平，近藤英一

    日本機械学会関東支部第11期総会講演会，2005年3月18日，19日，東京都立大学, p. 277-278  2005年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • ホットフィラメント源で生成したHラジカルによるCuOの還元・導電化 近藤英一，大滋彌拓也

    2005年春季 第52回応用物理学関係連合講演会，2005年3月29日～4月1日，埼玉大学，31p-ZE-15，p939  2005年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界CO2への有機Cu成膜原料の溶解特性 福田順平，近藤英一

    2005年春季 第52回応用物理学関係連合講演会，2005年3月29日～4月1日，埼玉大学，31p-ZE-18,p940  2005年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界CO2流体中でのRu薄膜の堆積 近藤英一

    2005年春季 第52回応用物理学関係連合講演会，2005年3月29日～4月1日，埼玉大学，31p-ZE-19，p940  2005年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 多孔質低誘電率膜の微細構造 近藤英一

    日本化学会第85年会アドバンストテクノロジープログラム（依頼講演）2K3-47 200５年3月26日～29日，神奈川大学, p. 519  2005年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • フロー式超臨界CO2堆積装置を用いたCu薄膜の堆積 福田順平，近藤英一

    化学工学会 第70年会　2005年3月22日(火)～24日(木) 　名古屋大学　東山キャンパス  2005年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体を用いたナノピラー構造作製 志鎌耕一郎，近藤英一

    化学工学会 第70年会　2005年3月22日(火)～24日(木) 　名古屋大学　東山キャンパス  2005年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体を用いた薄膜堆積技術

    技術情報協会セミナー（２００５年１月２７～２８日，北とピア）  2005年1月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2005年1月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体を用いた配線形成技術

    ２００４セミコンジャパンテクノロジーシンポジウム（２００４年１２月１～３日，幕張メッセ） , p. 5-53--5-65  2004年12月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2004年12月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Direct Deposition of Cu\Barrier Stacks on Dielectric/Nonconductive Layers using Supercritical CO2

    E. Kondoh, M. Hishikawa, M. Yanagihara, and K. Shigama

    Proc. 2004 IEEE International Interconnect Technology Conference, p.33  2004年11月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2004年11月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界CO2によるバックエンド一貫工程の可能性

    第１３回半導体プロセスシンポジウム（２００４年９月１６日，笹川記念会館）  2004年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2004年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界堆積法による層間絶縁膜上へのCu/BM積層構造の形成 近藤英一，菱川正毅，志鎌耕一郎

    第65回応用物理学会学術講演会講演予稿集，２００４年９月１日～9月4日，東北学院大学，2P-M-1, p. 706  2004年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2004年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • フロー方式による超臨界二酸化炭素を用いたCu薄膜堆積特性の評価 福田順平，柳原勝，近藤英一

    第65回応用物理学会学術講演会講演予稿集，２００４年９月１日～9月4日，東北学院大学，2pM2,. P. 706  2004年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2004年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Barrier/Copper Direct Deposition Possibility using Supercritical Carbon Dioxide Fluid (invited)

    E. Kondoh

    Proc. 21st International VLSI Multilevel Interconnection Conference (Sep 30/Oct 1, Hawaii), p.17-18.  2004年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2004年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

  • Control of selective and blanket ruthenium film deposition chemistry in supercritical CO2 fluid chemical deposition

    E. Kondoh

    Proc. 2004 International Microprocess and Nanotechnology Conference, p. 48--49  2004年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2004年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界ナノ配線プロセス

    STARCシンポジウム２００４  2004年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2004年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界CO2流体中でのCu薄膜堆積 ～フロー型堆積装置の試作～ 近藤英一，柳原勝，福田順平，志鎌耕一郎

    第51回応用物理学関係連合講演会，2004年3月28日～31日，東京工科大学  2004年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2004年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界流体を利用した一貫メタライゼーションプロセスの可能性 近藤英一，菱川正毅，志鎌耕一郎

    応用物理学会分科会，シリコンテクノロジー No. 58, 2004年2月2日，機械技術振興会館 予稿集p. 7--10  2004年2月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2004年2月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Noise free and jitter-less clock distribution method for high-frequency system using microcavity

    H. Kato, E. Kondoh, T. Akitsu, T. Kobori and H. Morishita

    Proc. Advanced Metallization Conference 2003, (Oct. 21-23, Montreal, Canada / Tokyo, 2003.), p. 65-68  2003年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2003年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Nanoscale Deposition in Supercritical Fluids, Cu Metallization Process and Barrier Metal Deposition Possibility

