Updated on 2024/04/23

写真a

 
Kondo Eiichi
 
Organization
Graduate Faculty of Interdisciplinary Research Faculty of Engineering Materials Science (Science for Advanced Materials) Professor
Title
Professor

Research History

  • 山梨大学教授

    2007.11

  • 山梨大学助教授

    2000.10

  • 九州工業大学助教授

    1998.7

  • IMEC(ベルギー)エキスパート研究員

    1997.5

  • IMEC(ベルギー)研究員

    1996.5

  • マックスプランク金属研究所

    1995.4

  • 川崎製鐵(株)ハイテク研究所主任研究員

    1994.7

  • 川崎製鐵(株)(現JFEスチール)入社

    1987.4

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Education

  • Waseda University

    - 1987.3

      More details

    Country: Japan

  • Waseda University

    - 1985.3

      More details

    Country: Japan

Degree

  • Doctor (in Engineering) ( Kyoto University )

Current state of research and teaching activities

  • ・フィールドを対象とした測定・分析
    ・電波科学教育、無線通信を通じたキャリア教育
    ・アマチュア無線を活用したワイヤレス人材育成

Research Areas

  • Manufacturing Technology (Mechanical Engineering, Electrical and Electronic Engineering, Chemical Engineering) / Electric and electronic materials  / Micro Materials Science

  • Nanotechnology/Materials / Nanomaterials

Research Interests

  • Thin films

  • Microfabrication

  • LSI processing

  • エレクトロニクス実装

  • Application of supercritical fluids

  • エレクトロニクス実装

Subject of research

  • Science and Processing in LSI Materials

  • Green Micro Processing

  • アマチュア無線を活用したワイヤレス人材育成教育

Research Projects

  • 次世代集積回路配線と液体/金属接面in-situ計測:どこまでわかりどう使うか?

    Grant number:22K04182  2022.4 - 2025.3

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  基盤研究(C)

    近藤 英一, 金 蓮花

  • Development of a Mueller Matrix Microscope

    Grant number:20K04518  2020.4 - 2023.3

    Japan Society for the Promotion of Science  University of Yamanashi  Grants-in-Aid for Scientific Research  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

  • Thermochemical dry etching of hard-to-plasma-etch materials by using supercritical fluids

    2019.4 - 2022.3

      More details

    Authorship:Principal investigator  Type of fund::Science research expense

  • ナノSi結晶とワイドギャップ半導体の複合化プロセスの開発とデバイス提案

    2016.4 - 2019.3

    近藤英一、金蓮花 ベルナール ジェロー

      More details

    Authorship:Principal investigator  Type of fund::Science research expense

  • Development and application of optical model for object recognition with the polarization fingerprint

    Grant number:15K04694  2015.4 - 2018.3

    Japan Society for the Promotion of Science  University of Yamanashi  Grants-in-Aid for Scientific Research  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

    JIN Lianhua

      More details

    The intensity distribution and polarization state of scattering depend on the sample surface. The polarization information in the scattered light differs according to the refractive index and surface roughness of the sample, and the wavelength of the probe light. "Polarized light fingerprint" characterizes the polarization properties of scattered light spreading in a three-dimensional space as a two-dimensional pattern. In this research, to have clear relationship of "polarized light fingerprint" with several factors, we carried on from the measurement system development to fundamental measurements and analysis, and found certain theories on the scattering surface.

  • Construction and its application of the polarization fingerprint

    Grant number:24560043  2012.4 - 2015.3

    Japan Society for the Promotion of Science  University of Yamanashi  Grants-in-Aid for Scientific Research  Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

    JIN Lianhua, KONDOH Eiichi

      More details

    This project aims to build the “polarization fingerprint” of an object, which includes complete information on light scattered by the object surface. In this project, following works were fulfilled: i) proposed definition of the polarization fingerprint, ii) developed polarization fingerprint measurement system, iii) constructed polarization fingerprint of the metal and dielectric samples, iv) established simple scattering model and carried on theoretical analysis.

  • Interconnect formation for high-band-width packaging

    Grant number:23656213  2011 - 2012

    Japan Society for the Promotion of Science  University of Yamanashi  Grants-in-Aid for Scientific Research  Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research

    KONDOH Eiichi

      More details

    Bio veins such as amoeboid organism form an efficient network. A high speedelectronic circuit can be fabricated via giving electric conductivity to the bio veins. Inthis work, bio vein surfaces were were metallized using a metal deposition techniquefrom supercritical fluids, where a metal chelate was reduced by hydrogen dissolved inthe fulid. A few of micron-thick Cu or Pt was successfully deposited on non-conductivebio veins without special pretreatment. The tissues did not show a significantdegeneration upto about 200℃.

  • Multiscale control of supercritical fluid thin film processing using fluctuation imaging ellipsometry

    Grant number:21360147  2009 - 2011

    Japan Society for the Promotion of Science  University of Yamanashi  Grants-in-Aid for Scientific Research  Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

    KONDOH Eiichd, JIN Lianhua, KAKIO Shoji, WATANABE Mitsuhiro

      More details

    This project aims to establish experimental ways to "characterize" and "tame" the multiscale fluctuations present in supercritical fluids in terms of micro and nano electronic applications. The subprojects are three-fold : 1. Measurements of local fluctuation at the surface/interface of a substrate using ellipsometry, and its application to novel processing. 2. Development of a fast fluctuation imaging ellipsometer. 3. Development of novel surface acoustic wave sensors for measuring fluid fluctuation

  • 触媒作用を利用したシリコンへの微細配線形成技術の開発

    Grant number:20035008  2008 - 2009

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  特定領域研究

    松村 道雄, 池田 茂, 原田 隆史, 平井 豪, 近藤 英一

      More details

    触媒反応を利用したウエットプロセスによるシリコンの微細加工技術開拓の基礎として、触媒針を用い、その電位を外部から制御しながらそれをシリコンウエハに接触させ、シリコンへの孔形成過程を詳しく調べた。
    触媒針として直径100μmの細線を、金属の種類を変えて用いて孔形成を調べると、Ir,Pt,Pdにより良好な細孔が形成された。ある速度での孔形成を実現するための電位は、Pdが最も低く、IrとPtはほぼ同程度であった。このことは、Pdが孔形成の触媒能が強いことを示しているが、孔の形状を制御しにくいという問題があることが分かった。
    直径100μmPt針電極を用いて、シリコンウエハの特性と孔形成の関係を調べると、同じ電位においては、p型、n型によらず、ほぼ同じ速度で孔形成が起こることが確認された。ただし、p型のウエハに対しては、形成される孔に対して多くの電流が流れ、特に、比抵抗の小さいウエハについては、孔形成の電流効率は0.1%程度にまで低下した。
    一方、n型のウエハでは、電流効率が高く、1Ωcm以上の比抵抗のシリコンウエハについては、20%以上の電流効率となった。
    これらの結果に基づいて、触媒針とシリコンの接触箇所の周辺において、シリコンの電位分布が触媒針の電位、針と溶液界面の電気二重層、シリコンと溶液界面の電気二重層などにより決まっており、それらによってシリコンウエハの特性により、触媒針接触部分での溶解と、シリコン内への正孔注入の量的関係が変化するモデルを提唱した。
    孔の位置制御のために、マニュピュレーター付触媒針による加工装置を作製し、任意の形状の溝形成が行えることを実証した。
    ドライプロセスによる微細孔形成、SiCへの微細孔形成は、その速度が遅く、良好な微細加工技術への展開の見通しは立っていない。

  • 超高密度流体中での動的溶解度制御を利用した形状敏感型自己整合ナノプロセス

    Grant number:19026005  2007

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  特定領域研究

    近藤 英一

      More details

    本研究は,機能性超高密度流体中(超臨界流体や亜臨界流体など)で実現する「形状敏感」プロセス(凹部へ選択的に物質を堆積、形成する技術)により,スケール限界なくナノ構造体の作製を可能足らしめる堆積技術を実現することを目的とするものである。
    高密度流体中では堆積原料の多層吸着とそれに伴う毛管凝集を利用するもので微細凹構造が自己整合・選択的に埋め込まれる。下地の触媒作用を利用するのではないため,原理的にスケール限界前工程パターニングが簡単である。
    形状敏感特性を検討するため,TaNコート下地に加え,あえてパターンつき酸化膜下地を用いた。パターンは集積回路配線用テストパターンで,80〜300nm幅のヴィア/トレンチである。実験条件は,圧力約20MPa,温度210〜250℃,時間8〜30min,原料はCu(dibm)225mg/cc,水素添加圧力(有の場合)は0.8MPaである。
    Cu(dibm)2の融点以上でかつCu析出反応が起きないよう155℃まで加熱した後,降温・除圧したところ,ヴィア孔のコーナー部にのみ凝集・堆集物が確認された。次に反応開始温度以上まで昇温したところ,ヴィア/トレンチ内に優先的に堆積堆積が生ずることを確認できた。表面の堆積物はヴィア孔内の凝集・充填物を基点として成長した。さらに,原料の導入導入量を多くすることで,埋め込み性が向上することを確認した。
    以上から,前記した充填メカニズムを概略確認することができた。XTEM-EDX分析ではヴィア内のCuは単結晶であり,底コーナー部の残渣様の物質はヴィアCu部に比べてC,Oなどの有機成分を多く含んでいることがわかった。本特定領域研究においては,この凝集機構を堆積温度の動的変化を利用した微細構造内にCuを選択的に成長させ,その条件,ならびにメカニズムの検討を行った。メカニズムの検討は概略完了した。

  • Development of topography-sensitive nano device processing aided by in-situ ellipsometry in supercritical fluids

    Grant number:18206031  2006 - 2008

    Japan Society for the Promotion of Science  University of Yamanashi  Grants-in-Aid for Scientific Research  Grant-in-Aid for Scientific Research (A)

    KONDOH Eiichi

  • Development of Novel, High-Speed, and Environmentally-Friendly Thin Film Deposition Technology using Supercritical Carbon Dioxide Fluids

    Grant number:15360162  2003 - 2005

    Japan Society for the Promotion of Science  University of Yamanashi  Grants-in-Aid for Scientific Research  Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

    KONDOH Eiichi

      More details

    This project was aimed to providing a novel and environmentally-friendly technology for depositing thin films for highly-integrated and highly-functioning device applications using supercritical carbon dioxide fluids.
    In this project, we have developed a new deposition processor that allows independent control of deposition processor that functions like common thin film processors. Hydrogen reduction chemistry of Cu chelates was employed to deposit Cu thin films, minding to apply to ULSI metallization. It was found that Cu deposition proceeds through Langmuir-Hinshelwood deposition mechanism and that hydrogen chemisorption is the rate-determining step for Cu growth. Deposition comformability and gap-filling capability were also studied with respect to the deposition mechanism. The guiding principles for increasing deposition rate and improving gap-fill capability were found to be to promote hydrogen supply and its smooth chemisorption. The unreacted deposition precursor was collected at the exhaust of the deposition processor and was purified for its reuse/recyling.
    New deposition chemistries were also studied such as for Pt, Ru, and ZnO deposition. Nano components for MEMS/NEMS applications, for instance, nano rods and thorough vias for 3-dimensional integrated circuits, were fabricated with these materials, availing deep and high-aspect ratio deposition capability of this technology.
    In summary, we have accomplished our proposals on this technology and have succeeded to develop its new applications.

  • 超臨界流体を利用した配線形成技術の研究

    Grant number:14040210  2002

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  特定領域研究

    近藤 英一

      More details

    超臨界CO2は,液体なみの高密度,気体なみの高拡散性・低粘性,さらにゼロ表面張力や溶媒能を兼ね備えた,特異な流体である.安定,安価,無害,低コストであり,リサイクル性もあることから,食品産業などですでに工業的に利用されている.半導体製造プロセスでも,洗浄・乾燥工程や,低誘電率薄膜の作製工程で,超臨界CO2の利用が試みられている.
    この超臨界CO2を金属堆積のための反応場として用い,有機金属を溶解させ,ナノ空間構造内にCu堆積加工が可能であることを実証した.膜は(111)配向しており,信頼性の高い膜質であることを確認した.比抵抗2.15μΩ.cmと十分低い値が得られた.さらに,きわめて高い反射率が得られた。堆積は, Fe,Au,WN,TiN,TaNなど導電性下地上に優先的に起こった。原料のCuへの転換率はきわめて高いことも判明した.化学気相蒸着法にくらべて100℃以上のプロセス低温化が可能であることを確認した.このような優れた特長が、CO2の溶媒能に由来することを,超臨界Ar流体との比較検討を行うことで,確認した.

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Papers

  • Maximum thickness determinable by imaging ellipsometry Reviewed

    Lianhua Jin, Yoriatsu Kitamura, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz

    Japanese Journal of Applied Physics   2023.10

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/acff31

  • “Reflection and transmission ellipsometry measurement under incoherent superposition of light Reviewed

    2023.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (international conference proceedings)  

    DOI: 10.1117/12.3005554

  • Thin layer growth on cobalt surface in solutions simulating slurry chemistry for chemical mechanical polishing Reviewed

    Eiichi Kondoh, Shota Takeuchi, Lianhua Jin, Ryota Koshino, Satomi Hamada, and Hirokuni Hiyama

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   2022.6( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ac6219

  • Influence of Plasma Surface Treatment of Polyimide on the Microstructure of Aluminum Thin Films Reviewed

    Eiichi Kondoh

    Coatings   12 ( 3 )   334   2022.3

     More details

    Authorship:Lead author, Last author, Corresponding author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: https://doi.org/10.3390/coatings12030334

  • Characterization of thin films from reflection and transmission ellipsometric parameters Reviewed

    Lianhua Jin, Sota Mogi, Tsutomu Muranaka, Eiichi Kondoh, and Bernard Gello

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   61 ( 1 )   018004   2022.1( ISSN:0021-4922  eISSN:1347-4065 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)   Publisher:IOP Publishing Ltd  

    Spectroscopic ellipsometry is a powerful tool for the characterization of thin films/surfaces. To simultaneously extract optical constant and film thickness from ellipsometric parameters psi and Delta, dispersion models of material's refractive index and spectroscopic ellipsometry measurement have been often required. In this work, we propose an extraction method of optical parameters of thin films from the reflection and transmission ellipsometric parameters. This method necessitates neither spectroscopic information of psi and Delta, nor dispersion models. Verification measurements were carried out with the single-point and imaging ellipsometers, respectively.

    DOI: 10.35848/1347-4065/ac42af

    Web of Science

    Scopus

  • Hydrosilylation of High Porosity Porous Silicon with 1-Hexene in Supercritical CO2 Fluid Reviewed

    Naoto Takura, Lianhua Jin, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz

    ECS Journal of Solid State Science and Technology   10 ( 11 )   116005   2021.11( ISSN:2162-8769  eISSN:2162-8777 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)   Publisher:ELECTROCHEMICAL SOC INC  

    Hydrosilylation of organic groups on hydrogen-terminated porous silicon (PSi) enhances its luminescence stability. Increasing PSi porosity improves its luminescence efficiency. However, for as-formed PSi layers with higher porosity than 75%, it is very difficult to preserve its fine structure during air-drying. Here, a process of both drying and hydrosilylation of highly porous silicon in ambient supercritical fluid was developed. 1-hexene was used for the hydrosilylation. Supercritical fluid hydrosilylation of PSi with porosity of 80% was achieved. The effects of the process were evaluated in terms of Fourier transform infrared spectroscopy. Stable photoluminescence of high porosity PSi was also obtained.

    DOI: 10.1149/2162-8777/ac344b

    Web of Science

  • Lateral ellipsometry resolution for imaging ellipsometry measuremen Reviewed

    Lianhua Jin, Eiichi Kondoh, Yuki Iizuka, Motoyuki Otake, and Bernard Gelloz

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   60 ( 5 )   058003   2021.4( ISSN:0021-4922  eISSN:1347-4065 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)   Publisher:IOP PUBLISHING LTD  

    As an approach to integrate both single-point measurement ellipsometry and optical microscopy, imaging ellipsometry possesses the capability of measurement of distributions of optical constants and/or thickness of sample surfaces. Considering the exact distinguishment of neighboring surfaces from imaging ellipsometry measurement, in this note, we propose to use a new criterion for the lateral ellipsometry resolution: About 2.23 fold of the Abbe diffraction limit for a microscope. This criterion will be helpful for the estimation of the applicability of an imaging ellipsometer into the evaluation of micro-patterned surfaces.