    E. Kondoh, M. Hishikawa, K. Shigama

    Proc. Advanced Metallization Conference 2003, (Oct. 21-23, Montreal, Canada / Tokyo, 2003.), p. 583-588.  2003年10月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2003年10月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界CO2流体中のCu(hfac)2のＦＴＩＲ測定 志鎌耕一郎，近藤英一

    第６４回応用物理学会学術講演会，2003年8月30日-9/2，福岡大学  2003年8月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2003年8月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Metal Filling in Deep Nano Trechnces/Holes using Supercritical Carbon Dioxide

    E. Kondoh

    Proc. 2003 International Microprocess and Nanotechnology Conference, p. 42  2003年6月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2003年6月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Paving the Way for Full-Fluide IC Metallization using Supercritical Carbon Dioxide

    E. Kondoh, V. Vezin, K. Shigama, S. Sunada, K. Kubo, and T. Ohta

    Proc. 2003 IEEE International Interconnect Technology Conference, p. 141, 2003.  2003年6月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2003年6月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 各種プリカーサーを用いた超臨界CO2流体堆積法によるCu薄膜の作製 志鎌耕一郎，近藤英一

    第50回応用物理学関係連合講演会予稿集，2003/3/27-30，神奈川大学28aZG9, p. 906  2003年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2003年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Copper Deposition Characteristics from a Supercritical CO2 Fluid

    E. Kondoh

    Advanced Metallization Conference 2002, Sep. 29-Oct. 1, San Diego/Tokyo, 2002.  2002年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2002年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界CO2中でのCu薄膜の堆積特性 近藤英一

    第６３回応用物理学会学術講演会，2002年9月24日-27日，新潟大学  2002年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2002年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界二酸化炭素を用いたLSI銅配線用薄膜の堆積 近藤英一

    化学工学会第35回秋季大会，平成14年9月18日(水)-20日(金)，神戸大学  2002年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2002年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界CO2中でのCu薄膜の堆積（依頼講演） 近藤英一

    LSI配線における原子輸送・応力問題第８回研究会（応用物理学会表面分科会主催），2002年7月4日-5日，東京大学山上会館  2002年7月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2002年7月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 多孔質低誘電率膜の微細構造（招待講演） 近藤英一

    第６２回半導体・集積回路技術シンポジウム，平成14年6月6日-7日，機械振興会館ホール  2002年6月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2002年6月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 超臨界二酸化炭素を用いたCu薄膜の作製と埋め込み 加藤洋樹，近藤英一

    2002年春季第４９会応用物理学関係連合講演会， 2002年3月27-29，東海大学  2002年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2002年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • ポリイミド上のスパッタAl薄膜のテクスチャ

    2001年秋季（第129回）日本金属学会講演大会, 2001年9月22日～24日、九州産業大学（福岡市）, p. 175  2001年9月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2001年9月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Comparative Study of Porous SOG Films with Different Non-destructive Instrumentation, M.R. Baklanov, E.Kondoh, E.K.Lin,

    D.W.Gidley, H.-J.Lee, K.P.Mogilnikov, and J.N.Sun

    IEEE 2001 International Interconnect Technology Conference, pp.189-191.  2001年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2001年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 最近のＬＳＩ配線用材料

    金属学会機能性材料研究会、2000年5月26日（九州大学）  2000年5月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2000年5月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • Cu-Ti合金／ポリイミド積層膜の界面特性