    DOI: 10.35848/1347-4065/abf5ac

    Web of Science

    Scopus

  • Synthesis and Characterization of Ni-Pt Alloy Thin Films Prepared by Supercritical Fluid Chemical Deposition Technique Reviewed

    Sudiyarmanto Eiichi Kondoh

    Nanomaterials   11   2021.1

     More details

    Authorship:Corresponding author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: https://doi.org/10.3390/nano11010151 htt

  • Enhancing resistant starch content in brown rice using supercritical carbon dioxide processing Reviewed

    Masahiro Matsubara Yasuhisa Nakato Eiichi Kondo

    JOURNAL OF FOOD PROCESS ENGINEERING   2020.12( ISSN:0145-8876 )

     More details

    Authorship:Last author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1111/jfpe.13617

  • Hydrosilylation of High Porosity Porous Silicon with 1-Hexene in Supercritical CO2 Fluid Reviewed

    Takura Naoto, Lianhua Jin, Eiichi Kondoh and Bernard Gelloz

        98 ( 2 )   131 - 137   2020.10( ISSN:1938-6737  ISBN:9781607688976  eISSN:1938-5862 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (international conference proceedings)  

    Hydrosilylation of organic groups on hydrogen-terminated porous silicon enhances its stability and increasing the porosity of the porous silicon improves its luminescence efficiency. For as-formed thick porous silicon layers with high porosity, however, it is very difficult to preserve its fine structure during air-drying. Here, a process of both drying and hydrosilylation of highly porous silicon in ambient supercritical fluid was developed. 1-hexene was used for the hydrosilylation. The parameters of ambient temperature and processing time have been investigated for optimal process. The effects of the process were evaluated by means of Fourier transform infrared spectroscopy. Supercritical fluid hydrosilylation of porous silicon with thickness of 10 μm and porosity of 80% was achieved. Stable photoluminescence of processed porous silicon was also obtained.

    DOI: 10.1149/09802.0131ecst

    Scopus

  • Supercritical Fluid Processing for Microfabrication Reviewed

    Eiichi Kondoh

        86 ( 9 )   672 - 674   2020.9

     More details

    Authorship:Lead author, Last author, Corresponding author   Language:Japanese   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • エリプソメトリック顕微鏡 ~斜め観測用顕微鏡の設計とその応用~ Reviewed

    金 蓮花 上原 誠 ジェローズ ベルナール 近藤 英

    精密工学会誌   86 ( 7 )   533 - 536   2020.8

     More details

    Authorship:Last author   Language:Japanese   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • ミューラー行列の数値解析による多素子列偏光システムにおける各素子の

    金 蓮花 春日翔貴 近藤英一 高和宏行

    光学   49 ( 7 )   289 - 295   2020.7

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Design of a spectroscopic imaging ellipsometer

    Lianhua Jin, Makoto Uehara, Takashi Iwao, Yuki Iizuka, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz

        2020.6

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (international conference proceedings)  

  • Kinetics of Ni thin film synthesis by supercritical fluid chemical deposition Reviewed

    Sudiyarmant Eiichi Kondoh

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59   2020.5( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Authorship:Last author, Corresponding author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab8be3

  • Growth kinetics of Cu surface layers in H2O2–BTA aqueous solutions Reviewed

    Eiichi Kondoh1 Mao Toyama Linhua Jin Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   59   2020.4( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab83dd

  • Imaging ellipsometry measurement noises associated with non-uniform retardation of the compensator Reviewed

    Lianhua Jin, Yuki Iizuka, Eiichi Kondoh, Makoto Uehara, Bernard Gelloz

    OPTICAL REVIEW   27 ( 1 )   73 - 80   2020.2( ISSN:1340-6000  eISSN:1349-9432 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)   Publisher:OPTICAL SOC JAPAN  

    Owing to high accuracy in the whole measurement range, the compensator-rotating method is a powerful technique for transmission/reflection ellipsometric measurements. The compensator-rotating imaging ellipsometer, which is a system combing the optical microscope and single measurement point ellipsometer, faces non-ideal measurement conditions involving nonuniformity of the retardation across the compensator. In this paper, we study the effect of non-ideal measurement conditions on the measurement noises and introduce the systematic solution.

    DOI: 10.1007/s10043-019-00569-5

    Web of Science

  • Calibration of the retardation inhomogeneity for the compensator-rotating imaging ellipsometer Reviewed

    Lianhua Jin, Yuki Iizuka, Takashi Iwao, Eiichi Kondoh, Makoto Uehara, and Bernard Gelloz

    APPLIED OPTICS   58 ( 33 )   9224 - 9229   2019.11( ISSN:1559-128X  eISSN:2155-3165 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)   Publisher:OPTICAL SOC AMER  

    Owing to high accuracy in the whole measurement range, the compensator-rotating method is a main approach for the single-point ellipsometric measurement. The disadvantage of this method is the complexity resulting from the retardation calibration for the rotating compensator. The compensator-rotating imaging ellipsometer, a system combining the optical microscope and the single-point measurement ellipsometer, faces a similar issue. An important problem for the imaging ellipsometer is that the retardation of the compensator manifests inhomogeneity over the view field. Here, we propose a calibration method of the retardation of the compensator for the imaging ellipsometer. The approach was tested experimentally with a homebuilt imaging ellipsometer by generating maps of the ellipsometric parameters Delta and psi of samples of a Si wafer and an opaque Cr thin film. (C) 2019 Optical Society of America

    DOI: 10.1364/AO.58.009224

    Web of Science

  • Facile and efficient gas-phase pressure-controlled thermal functionalization of nanocrystalline porous silicon with 1-hexene Reviewed

    Bernard Gelloz, Takuma Iriyama, Naoto Takura, Eiichi Kondoh, and Lianhua Jin

    ECS Journal of Solid State Science and Technology   8 ( 9 )   R109 - R112   2019.8( ISSN:2162-8769 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)   Publisher:ELECTROCHEMICAL SOC INC  

    Substitution of hydrogen at porous silicon (PSi) surface by organic groups can be done via thermally activated hydrosilylation reactions in which PSi is left for several hours into liquid alkenes at temperatures typically over 100 degrees C. For alkenes whose boiling points are below 100 degrees C (e.g. 1-heptene and shorter molecules), the process suffers from high reagent boiling and evaporation. Gas-phase hydrosilylation is an alternative when using short molecules. It has not been as extensively studied, and was mainly done in plasma reactors with silicon nanocrystals. Here we present a new method for facile gas-phase thermally-activated hydrosilylation in PSi, but using liquid solutions as reagent (1-hexene was used here). PSi and liquid alkene are loaded at room temperature into a chamber which is then closed and heated up to a temperature greater than the alkene boiling point. The effects of process temperature, time and pressure were investigated by means of Fourier transform infrared spectroscopy. The maximum theoretical derivatization efficiency was achieved with optimized parameters. The derivatization was uniform across the PSi layer depth. PSi luminescence was effectively stabilized by the process. The new gas-phase method presented here is facile, requires very small amount of liquid reagent, and is useful for attachment of short molecules to PSi or other materials surface. (c) 2019 The Electrochemical Society.

    DOI: 10.1149/2.0051909jss

    Web of Science

  • Imaging ellipsometry of porous silicon

    L. Jin, T. Akiyama, Y. Iizuka, E. Kondoh, and B. Gelloz

    Proceedings of SPIE   11142   1114201-77   2019.4

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (international conference proceedings)   Publisher:Optics & Photonics International Congress 2019, Optical Technology and Measurement for Industrial Applications (OPTM2019),  

  • Room-Temperature Formation of Intermixing Layer for Adhesion Improvement of Cu/Glass Stacks Reviewed

    Mitsuhiro Watanabe, Eiichi Kondoh

    IntechOpen   2019.2

     More details

    Authorship:Last author   Language:English   Publishing type:(MISC) Introduction and explanation (others)  

    DOI: 10.5772/intechopen.84362

  • Photoetching of Porous Silicon Nanostructures in Hydrofluoric Acid using Monochromatic Light Reviewed

    Bernard Gelloz, Hiroyuki Fuwa, Eiichi Kondoh, Lianhua Jin

    ECS Journal of Solid State Science and Technology   7 ( 12 )   P730 - P735   2018.12( ISSN:2162-8769  eISSN:2162-8777 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    Photo-assisted etching of porous silicon (PSi) in hydrofluoric acid (HF) solution has been, so far, not well controlled and characterized. In this paper, the progress of photoetching of PSi formed from lightly-doped p-type silicon in ethanolic HF solutions was monitored using an in situ photoconduction technique. A model was proposed to explain the results. Two regimes were characterized, one in which the photoetch rate is limited by the supply of photo-generated holes at the Si surface, and another one where it is limited by the rate R0 of the chemical reactions after initial hole capture, for illumination powers greater than a threshold value. This value was about 1 mW/cm2 when using a wavelength of 450 nm for a porosity of 62%. R0 was evaluated as about 0.06 Å/min. The model was used to calculate porosity profiles during photoetching. The effect of illumination wavelengths is discussed. A signature of quantum confinement in high-porosity PSi was observed.

    DOI: 10.1149/2.0121812jss

    Scopus

  • Cu Wiring Fabrication by Supercritical Fluid Deposition for MEMS Devices Invited Reviewed

    Eiichi Kondoh

    IntechOpen   4   47 - 62   2018.11

     More details

    Authorship:Lead author, Last author, Corresponding author   Language:English   Publishing type:(MISC) Introduction and explanation (others)   Publisher:IntechOpen  

    DOI: 10.5772/intechopen.81636

  • Extraction of properties of individual component for the retarder – linear diattenuator – retarder system and its application

    L. Jin, E. Kondoh, H. Kowa, B. Gelloz

        108190   108190R   2018.10

     More details

    Language:English   Publishing type:(MISC) Introduction and explanation (international conference proceedings)  

  • Dimensional measurement of internal profile using the optical caliper

    L. Jin, N. Miyatsu, E. Kondoh, B. Gelloz, N. Kanazawa, T. Yoshizawa

        108190   108190K   2018.10

     More details

    Language:English   Publishing type:(MISC) Introduction and explanation (international conference proceedings)  

  • 超臨界二酸化炭素流体中における薄膜堆積 Reviewed

    近藤英一

    Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan    25 ( 397 )   431 - 436   2018.9

     More details

    Authorship:Lead author, Last author, Corresponding author   Language:Japanese   Publishing type:(MISC) Introduction and explanation (scientific journal)  

  • Oxygen-assisted platinum etching in supercritical carbon dioxide fluids using hexafluoroacetylacetone Reviewed

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57   07ME01-1 - 07ME01-2   2018.7( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Flat-shaped microfluidic optical cell for in situ ellipsometry using glass slide as optical window component Reviewed

    Eiichi Kondoh, Koki Segawa, Lianhua Jin, Satomi Hamada, Shohei Shima, and Hirokuni Hiyama

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   57 ( 7 )   07MD01-1 - 07MD01-2   2018.7( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • 超臨界流体を用いた薄膜堆積・微細埋め込みと関連技術 Invited

    近藤英一

    機能材料   38 ( 6 )   13 - 19   2018.6

     More details

    Authorship:Lead author, Last author, Corresponding author   Language:Japanese   Publishing type:(MISC) Introduction and explanation (commerce magazine)  

  • Measurement of diameter of cylindrical openings using a disk beam probe Reviewed

    Lianhua Jin, Nobuto Miyatsu, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz, Naobumi Kanazawa, and Toru Yoshizawa

    OPTICAL REVIEW   25 ( 6 )   656 - 662   2018.6( ISSN:1340-6000  eISSN:1349-9432 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)   Publisher:OPTICAL SOC JAPAN  

    The diameter of cylindrical openings is conventionally measured with the mechanical and contact method. In this paper, we propose a contactless optical approach to measure dimensions of inner profile by a disk beam probe. The measurement is carried out illuminating the inner cylindrical opening with a light sheet generated by the disk beam probe, acquiring the light-section image of the object with an image sensor through a widefield lens, then numerically extracting the diameter. During measurement, the probe is aligned inside the openings with high freedom, which causes the optical section to manifest a variety of ellipses besides a circle accordingly. The measurement method copes with extracting the diameter of openings from various ellipse optical sections. The high freedom of probe alignment allows optical diameter measurement to be flexible and simple. The dimensions of cylindrical openings of manufactured parts were practically measured with the disk beam probe, and the results were confirmed with those measured with the vernier caliper.

    DOI: 10.1007/s10043-018-0459-7

    Web of Science

  • Extracting calibrated parameters from imaging ellipsometric measurement Reviewed

    Lianhua Jin, Takumi Tanaka, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz, and Makoto Uehara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 ( 11 )   116602-1 - 116602-6   2017.10( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Polarization characteristics of diffraction scattering from metal rough surface Reviewed

    L. Jin, T. Taguchi, E. Kondoh, and B. Gelloz

    APPLIED SURFACE SCIENCE   421   565 - 570   2017.10( ISSN:0169-4332 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • DENSITY EVALUATION OF SUB-100 nm PARTICLES BY USING ELLIPSOMETRY

    Eiichi Kondoh Katsuya Suzuki Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama

    Proceedings of International Conference of Planarization/CMP Technology   60 - 64   2017.10

     More details

    Language:English  

  • Use of Metal Oxide as a Cu/Glass Adhesion Promoting Layer Reviewed

    Chisato Hayashi Mitsuhiro Watanabe Eiichi Kondoh

        68 ( 12 )   723 - 726   2017.6

     More details

    Authorship:Last author   Language:Japanese   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Structures of Cu surfaces developing in benzotriazole solutions: Effect of pH Reviewed

    Eiichi Kondoh Tatsuya Kawakami Mitsuhiro Watanabe Linhua Jin Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56   07KH01-1 - 07KH01-6   2017.6( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English  

    The effect of pH on layer formation onto clean Cu surfaces in benzotriazole (BTA) aqueous solutions was studied by in situ spectroscopic ellipsometry. The effect of H2O2 addition was also investigated. Time changes in the ellipsometric parameters Ψ and Δ, which correspond to the structural changes of the layers on Cu, were discussed. In acidic solutions, a BTA or a Cu–BTA complex layer grows directly on Cu. The outdiffusion of Cu is suppressed at the Cu layer interface. When H2O2 was mixed, the Cu surface is eroded in acidic solutions. In alkaline solutions, the BTA layer grows on the oxidized Cu layer, or no growth occurs, depending on the composition of the solutions. In neutral solutions, the Cu–BTA complex layer forms on Cu, and the uncovered part is oxidized in the presence of H2O2.

  • Removal of organic template of mesoporous organosilicate thin films using supercritical carbon dioxide fluids Reviewed

    Eiichi Kondoh1 Koki Segawa Mitsuhiro Watanabe Lianhua Jin Liping Zhang Mikhail R. Baklanov

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   56 ( 7 )   07KF02-1 - 07KF02-4   2017.6( ISSN:0021-4922  eISSN:1347-4065 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)   Publisher:IOP PUBLISHING LTD  

    An organic template of periodic mesoporous organosilicate films was removed using supercritical CO2 fluids that are compressive solvents with a nanopenetration capability. The removal efficiency was evaluated by infrared spectroscopy and refractive index measurements. The removal ratio was dependent on treatment pressure and temperature and improved when the fluid density and/or temperature was high. Because a very high process temperature can deteriorate the organosilicate frame structure, the removal at a low temperature and a high pressure is preferable. The films under supercritical CO2 processing were characterized also in situ ellipsometry. It was found that the removal is a fast process and mostly completes during temperature ramping.