    2000年春季（第127回）日本金属学会講演大会, 2000年３月２９日～３１日、横浜国立大学（横浜市）, p. 396  2000年3月 

    　詳細を見る

    開催年月日： 2000年3月

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

  • 生体組織を利用した金属配線形成の試み

    望月裕文，渡邉満洋，近藤英一

    第126回講演大会  0928年  表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 0928年

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：室蘭工業大学  

  • Glass/ZnO 基板上への金属薄膜堆積と密着性

    寺岡 暁，渡邉満洋，近藤英一

    第126回講演大会  0928年  表面技術協会

    　詳細を見る

    開催年月日： 0928年

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（一般）  

    開催地：室蘭工業大学  

  • 超臨界流体を用いた金属薄膜堆積―メリットと展望―

    近藤英一

    第44回秋季大会  0921年  化学工学会

    　詳細を見る

    開催年月日： 0921年

    記述言語：日本語   会議種別：口頭（招待・特別）  

    開催地：東北大学 川内北キャンパス  

▼全件表示

産業財産権

  • 導電性物質の形成装置及びその形成方法

    近藤英一,竹内裕人,渡邉満洋,山本敏,菊川直博

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学・フジクラ

    出願番号：2011-218301  出願日：2011年9月

    出願国：外国  

  • 導電性物質の形成装置及びその形成方法

    近藤英一,竹内裕人,渡邉満洋,山本敏,菊川直博

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学・フジクラ

    出願番号：2011-218300  出願日：2011年9月

    出願国：外国  

  • 導電性物質の形成装置及びその形成方法

    近藤英一,竹内裕人,渡邉満洋,山本敏,菊川直博

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学・フジクラ

    出願番号：2011-218302  出願日：2011年9月

    特許番号/登録番号：5785264  登録日：2015年7月 

    出願国：外国  

  • 導電性物質の形成装置及びその形成方法

    近藤英一,松原正弘,竹内裕人

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学・フジクラ

    出願番号：2011-199678  出願日：2011年9月

    出願国：外国  

  • 細孔を有する薄膜の測定方法とそのシステム

    近藤英一

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特願2010-197237  出願日：2010年9月

    出願国：国内  

  • Deposition method for oxide thin film or stacked metal thin films using supercritical fluid or subcritical fluid, and deposition apparatus therefor

    E. Kondoh

    　詳細を見る

    出願番号：　  出願日：2010年

    特許番号/登録番号：USP 7,695,760 

    出願国：国内  

  • 導電体の形成装置、導電体の選択形成方法および半導体装置の製造方法

    近藤英一,広瀬みちる,田中均,佐藤雅幸,矢野尚,吉丸正樹

    　詳細を見る

    出願人：半導体理工学研究センター

    出願番号：特願2007-050362  出願日：2007年2月

    出願国：国内  

  • 近藤英一，超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加する方法およびそのための装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特願２００４－２４９４８７  出願日：2004年4月

    出願国：外国  

  • 加藤初弘，近藤英一　クロック信号分配装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特願２００４－７９３４３  出願日：2004年4月

    特許番号/登録番号：特許3251990 

    出願国：国内  

  • 近藤英一，超臨界流体又は亜臨界流体を用いた酸化物薄膜，または金属積層薄膜の成膜方法，及び成膜装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特願2004-167782  出願日：2004年4月

    特許番号/登録番号：4815603 

    出願国：外国  

  • 成膜装置および成膜方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特願2003-430575  出願日：2003年4月

    出願国：外国  

  • ブザンバンソン，久保謙一，小宮隆弘，近藤英一　成膜装置および成膜方法，

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特願２００３－４３０５７５  出願日：2003年4月

    出願国：外国  

  • 半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特願2003-17948  出願日：2003年4月

    出願国：外国  

  • 半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特願2003-17949  出願日：2003年4月

    出願国：外国  

  • 金属膜の堆積方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-163708  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • Ａｌ薄膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-014803  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 金属薄膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-014777  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 薄膜形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-349791  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 薄膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-346240  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム合金金属膜の堆積方法およびアルミニウム合金配線の形成装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-333859  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 金属膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-326104  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム合金薄膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-326028  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 化学気相成長装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-314653  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム配線の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-291051  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 埋込プラグの形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-283607  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • Ａｌ薄膜形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-283531  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 金属薄膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-283446  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム合金薄膜の形成方法及びその装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-283443  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム合金薄膜の形成方法及びその装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-283442  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 金属薄膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-283441  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-283440  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 金属薄膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-275722  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 半導体ダイヤモンド

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平05-013342  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 薄膜形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-275721  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • Ａｌ合金膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-272043  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 薄膜形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-272042  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 薄膜形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-272041  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 金属膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-268072  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 配線構造及びその形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-267960  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム合金薄膜の形成方法及びその装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-267958  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 金属膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-267957  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 埋込プラグの形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-267956  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 埋込プラグの形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-267955  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム合金配線の形成方法及びその装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-267952  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 合金薄膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-267951  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • Ａｌ配線の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-267950  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 金属膜の選択形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-267946  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム合金薄膜の形成装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-267869  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 合金薄膜の形成装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-264244  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • ＡｌＣｕ合金金属膜

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-264243  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • ＡｌＣｕ合金金属膜およびその形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-264242  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 多層配線構造の半導体装置及びその製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-244186  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 液体原料の送給方法及び薄膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-244121  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 半導体装置のアルミニウム配線の形成方法及び装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-240456  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 半導体集積回路装置の配線の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-236879  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 金属配線