    DOI: 10.7567/JJAP.56.07KF02

    Web of Science

  • Fe- or Fe oxide-embedded anodic alumina membrane for nanocarbon growth―fabrication of membrane and observation of initial nanocarbon growth Reviewed

    MICROELECTRONIC ENGINEERING   176   58 - 61   2017.2( ISSN:0167-9317 )

     More details

    Language:English  

    The present paper investigates the development of a novel process for fabricating catalyst membranes for a carbon transmittance method (CTM). The CTM is a continuous growth method for carbon nanotubes (CNTs) in which one chamber containing carbon source gas and another chamber filled with an inert gas for CNT growth are separated by a catalyst-embedded membrane. In the present study, the membranes were fabricated by filling the nanopores of a self-supporting anodic alumina membrane (AAM) with chemical-vapor-deposited Fe using Fe(CO)5 as a precursor. Nanocarbon (NC) was grown by a (non-CTM) catalytic chemical vapor deposition (CCVD) method, which is a standard technique for CNT growth, at 700 °C using C2H2 as a carbon source. The embedded Fe was oxidized during the temperature ramp prior to C2H2 addition, whereas the oxidized Fe functioned as a catalyst for NC growth. When the pores of the AAM were filled with Fe oxide, the fill Fe oxide functioned as a good catalyst.

    DOI: 10.1016/j.mee.2017.01.039

  • Optical Absorption and Quantum Confinement in Porous Silicon Nanostructures Studied by Chemical Dissolution in HF Solutions and Photoconduction Reviewed

    ECS Journal of Solid State Science and Technology   6 ( 1 )   R1 - R6   2017.1( ISSN:2162-8769 )

     More details

    Language:English  

  • In situ ellipsometry of Cu surfaces immersed in benzotriazole-hydrogen peroxide solutions Reviewed

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   55 ( 6S3 )   1 - 6   2016.6( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Language:English  

    In the chemical mechanical polishing (CMP) of Cu, the Cu surface is oxidized and is concurrently removed by the mechanical function of an abrasive. Surface oxidation can lead to severe surface corrosion, and to prevent this, a corrosion inhibitor is added to slurries. Accurate understanding of the competition between oxidation and passivation is essential for advanced Cu CMP technologies. In this work, layer formation on clean Cu surfaces in benzotriazole (BTA), H2O2, and BTA–H2O2 aqueous solutions was studied by in situ spectroscopic ellipsometry. Time changes of ellipsometric parameters are discussed with respect to BTA and H2O2 concentrations. It was found that the BTA adsorbs onto the Cu surface and the adsorbed BTA transforms into a Cu–BTA complex in about 3min after the onset of adsorption. The BTA/complex layer passivates the Cu surface against oxidation by H2O2

    DOI: 10.7567/JJAP.55.06JG03

  • Extraction of polarization properties of the individual components of a layered system by using spectroscopic Mueller matrix analysis Invited Reviewed

    OPTICS EXPRESS   24 ( 9 )   9757 - 9765   2016.5( ISSN:1094-4087 )

     More details

    Language:English  

  • Ellipsometric measurement of particle-spiked wafer surfaces

    Proceedings of 2015 International Conference on Planarization/CMP Technology (ICPT)   188 - 190   2016.4

     More details

    Language:English  

  • Supercritical carbon dioxide etching of transition metal (Cu, Ni, Co, Fe) thin films Reviewed

    Md Rasadujjaman, Yoshiki Nakamura, Mitsuhiro Watanabe, Eiichi Kondoh, and Mikhail R. Baklanov   153 ( 3 )   5 - 10   2015

     More details

    Language:English  

  • Supercritical fluid chemical deposition of Cu in Ru and TiN-lined deep nanotrenches using a new Cu(I) amidinate precursor Reviewed

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudoh, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh,   137 ( 10 )   32 - 36   2015

     More details

    Language:English  

  • Polarization characteristics of scattered light from macroscopically rough surfaces Reviewed

    Lianhua Jin, Koji Yamaguchi, Mitsuhiro Watanabe, Shinichiro Hira, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz   22 ( 4 )   511 - 520   2015

     More details

    Language:English  

  • Selective Cu fillingof nanopores using supercritical carbon dioxide Reviewed

    Eiichi Kondoh, Yukihiro Tamegai, Mitsuhiro Watanabe, and Lianhua Jin   54 ( 5S )   05EA02-1 - 05EA02-4   2015

     More details

    Language:English  

  • Agglomeration and diffusion in Cu thin films under supercritical CO2 annealing Reviewed

    Yoshiki Nakamura, Mitsuhiro Watanabe, and Eiichi Kondoh   54 ( 5S )   05EA03-1 - 05EA03-4   2015

     More details

    Language:English  

  • Formation of zinc oxide thin film using supercritical fluids and its application in fabricating a reliable Cu/glass stack Reviewed

    Mitsuhiro Watanabe, Shigeaki Tamekuni, and Eiichi Kondoh   141 ( 6 )   184 - 187   2015

     More details

    Language:English  

  • Dispersion measurement of the electro-optic coefficient r22 of the LiNbO3 crystal with Mueller matrix spectropolarimetry Reviewed

    Lianhua Jin, Kouhei Nara, Kuniharu Takizawa, and Eiichi Kondoh   54 ( 7 )   2015

     More details

    Language:English  

  • Supercritical CO2 reactor for wafer-scale thin film deposition: reactor concept, numerical results, and Cu deposition Reviewed Major achievement

    Eiichi Kondoh, Takahiro Ueno, Shuhei Kurita, Mitsuhiro Watanabe, Satoshi Yamamoto, and Tatsuo Suemasu   591 ( 9 )   13 - 17   2015

     More details

    Language:English  

  • Fabrication of a Cu/Ni stack in supercritical carbon dioxide at low-temperature Reviewed

    Md Rasadujjaman,Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudoh, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh   591 ( 9 )   13 - 17   2015

     More details

    Language:English  

  • Correction of large retardation window effect for ellipsometry measurements using quasi-Newton method Reviewed

    Lianhua Jin, Syouki Kasuga, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz   54 ( 10 )   2991 - 2998   2015

     More details

    Language:English  

  • 塗布法によって堆積したZnO薄膜を用いたCu/ガラス構造の密着性向上ならびにその形成条件の検討 Reviewed

    渡邉満洋, 小池光海, 近藤英一

    表面技術   66 ( 11 )   534 - 539   2015

     More details

    Language:Japanese  

  • In situ imaging ellipsometer using a LiNbO3 electrooptic crystal Reviewed

    Thin Solid Films   571   532 - 537   2014

     More details

    Language:English  

  • Improvement of adhesion and interfacial diffusion behavior in Cu/glass structures using OsOx layers for microelectromechanical systems Reviewed

    Microelectronic Engineering   120 ( 5 )   59 - 66   2014

     More details

    Language:English  

  • Room-temperature intermixing for adhesion enhancement of Cu/SiO2 interface by adopting SiO2 surface dope and noble metal catalyzation Reviewed Major achievement

    Japanese Journal of Applied Physics   53 ( 5 )   05GA02-1 - 05GA02--6   2014

     More details

    Language:English  

  • Cu coating inside small (15um) and ultrahigh-aspect-ratio (> 130) through-holes using supercritical CO2 fluid Reviewed Major achievement

    Japanese Journal of Applied Physics   53 ( 5 )   05GA08-1 - 05GA08--7   2014

     More details

    Language:English  

  • Codeposition of Cu/Ni thin films from mixed precursors Reviewed

    Japanese Journal of Applied Physics   53 ( 5 )   05GA07-1 - 05GA07-5   2014

     More details

    Language:English  

  • Design of a Multi-Wafer Reactor for Supercritical Fluid Deposition of Cu in Mass Production: (1) Reaction Mechanism and Kinetics Reviewed

    Journal of Chemical Engineering of Japan   47 ( 9 )   737 - 742   2014

     More details

    Language:English  

  • In situ observation of Pt deposition process by using spectroscopic ellipsometry Reviewed

    Microelectronic Engineering   121 ( 6 )   39 - 41   2014

     More details

    Language:English  

  • Nanohole Coat/Fill with Pt via Chemical Deposition in Supercritical Fluids Reviewed

    Key Engineering Materials   617   184 - 186   2014

     More details

    Language:English  

  • Copper deposition in microporous silicon using supercritical fluid Reviewed

    Thin Solid Films   567 ( 9 )   82 - 86   2014

     More details

    Language:English  

  • Nickel filling in nanofeatures using supercritical fluid and its application to fabricating a novel catalyst structure for continuous growth of nanocarbon fibers Reviewed