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-236878  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 銅薄膜のドライエッチング方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-204186  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 銅薄膜のドライエッチング方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-204185  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 銅薄膜のドライエッチング方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-204184  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-204175  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-204174  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 気相成長用ガス供給装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-196414  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 単結晶ダイヤモンド膜の気相合成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-183888  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 埋め込みプラグの形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-163709  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 多層配線構造の半導体装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-014836  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • Ａｌ若しくはＡｌ合金の成膜方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-163429  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 金属配線の形成方法およびその装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-158320  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 集積回路装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平06-140401  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • ダイヤモンド合成法及びそれに用いる合成装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平05-097581  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 高濃度Ｓｉ含有電磁鉄板の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平05-078816  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • ダイヤモンド合成法およびその合成装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平05-070291  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 2. 特許公開2004－228526 基板処理方法および半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特許公開2004－228526  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 3. 特許公開2004－225152 基板処理方法および半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特許公開2004－225152  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • ヴィア孔の埋め込み方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平08-097287  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 多層配線構造の半導体装置及びその製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-326620  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 多層配線構造を有する半導体装置の製造方法、及び、多層配線構造を有する半導体装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-273112  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 多層配線構造を有する半導体装置の製造方法、及び、多層配線構造を有する半導体装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-273111  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 多層配線構造およびその製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-254642  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 層間接続孔の埋め込み方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-169834  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-130848  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 有機金属化合物混合液及びそれを用いた薄膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-130654  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 多層配線構造の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-122639  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 多層配線構造を有する半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-099247  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 多層配線構造の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-029903  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 埋込プラグの形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-022426  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム配線の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-022419  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム配線の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-022418  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム配線の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-022417  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • アルミニウム配線の形成方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-022416  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 埋込プラグの形成方法およびその装置

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平07-022399  出願日：2002年4月

    出願国：外国  

  • 半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平08-222563 

    出願国：外国  

  • 高圧処理装置および高圧処理方法

    　詳細を見る

    出願番号：特開2007-162081 

    特許番号/登録番号：5066336 

    出願国：国内  

  • Chemical vapor deposition apparatus for forming thin film　

    　詳細を見る

    出願番号：米国特許 5,209,182 

    特許番号/登録番号：米国特許 5,209,182 

    出願国：国内  

  • Chemical vapor deposition method for forming thin film　

    　詳細を見る

    出願番号：米国特許 5,225,245 

    特許番号/登録番号：米国特許 5,225,245 

    出願国：国内  

  • Method for supplying liquid material and process for forming thin films using the liquid material supplying method　

    　詳細を見る

    出願番号：米国特許 5,552,181 

    特許番号/登録番号：米国特許 5,552,181 

    出願国：国内  

  • Method for making metal interconnection with chlorine plasma　

    　詳細を見る

    出願番号：米国特許 5,627,102 

    特許番号/登録番号：米国特許 5,627,102 

    出願国：国内  

  • Method of manufacturing semiconductor device having multilevel interconnection structure　

    　詳細を見る

    出願番号：米国特許 5,637,534 

    特許番号/登録番号：米国特許 5,637,534 

    出願国：国内  

  • Method for making metal interconnection

    　詳細を見る

    出願番号：米国特許 6,063,703 

    特許番号/登録番号：米国特許 6,063,703 

    出願国：国内  

  • Metal interconnection and method for making

    　詳細を見る

    出願番号：米国特許 5,973,402 

    特許番号/登録番号：米国特許 5,973,402 

    出願国：国内  

  • Semiconductor device having a multilevel interconnection structure

    　詳細を見る

    出願番号：米国特許 5,952,723 

    特許番号/登録番号：米国特許 5,952,723 

    出願国：国内  

  • 集積回路装置

    　詳細を見る

    出願番号：特許２９９７３７１ 

    特許番号/登録番号：特許２９９７３７１ 

    出願国：国内  

  • 含Ｃｒ溶鋼の脱炭精錬方法

    　詳細を見る

    出願番号：特公平６－３９６１１　 

    特許番号/登録番号：特公平６－３９６１１　 

    出願国：国内  

  • アルミニウム合金金属膜の堆積方法

    　詳細を見る

    出願番号：特許3407762 

    特許番号/登録番号：特許3407762 

    出願国：国内  

  • アルミニウム合金配線の形成方法及びその装置

    　詳細を見る

    出願番号：特許3342729 

    特許番号/登録番号：特許3342729 

    出願国：国内  

  • 金属膜の形成方法

    　詳細を見る

    出願番号：特許3320494 

    特許番号/登録番号：特許3320494 

    出願国：国内  

  • 薄膜形成方法

    　詳細を見る

    出願番号：特許3270196 

    特許番号/登録番号：特許3270196 

    出願国：国内  

  • 半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願番号：特許3266492 

    特許番号/登録番号：特許3266492 

    出願国：国内  

  • 銅薄膜のドライエッチング方法

    　詳細を見る

    出願番号：特許3256707 

    特許番号/登録番号：特許3256707 

    出願国：国内  

  • Ａｌ若しくはＡｌ合金の成膜方法

    　詳細を見る

    出願番号：特許3251990 

    特許番号/登録番号：特許3251990 

    出願国：国内  

  • 半導体装置の製造方法

    　詳細を見る

    出願人：山梨大学

    出願番号：特開平08-298288 

    出願国：外国  

  • Method of adding low-pressure gas continuously to supercritical fluid and apparatus therefor

    E. Kondoh,J. Fukuda

    　詳細を見る

    出願番号：　 

    特許番号/登録番号：USP 7,651,671  登録日：2007年2月 

    出願国：国内  

▼全件表示

受賞

  • 応用物理学会フェロー

    2019年9月   応用物理学会   超臨界CVDと洗浄技術の開拓及び半導体プロセスへの応用

  • 応用物理学会フェロー

    2019年9月   応用物理学会   超臨界CVDと洗浄技術の開拓及び半導体プロセスへの応用

  • ADMETA AWARD

    2017年10月   ADMETA委員会  

    　詳細を見る

    受賞区分：国際学会・会議・シンポジウム等の賞 

  • Advanced Metallization Conference: Asian Session）　Technical Achievement Award

    2014年10月   ADMETA委員会  

    渡邉満洋,&#12149;内裕&#12040;,植野隆&#12068;,松原正弘,近藤英一,&#12077;本敏,菊川直博,末益龍夫

    　詳細を見る

    Cu coating inside ultra high-aspect-ratio (>130) and bended through-hole using
    supercritical CO2 fluid（超臨界CO2流体を&#12132;いた超&#12220;アスペクト屈曲貫通孔のCu被覆）

  • 平成２６年度科学研究費助成事業審査委員表彰

    2014年10月   （独）&#12103;本学術振興会  

    近藤英一

  • 日本機械学会フェロー

    2013年1月   日本機械学会  

    近藤英一

  • 平成２３年度表面技術協会論文賞

    2011年2月  

    松原正弘,近藤英一

    　詳細を見る

    3次元集積回路電極用Siマイクロ孔内側壁に超臨界流体を利用してCuを堆積した際の被覆特性の検討

  • Advanced Metallization Conference Asian Session Technology Achievement Award

    2009年10月   ADMETA委員会  

    近藤英一,他

  • 山梨科学アカデミー奨励賞

    2009年5月   山梨科学アカデミー  

    近藤英一

    　詳細を見る

    超臨界流体のマイクロエレクトロニクス応用に関する研究

  • 社団法人　精密工学会　高城賞

    2005年9月   社団法人　精密工学会  

    近藤英一

  • 日本金属学会技術開発賞

    1995年1月  

▼全件表示

学外あるいは所属学部等外の組織との共同研究

  • 「難アクセス地行動者のネットワーク型“みまもり”システム開発可能性の実験的検証」

    衛星測位利用推進センター

    2010年 - 継続中  代表

担当授業科目（学内）

  • 物理化学演習 重要な業績

    2023年度

  • 常微分方程式 重要な業績

    2023年度

  • マイクロ・ナノ材料工学特論

    2018年度  科目区分：修士（大学院）

  • 半導体プロセス工学

    2018年度  科目区分：共通教育（学部）

  • 先端加工学特論

    2018年度  科目区分：博士（大学院）

  • 半導体プロセス工学

    2018年度  科目区分：専門教育（学部）

  • 金属・半導体合成プロセス工学

    2018年度  科目区分：専門教育（学部）

  • 数学演習II

    2018年度  科目区分：専門教育（学部）

  • 材料工学特論

    2018年度  科目区分：修士（大学院）

  • 量子材料科学特論

    2018年度  科目区分：修士（大学院）

  • 常微分方程式

    2018年度  科目区分：専門教育（学部）

  • 量子材料科学特論

    2018年度  科目区分：修士（大学院）

  • マイクロ・ナノ材料工学特論

    2018年度  科目区分：博士（大学院）

  • 半導体プロセス工学

    2017年度  科目区分：共通教育（学部）

  • 先端加工学特論

    2017年度  科目区分：博士（大学院）

  • 半導体プロセス工学

    2017年度  科目区分：専門教育（学部）

  • 金属・半導体合成プロセス工学

    2017年度  科目区分：専門教育（学部）

  • 数学演習II

    2017年度  科目区分：専門教育（学部）

  • 材料工学特論

    2017年度  科目区分：修士（大学院）

  • 常微分方程式

    2017年度  科目区分：専門教育（学部）

  • 量子材料科学特論

    2017年度  科目区分：修士（大学院）

  • マイクロ・ナノ材料工学特論

    2017年度  科目区分：博士（大学院）

  • マイクロ・ナノ材料工学特論

    2017年度  科目区分：修士（大学院）

▼全件表示

指導実績

  • 2021年度

    種別：修士（専攻科Bコース）学位論文指導

    指導人数 ：1人 

その他の学部学生指導

  • 2020年度

    留学生の指導　総指導時間：100時間

    博士論文指導

    就職の指導　総指導時間：40時間

    就職指導（進路指導担当）

    生活、課外活動への指導　総指導時間：100時間

    キャリアハウス

  • 2019年度

    就職の指導　総指導時間：15時間

    進路指導