    APL Materials   2 ( 10 )   100701   2014

     More details

    Language:English  

  • Design of a Multi-Wafer Reactor for Supercritical Fluid Deposition of Cu in Mass Production: (2) Benchmarks for Single- and Multiple-Wafer Reactors Reviewed

    Journal of Chemical Engineering of Japan   47 ( 9 )   743 - 749   2014

     More details

    Language:English  

  • General window correction method for ellipsometry measurements Reviewed

    Optics Express   22 ( 23 )   27811 - 27820   2014

     More details

    Language:English  

  • 自己集積化ナノリソグラフィを利用したSiナノホールアレイ形成とCu埋め込み Reviewed

    藤英一,玉井架,松村道雄

    表面技術   64 ( 12 )   659 - 661   2013.12

     More details

    Language:Japanese  

  • 超臨界流体を利用した生体組織のメタライズ Reviewed

    近藤英一, 望月裕文, 渡邉満洋

    表面技術   64 ( 8 )   365 - 368   2013.8

     More details

    Language:Japanese  

  • Supercritical fluid deposition of copper into mesoporous silicon Reviewed

    Thin Solid Films   545   357 - 360   2013.8

     More details

    Language:English  

  • Adhesion Strength and Microstructure of Cu/Ni/OsOx/glass Structure for Highly-Reliable Cu Interconnection Reviewed

    Materials Research Society (MRS) Online proceedings Library,   1559   2013.8

     More details

    Language:English  

  • Correction of large birefringent effect of windows for in-situ ellipsometry measurements Reviewed

    Optics Letters   39 ( 6 )   1549 - 1552   2013.6

     More details

    Language:English  

  • Room-Temperature Formation of a ZnO-Based Adhesion Layer for Nanoprecision Cu/Glass Metallization Reviewed

    Japanese Journal of Applied Physics    52 ( 5 )   05FB04-1 - 05FB04-6   2013.5

     More details

    Language:English  

  • Fast Imaging Ellipsometer Using a LiNbO3 Electrooptic Crystal Reviewed

    Japanese Journal of Applied Physics    52   036702-1 - 036702-7   2013.2

     More details

    Language:English  

  • Effects of surface modification of carbon nanotube on platinum nanoparticle deposition using supercritical carbon dioxide fluid Reviewed

    Phys. Status Solidi A   209 ( 12 )   2514 - 2520   2012.9

     More details

    Language:English  

  • Resonance Properties of Surface Acoustic Wave Resonator in Supercritical CO2 Reviewed

    Japanese Journal of Applied Physics    51   07GC18-1 - 07GC18-4   2012.7

     More details

    Language:English  

  • Birefringence Polarimeter Using Dual LiNbO3 Electrooptic Crystal Modulators Reviewed

    Japanese Journal of Applied Physics    51   086801-1 - 086801-5   2012.7

     More details

    Language:English  

  • Preparationo fo Activated-Carobn-Supported Platinum Nanoparticles using Supercritical Fluid Chemical Deposition Reviewed

    Journal of the Surface Finishing Society of Japan   63 ( 6 )   365 - 368   2012.6

     More details

    Language:Japanese  

  • Conformal Copper Coating of True Three-Dimensional Through-Holes Using Supercritical Carbon Dioxide Reviewed

    Japanese Journal of Applied Physics    51   05EA01-1 - 05EA01-5   2012.5

     More details

    Language:English  

  • In-situ Spectroscopic Ellipsometry of the Cu Deposition Process from Supercritical Fluids: Evidence of an Abnormal Surface Layer Formation Reviewed

    Japanese Journal of Applied Physics    51   05EA02-1 - 05EA02-11   2012.5

     More details

    Language:English  

  • Behavior of Surface Acoustic Wave Resonators in Supercritical CO2 Reviewed

    Shoji Kakio,Katsuhiro Hayashi,Eiichi Kondoh,Yasuhiko Nakagawa

    Japanese Journal of Applied Physics    50   07HD0 - 07HD1   2011.7

     More details

    Language:English  

  • In-situ ellipsometry of porous low-dielectric constant films in supercritical carbon dioxide Reviewed

    Eiichi Kondoh,Shosaku Aruga

    Microelectronic Engineering   88   623 - 626   2011.5

     More details

    Language:English  

  • Theoretical Analysis for the Fast Birefringence Measurement System using Dual Electro-optic Crystal Modulators Reviewed

    L.Jin,Y. Masamura,E. Kondoh,H. Kowa,K. Takizawa

    Journal of the Japanese Society for Experimental Mechanics   ss198 - ss203   2011

     More details

    Language:English  

  • 359 Theoretical Analysis for High-speed Birefringence Measurement System

    SAITOU Takeshi, JTN Lianhua, KONDOU Eiichi, KOWA Hiroyuki, TAKIZAWA Kuniharu

    2010   90 - 91   2010.10

     More details

    Language:Japanese   Publisher:The Japan Society of Mechanical Engineers  

    CiNii Books

  • 化学工学年鑑2009(§9.5 材料製造)

    近藤英一(分担)

    73 ( 10 )   517 - 517   2010.10

     More details

    Language:Japanese  

  • 超臨界流体での化学的薄膜堆積-なせ被覆性・充填性に優れているのか-

    近藤英一

    表面技術   61 ( 8 )   566 - 570   2010.8

     More details

    Language:Japanese  

  • Initial Cu Growth in Cu-Seeded and Ru-Lined Narrow Trenches for Supercritital Fluid Cu Chemical Deposition Reviewed

    Eiichi Kondoh,Masahiro Matsubara,Kakeru Tamai,Yukihiro Shimogaki

    Japanese Journal of Applied Physics    49 ( 6 )   05FA7 - 05FA9   2010.5

     More details

    Language:English  

  • 超臨界流体を用いたCu薄膜の作製と半導体素子の配線・実装応用

    近藤英一,松原正弘

    JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OD JAPAN   2009.10

     More details

    Language:Japanese  

  • 3次元集精機回路電極用Siマイクロ孔内側壁に超臨界流体を利用してCuを堆積した際の被覆特性の検討

    近藤英一,松原正弘

    表面技術   60 ( 8 )   533 - 539   2009.8

     More details

    Language:Japanese  

  • Kinetics of Deposition of Cu Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solutions from a F-Free Copper(II) beta-Diketonate Complex Reviewed Major achievement

    Masahiro Matsubara,Michiru Hirose,Kakeru Tamai,Yukihiro Shimogaki,Eiichi Kondoh

    Journal of Electrochemical Society   156 ( 6 )   443 - 447   2009.6

     More details

    Language:English  

  • 超臨界流体を用いた極微細孔構造体への金属充填技術

    近藤 英一

    ケミカルエンジニアリング   386 - 391   2009

     More details

    Language:Japanese  

  • Topography-sensitive copper deposition in supercritical solutions Reviewed

    E.Kondoh,K.Nagano,C.Yamamoto,J.Yamanaka

    Microelectronic Engineering 86   902 - 905   2009

     More details

    Language:English  

  • 3次元集精機回路電極用Siマイクロ孔内側壁に超臨界流体を利用してCuを堆積した際の被覆特性の検討 Reviewed

    近藤英一,松原正弘

    表面技術   60 ( 8 )   533 - 539   2009

     More details

    Language:Japanese  

  • 超臨界流体でICを加工

    山梨日日新聞   2008.10

     More details

    Language:Japanese  

  • Conformal Deposition and Gap-Filling of Copper into Ultranarrow Patterns by Supercritical Fluid Deposition Reviewed

    Takeshi Momose,Masakazu Sugiyama,Eiichi Kondoh,Yukihiro Shimogaki

    Applied Physics Express   1   1 - 3   2008.9

     More details

    Language:English  

  • 超臨界流体中薄膜エリプソメトリ

    近藤英一

    Jasco report   18 - 21   2008.9

     More details

    Language:Japanese  

  • Deposition of Zinc Oxide Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solutions Reviewed