  • 2019年度

    生活、課外活動への指導　総指導時間：100時間

    キャリアハウス

その他の教育実績

  • キャリアハウス「大気圏気象モニタリング」の実習指導

    2023年度

  • 写真部顧問

    2023年度

  • 山梨大学アマチュア無線部顧問

    2023年度

  • キャリアハウス「ティーチサイエンス」の学生実験実習指導

    2022年度

  • キャリアハウス「大気圏気象モニタリング」の実習指導

    2022年度

  • 山梨大学アマチュア無線部顧問

    2022年度

  • キャリアハウス「大気圏気象モニタリング」の実習指導

    2021年度

  • キャリアハウス「ティーチサイエンス」の学生実験実習指導

    2021年度

  • キャリアハウス・大気圏気象モニタリング主宰、学生指導

    2020年度

  • キャリアハウス「大気圏環境モニタリング」を主催，気象観測基地運用
    キャリアハウス「ティーチサイエンス」に参加

    2019年度

▼全件表示

修士・博士論文審査

  • 2019年度

    主査副査分類：副査

    修士 ：2人 

社会貢献活動

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部、科学館、本学共催）

    2023年8月

  • アマチュア無線を通じた自治体連携防災活動

    役割：企画,　運営参加・支援,　実演

    2023年 - 現在

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部、オンライン理科教室）

    2021年10月

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部、オンライン理科教室）

    2021年10月

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部、オンライン）

    2021年9月

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部、オンライン）

    2021年9月

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部、科学館、本学共催）

    2021年8月

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部、科学館、本学共催）

    2021年8月

  • 表面技術協会第135回大会実行委員長

    役割：運営参加・支援

    表面技術協会  2021年3月

  • 表面技術協会第135回大会実行委員長

    役割：運営参加・支援

    表面技術協会  2021年3月

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部、ハイブリッド）

    役割：講師,　助言･指導,　企画,　運営参加・支援,　実演

    応用物理学会東海支部  2020年4月 - 2021年3月

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部、ハイブリッド）

    役割：講師,　助言･指導,　企画,　運営参加・支援,　実演

    応用物理学会東海支部  2020年4月 - 2021年3月

  • リフレッシュ理科教室（山梨会場）

    役割：講師,　助言･指導

    応用物理学会東海支部  2019年7月

  • リフレッシュ理科教室（山梨会場）

    役割：講師,　助言･指導

    応用物理学会東海支部  2019年7月

  • リフレッシュ理科教室（浜松会場）

    役割：講師,　実演

    応用物理学会東海支部  2019年7月 - 現在

  • リフレッシュ理科教室（浜松会場）

    役割：講師,　実演

    応用物理学会東海支部  2019年7月

  • Materials Research Society Spring Meetings, Symposium Organizer EP07

    2019年4月

  • Materials Research Society Spring Meetings, Symposium Organizer EP07

    2019年4月

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部）

    山梨県立科学館  2018年7月

    　詳細を見る

    小中学生向け理科教室、工作指導

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部）

    山梨県立科学館  2017年8月

    　詳細を見る

    小中学生向け理科教室、工作指導

  • おもしろメカニカルワールド

    国立科学博物館  2016年8月

    　詳細を見る

    国立科学博物館　サイエンススクエア　日本機械学会関東支部事業　おもしろメカニカルワールドにおいて工作指導、同工作の考案、プロデュースを行った。

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部）

    山梨県立科学館  2016年8月

    　詳細を見る

    小中学生向け理科教室、工作指導

  • International Workshop of Materials for Advanced Interconnects (Beijing, China), Committee Member