    Eiichi Kondoh,Kenji Sasaki,Yoichi Nabetani

    Applied Physics Express   1   1 - 3   2008.6

     More details

    Language:English  

  • Deposition Kinetics and Narrow-Gap-Filling in Cu Thin Film Growth from Supercritical Carbon Dioxide Fluids Reviewed

    Eiichi Kondoh,Junpei Fukuda

    Journal of Supercritical Fluids   44   466 - 474   2008.5

     More details

    Language:English  

  • Condensation and cleaning of an organometallic copper compound to/from porous low-dielectric constant thin films in supercritical carbon dioxide Reviewed

    E. Kondoh,E. Ukai,S. Aruga

    Physica status solidi (c)   5   1219 - 1222   2008.5

     More details

    Language:English  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術とMEMS・NEMSプロセス応用

    近藤英一

    Material Stage   7 ( 5 )   21 - 24   2007.8

     More details

    Language:Japanese  

    ISSN 13463926

  • Novel topography-sensitive bottom-up growth of ruthenium and copper for filling nano-features using supercritical CO2 fluids: beyond scalability Reviewed

    Kondoh, E.,Hirose, M.,Ukai, E.,Nagano, K.:

    Mater. Res. Soc. Symp. Proc.   992   1 - 6   2007.5

     More details

    Language:English  

  • Cu thin film deposition from supercritical carbon dioxide fluids using a flow-type depositon proecessor Reviewed

    E. Kondoh,M. Hirose,J. Fukuda

    Proc. Advanced Metallization Conference 2006   91 - 95   2007.4

     More details

    Language:English  

  • Reduction of thin oxidized copper films using a hot-filament hydrogen radical source Reviewed Major achievement

    E. Kondoh,M. Fukasawa,Ojimi

    J. Vac. Sci. Technol.A   25 ( 3 )   415 - 420   2007.3

     More details

    Language:English  

  • "Low-k materials face damages induced by mismatch of thermal expansion around the global bus lines when operation frequency is high

    H. Kato,T. Yoshida,T. Tatsuta,E. Kondoh

    Proceedinsg of Advanced Metallization Conference 2006 (MRS, PA, 2007), pp.489-493   2007.2

     More details

    Language:English  

  • Cu thin film deposition from supercritical carbon dioxide fluids using a flow-type depositon proecessor

    E. Kondoh,M. Hirose,J. Fukuda

    Proceedinsg of Advanced Metallization Conference 2006 (MRS, PA, 2007), pp.91-95   2007.2

     More details

    Language:English  

  • Nanostructure formation using supercritical fluids

    Eiichi Kondoh,Michiru HiroseEiichi Ukai

    Proceedings of the 8th Internatilanl Symposium on Supercritical Fluids, Nov. 5-8, 2006, Kyoto Intnl Conf Hall, Kyoto Japan, paper OB-3-02 (CD-ROM)   2006.11

     More details

    Language:English  

  • "A noise-free and jitterless cavity system to distribute clocks over 10GHz Reviewed

    H. Kato,T. Kohori,E. Kondoh,T. Akitsu

    IEEE Trasn. On Microwave Theory and Techniques   54 ( 11 )   3960 - 3967   2006.11

     More details

    Language:English  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤英一

    表面技術   57 ( 10 )   695 - 7--   2006.6

     More details

    Language:Japanese  

  • How to deliver a high-frequency clock over 100GHz using common BEOL Technologies

    H. Kato, T. Kohori, K. Watanabe, Y. Kodaira, E. Kondoh, T. Akitsu, and H. Kato

    Proc. Advanced Metaliization Conference (Oct. 13-14, Tokyo, 2005, pp.165-170 2006/2   2006.2

     More details

    Language:Japanese  

  • Characteristics of Copper Deposition in a Supercritical CO2 Fluid Reviewed

    E. Kondoh

    Thin Solid Films, Volume 491, Issues 1-2, 22 November 2005, Pages 228-234   1 ( 1 )   1 - 2   2005.11

     More details

    Language:Japanese  

  • Deposition of Ru Thin Films from Supercritical Carbon Dioxide Fluids Reviewed Major achievement

    E. Kondoh

    Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 44, No. 7B, p. 5799-5802   1 ( 1 )   1 - 2   2005.7

     More details

    Language:Japanese  

  • Futures of microcavity to distribute high-frequency clock over than 10GHz

    T. Kohori, H. Kato, E. Kondoh, and T. Akitsu

    Proc. 2004 Advanced Metallization Conference, in press (2005)   2005.2

     More details

    Language:Japanese  

  • その他の発表論文の標題

    近藤英一

    日本機械学会誌 Vol. 107, No. 1032, p. 45   2004.11

     More details

    Language:Japanese  

  • Control of selective and blanket ruthenium film deposition chemistry in supercritical CO2 fluid chemical deposition

    E. Kondoh

    Proc. 2004 International Microprocess and Nanotechnology Conference, p. 48--49 2004   2004.10

     More details

    Language:English  

  • Barrier/Copper Direct Deposition Possibility using Supercritical Carbon Dioxide Fluid (invited)

    E. Kondoh

    Proc. 21st International VLSI Multilevel Interconnection Conference (Sep 30/Oct 1, Hawaii), p.17-18. 2004   2004.9

     More details

    Language:English  

    invited

  • その他の発表論文の標題

    記事

    Semiconductor FPD World, Vol. 23, No.9, pp. 44-47   2004.9

     More details

    Language:Japanese  

  • Deposition of Cu and Ru thin films in deep nanotrenches/holes using supercritical carbon dioxide Reviewed Major achievement

    E. Kondoh

    Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 43, No. 6B, p. 3928-3933.   1 ( 1 )   1 - 2   2004.6

     More details

    Language:Japanese  

  • その他の発表論文の標題

    近藤英一

    クリーンテクノロジー Vol. 14, No. 6, pp. 55-58.   2004.6

     More details

    Language:Japanese  

  • Direct Deposition of Cu\Barrier Stacks on Dielectric/Nonconductive Layers using Supercritical CO2

    E. Kondoh, M. Hishikawa, M. Yanagihara, and K. Shigama

    Proc. 2004 IEEE International Interconnect Technology Conference, p.33 2004   2004.5

     More details

    Language:English  

  • Nanoscale Deposition in Supercritical Fluids, Cu Metallization Process and Barrier Metal Deposition Possibility

    E. Kondoh, M. Hishikawa, K. Shigama

    Proc. Advanced Metallization Conference 2003, (Oct. 21-23, Montreal, Canada / Tokyo, 2003.), p. 583-588. 2004   2004.2

     More details

    Language:English  

  • Noise free and jitter-less clock distribution method for high-frequency system using microcavity

    H. Kato, E. Kondoh, T. Akitsu, T. Kobori and H. Morishita

    Proc. Advanced Metallization Conference 2003, (Oct. 21-23, Montreal, Canada / Tokyo, 2003.), p. 65-68 2004   2004.2

     More details

    Language:English  

  • Metal Filling in Deep Nano Trechnces/Holes using Supercritical Carbon Dioxide

    E. Kondoh

    Proc. 2003 International Microprocess and Nanotechnology Conference, p. 42 2003   2003.10

     More details

    Language:Japanese  

  • その他の発表論文の標題

    新聞記事

    山梨日日新聞 H15年5月3日    2003.5

     More details

    Language:Japanese  

  • Paving the Way for Full-Fluide IC Metallization using Supercritical Carbon Dioxide

    E. Kondoh, V. Vezin, K. Shigama, S. Sunada, K. Kubo, and T. Ohta

    Proc. 2003 IEEE International Interconnect Technology Conference, p. 141, 2003.   2003.5

     More details

    Language:Japanese  

  • その他の発表論文の標題

    新聞記事

    日本工業新聞 H15年4月21日   2003.4

     More details

    Language:Japanese  

  • Copper Deposition Characteristics from a Supercritical CO2 Fluid

    E. Kondoh

    Proc. Advanced Metallization Conference 2002, Sep. 29-Oct. 1, San Diego/Tokyo, 2002.   2002.9

     More details

    Language:Japanese  

  • Characteristics of copper deposition in a supercritical CO2 fluid Reviewed

    E. Kondoh and H. Kato

    Microelectronic Engineering, Vol. 64, No. 1-4, p 495-499   1 ( 1 )   1 - 2   2002.7

     More details

    Language:Japanese  

  • Mesoscopic structure of porous low-dielectric-constant thin films.