    2016年 - 2017年

  • International Workshop of Materials for Advanced Interconnects (Beijing, China), Committee Member

    2016年 - 2017年

  • メカパイロット

    富士河口湖高校  2015年12月 - 現在

    　詳細を見る

    ロボット教材を利用した工学啓蒙（日本機械学会関東支部山梨ブロック）

  • リフレッシュ出前理科教室

    松野小学校（静岡市）  2015年11月

    　詳細を見る

    小学校での工作指導

  • 山梨大学ものづくり出張授業

    富士河口湖高校  2015年10月 - 現在

    　詳細を見る

    ロボット教材を利用した工学啓蒙（日本機械学会関東支部山梨ブロックと共催）

  • リフレッシュ理科教室

    浜松市立科学館  2015年6月

    　詳細を見る

    理科教室の指導、工作指導

  • メカパイロット

    塩山高校  2014年8月 - 現在

    　詳細を見る

    ロボット教材を利用した工学啓蒙

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部）

    山梨県立科学館  2014年8月

    　詳細を見る

    小中学生向け理科教室、工作指導

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部）

    山梨県立科学館  2014年8月

    　詳細を見る

    小中学生向け理科教室、工作指導

  • リフレッシュ出前理科教室

    村上小学校（長野県千曲市）  2014年7月

    　詳細を見る

    小学校での工作指導

  • リフレッシュ理科教室

    浜松市立科学館  2014年6月

    　詳細を見る

    理科教室の指導、工作指導

  • メカパイロット

    塩山高校  2014年2月 - 現在

    　詳細を見る

    出前講義（日本機械学会関東支部山梨ブロック）

  • メカパイロット

    日本機械学会関東支部山梨ブロック  2013年5月

    　詳細を見る

    高校における出前講義

  • 電波教室

    県立科学館  2012年 - 2014年

    　詳細を見る

    小中学生向け理科教室

  • リフレッシュ理科教室（応用物理学会東海支部）

    県立科学館  2012年 - 2014年

    　詳細を見る

    小学生への工作指導

  • 表面技術協会　理事

    2012年 - 2014年

  • リフレッシュ理科教室

    県立科学館  2011年8月 - 現在

    　詳細を見る

    県と応用物理学会との共催理科教室

  • リフレッシュ理科教室

    県立科学館  2010年8月 - 現在

    　詳細を見る

    県と応用物理学会との共催理科教室

  • 日本機械学会関東支部　監事

    2010年3月 - 2012年2月

  • 表面技術協会　関東支部　幹事

    2010年 - 2012年

  • 日本学術振興会科学研究費審査委員（電気電子材料工学、第１段階）　

    2010年 - 2011年

  • 表面技術協会１１９回講演大会　庶務委員長

    表面技術協会  2009年3月

  • 応用物理学会東海支部　幹事

    2009年 - 現在

  • 表面技術協会関東支部　幹事

    2009年 - 2015年

  • 電気化学会　電子材料委員会　委員

    電気化学会  2009年 - 2012年

  • リフレッシュ理科教室

    2008年8月

    　詳細を見る

    中高教員，生徒への体験型理科教室指導

  • 表面技術協会編集委員会　委員、幹事、編集副委員長

    2008年 - 2014年

    　詳細を見る

    （活動の内容）
    編集副委員長(2013)

  • 化学工学会超臨界流体部会　幹事

    2007年 - 2015年

  • 日本機械学会関東支部山梨ブロック　ブロック長，商議員

    2006年4月 - 2008年3月

  • 科学研究費審査委員会　委員

    日本学術振興会  2005年4月 - 2007年3月

  • 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会　幹事，常任幹事、多層配線専門委員会委員長

    応用物理学会  2003年 - 2015年

    　詳細を見る

    （活動の内容）
    講演会開催の企画運営
    （開催回数）
    3

  • 電気学会インターコネクト材料技術調査専門委員会　委員

    電気学会  2002年4月 - 2005年3月

    　詳細を見る

    （活動の内容）
    集積回路材料技術の検討
    （開催回数）
    12

  • Advanced Metallization Conference　Tutorial委員長，広報委員長，委員

    応用物理学会  2001年 - 2014年

    　詳細を見る

    （活動の内容）
    国際会議の企画・運営，論文審査
    （開催回数）
    5

  • Eurasian Journal of Physicochemistry　International board member

    2001年 - 2005年

▼全件表示

国際交流・国際貢献

  • 2006年度

    応用物理学会・山梨県・山梨大学主催
    リフレッシュ理科教室　指導
    ８月８～９日
    於　山梨県立科学館

  • 2005年度

    応用物理学会・山梨県・山梨大学主催
    リフレッシュ理科教室　指導
    於　山梨県立科学館

所属学協会

  • 電気化学会

    2022年12月 - 現在

  • 山梨科学アカデミー

    2010年4月 - 現在

  • 応用物理学会

    1986年 - 現在

  • 表面技術協会

  • エレクトロニクス実装学会

  • 日本機械学会

  • 表面技術協会

  • 日本機械学会

  • 応用物理学会

  • エレクトロニクス実装学会

▼全件表示

委員歴

  • 一般社団法人表面技術協会   理事・副会長  

    2023年3月 - 2025年2月   

  • 応用物理学会   評議員  

    2022年4月 - 2024年3月   

  • 応用物理学会 教育企画委員会   委員  

    2020年4月 - 2022年3月   

    　 詳細を見る

    団体区分：学協会

  • 応用物理学会 教育企画委員会   委員  

    2020年4月 - 2022年3月   

    　 詳細を見る

    団体区分：学協会

  • JST創発的研究支援事業   審査委員  

    2020年4月 - 2021年3月   

    　 詳細を見る

    団体区分：政府(国レベル)

  • 応用物理学会   会誌編集委員  

    2020年4月 - 2021年3月   

    　 詳細を見る

    団体区分：学協会

  • 応用物理学会   会誌編集委員  

    2020年4月 - 2021年3月   

    　 詳細を見る

    団体区分：学協会

  • JST創発的研究支援事業   審査委員  

    2020年4月 - 2021年3月   

    　 詳細を見る

    団体区分：政府(国レベル)

  • 表面技術協会   国際交流委員  

    2019年3月 - 2022年2月   

    　 詳細を見る

    団体区分：学協会

  • 表面技術協会   国際交流委員  

    2019年3月 - 2022年2月   

    　 詳細を見る

    団体区分：学協会

  • 日本機械学会関東支部山梨ブロック   ブロック長  

    2018年3月 - 2020年2月   

  • 日本機械学会関東支部山梨ブロック   ブロック長  

    2018年3月 - 2020年2月   

  • 日本機械学会関東支部   商議員  

    2018年3月 - 2019年2月   

  • 日本機械学会関東支部   商議員  

    2018年3月 - 2019年2月   

  • （一社）表面技術協会   理事  

    2017年3月 - 2018年2月   

    　 詳細を見る

    団体区分：学協会

  • （一社）表面技術協会   理事  

    2017年3月 - 2018年2月   

    　 詳細を見る

    団体区分：学協会

  • （一社）表面技術協会   理事  

    2016年4月 - 2017年3月   

  • （一社）表面技術協会   理事  

    2016年4月 - 2017年3月   

  • 応用物理学会   代議員  

    2016年3月 - 2019年2月   

  • 応用物理学会   代議員  

    2015年3月 - 2016年2月   

  • 応用物理学会東海支部   幹事・リフレッシュ理科教室実行委員  

    2012年 - 現在   

  • 日本機械学会関東支部   監事  

    2011年3月 - 2013年3月   

  • 日本光学会偏光計測・制御技術研究グループ」   世話人  

    2010年6月 - 現在   

  • 表面技術協会　関東支部   幹事  

    2010年4月 - 現在   

  • 表面技術協会　表面技術編集委員会   委員  

    2009年4月 - 2015年3月   

  • 化学工学会超臨界流体部会   幹事  

    2009年3月 - 2019年   

  • 電気化学会電子材料委員会   委員  

    2008年4月 - 現在   

  • 応用物理学会　東海支部   幹事  

    2008年4月 - 2022年3月   

  • 電気化学会電子材料委員会   委員  

    2008年4月   

  • 科研費審査委員   その他の委員、役員  

    2007年4月 - 2009年3月   

  • 日本機械学会　山梨ブロック　　   商議員，ブロック長  

    2006年4月 - 2007年3月   

  • 科学知総合研究所   理事  

    2006年 - 2022年   

  • 科学知総合研究所   理事  

    2006年 - 2022年   

  • 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会   幹事、多層配線技術専門委員会委員長  

    2004年4月 - 現在   

  • 日本機械学会メカトップ編集委員会   委員  

    2003年4月 - 2005年3月   

  • 電気学会ULSI・実装インターコネクト材料技術調査専門委員会   幹事  

    2002年4月 - 2008年5月   

  • 日本機械学会関東支部山梨ブロック   商議員  

    2002年4月 - 2004年3月   

  • Advanced Metallization Conference Asian Session   Exective Comittee member  

    2001年4月 - 現在   

▼全件表示