        70 ( 5 )   546 - 549   2001.5

     More details

    Authorship:Lead author, Last author, Corresponding author   Language:Japanese   Publishing type:(MISC) Introduction and explanation (scientific journal)  

  • Comparative Study of Porous SOG Films with Different Non-destructive Instrumentation,

    M.R. Baklanov, E.Kondoh, E.K.Lin,

    2001.5

     More details

    Language:Japanese  

  • Comparative study of pore size of low-dielectric-constant porous spin-on-glass films using different methods of nondestructive instrumentation Reviewed

    E. Kondoh, M. R. Baklanov, E. Lin, D. Gidley, and A. Nakashima

    Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 40, No. 4A, pp.L323-L326   1 ( 1 )   1 - 2   2001.4

     More details

    Language:Japanese  

  • Change of Refractive Index and Thickness of Porous Spin-on-Glass Films during Exposure to Ar, O2, and H2 plasma Reviewed

    E. Kondoh

    Eurasina ChemTech Journal, Vol. 2, 245-250   1 ( 1 )   1 - 2   2001.2

     More details

    Language:Japanese  

  • Adhesion and Texture of Cu-1 mass% Thin Films Deposited on Polyimide Reviewed

    E. Kondoh

    Journal of Japan Institute of Metals, Vol. 64, No. 9, 715-718   1 ( 1 )   1 - 2   2000.9

     More details

    Language:Japanese  

  • Wafer Thermal Desorption Spectrometry in a Rapid Thermal Processing Reactor Using Atmospheric Pressure Ionization Mass Spectrometry Reviewed

    G. Vereecke, E. Kondoh, P. Richardson, K. Maex, M.M. Heyns, and Z. Nenyei.

    IEEE Trans. Semicon. Manufacturing, Vol. 13, No.3, pp.315-321. (Piscataway, NJ)   1 ( 1 )   1 - 2   2000.8

     More details

    Language:Japanese  

  • Application of in-line oxygen monitoring to a rapid thermal processing tool: diagnosing gas flow dynamics and silicidation processes Reviewed

    E. Kondoh, M. R. Baklanov, and K. Maex

    Materials Science in Semiconductor Processing, Vol 2, No. 4, pp.341-348.   1 ( 1 )   1 - 2   2000.7

     More details

    Language:Japanese  

  • Dehydration after plasma oxidation of porous low-dielectric-constant spin-on-glass films Reviewed

    E. Kondoh, T. Asano, H. Arao, A. Nakashima, and M. Komatu

    Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 39, No. 7A, pp.3919-3923   1 ( 1 )   1 - 2   2000.7

     More details

    Language:Japanese  

  • Effect of Oxygen Plasma Exposure of Porous Spin-On-Glass Films Reviewed

    E. Kondoh, T. Asano, A. Nakashima, and M. Komatsu

    Journal of Vacuum Science and Technology, Vol. B18, No. 3, pp.1276-1280.   1 ( 1 )   1 - 2   2000.5

     More details

    Language:Japanese  

  • Material characterization of Cu(Ti)-polyimide thin film stacks Reviewed

    E. Kondoh

    Thin Solid Films, Vol. 359, No. 2, pp. 255-260.(Amsterdam)   1 ( 1 )   1 - 2   2000.1

     More details

    Language:Japanese  

  • A chemical role of refractory metal caps in Co silicidation: Evidence of SiO2 reduction by Ti cap Reviewed

    E. Kondoh, T. Conard, S. J. W. Vandervorst, H. Bender, M. de Potter, and K. Maex

    Journal of Materials Research, Vol. 14, No. 11, pp. 4402-4408.(Pittsburgh, PA)   1 ( 1 )   1 - 2   1999.11

     More details

    Language:Japanese  

  • Measurements of trace ambient gaseous impurities on an atmospheric pressure rapid thermal processor Reviewed

    E. Kondoh, G. Vereecke, M. M. Heyns, K. Maex, and T. Gutt

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   17 ( 2 )   650 - 656   1999( ISSN:0734-2101 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Process integration induced thermodesorption from SiO2/SiLK resind dielectric based interconnects Reviewed

    M. R. Baklanov, M. Muroyama, M. Judelewicz, E. Kondoh, H. Li, J. Waeterloos, S. Vanhaelemeersch, and K. Maex

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B   17 ( 5 )   2136 - 2146   1999( ISSN:1071-1023 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • X-ray photoelectron spectroscopy and time-of-flight secondary ion mass spectrometry study of the role of Ti and TiN caps on the cobalt/SiO2 interface Reviewed

    T. Conard, E. Kondoh, H. De Witter, K. Maex, and W. Vandervorst

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   17 ( 4 )   1244 - 1249   1999( ISSN:0734-2101 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Self-Aligned CoSi2 for 0.18 um and Below Reviewed

    K. Maex, A. Lauwers, P. Besser, E. Kondoh, M. de Potter, and A. Steegen

    IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES   46 ( 7 )   1545 - 1550   1999( ISSN:0018-9383 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Characterization of HF Cleaning of Ion-Implanted Si Surfaces Reviewed

    E. Kondoh, M. R. Baklanov, and K. Maex

    Solid State Phenomena   65/66   271 - 274   1999

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Oxidation and roughening of silicon during annealing in a rapid thermal processing chamber Reviewed

    B. Mohadjeri, M. Baklanov, E. Kondoh, and K. Maex

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   83 ( 7 )   3614 - 3619   1998

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Structural Change in Porous Silica Thin Films after Plasma Treatment Reviewed

    E. Kondoh, M. R. Baklanov, H. Bender, and K. Maex

    Electrochemical and Solid State Letters   1 ( 5 )   224 - 226   1998

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Interaction between Co and SiO2 Reviewed

    E. Kondoh, R. A. Donaton, S. Jin, H. Bender, and K. Maex

    APPLIED SURFACE SCIENCE   136 ( 1/2 )   87 - 94   1998

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Characterization of HF-last cleaning of ion-implanted Si surfaces Reviewed

    E. Kondoh, M. R. Baklanov, F. Jonckx, and K. Maex

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   1 ( 2 )   107 - 117   1998

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Limitation of HF-Based Chemistry for Deep-Submicron Contact Hole Cleaning on Silicides Reviewed

    M. R. Baklanov, E. Kondoh, R. A. Donaton, S. Vanhaelemeersch, and K. Maex

    JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY   145 ( 9 )   3240 - 3246   1998

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Critical role of degassing for hot aluminum filling Reviewed

    J. Proost, E. Kondoh, G. Vereecke, M. Heyns, and K. Maex

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B   16 ( 4 )   2091 - 2098   1998( ISSN:1071-1023 )

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Interactions at interface between Cu99Ti1 films and polyimide Reviewed

    E. Kondoh, T.-P. Nguyen, D. Plachke, H. Carstanjen, and E. Arzt

    APPLIED PHYSICS LETTERS   70 ( 10 )   1251 - 1252   1997

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Chemical vapor deposition of aluminum from dimethylaluminumhydride (DMAH): Characteristics of DMAH vaporization and Al growth kinetics Reviewed

    E. Kondoh and T. Ohta

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   14 ( 6 )   2863 - 2871   1996( ISSN:0734-2101 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English  

  • 選択Al‐CVD法によるAl/Al直接接続ビア埋め込み技術の開発

    太田与洋,竹安伸行,近藤英一,河野有美子,山本浩

    まてりあ   34 ( 6 )   780 - 782   1995.6

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:(MISC) Introduction and explanation (scientific journal)  

  • ダイヤモンド気相合成の速度論および結晶成長に関する研究 Reviewed

    近藤英一

    学位論文(京都大学)   1 ( 1 )   1 - 2   1995

     More details

    Authorship:Lead author, Last author, Corresponding author   Language:Japanese  

  • メタライゼーション―Alの可能性を探る 第2部 ビア/コンタクトホールの信頼性 選択Al‐CVD法とEM耐性

    河野有美子,近藤英一,竹安伸行,太田与洋

    月刊Semiconductor World   1994   1994.12

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:(MISC) Institution technical report and pre-print, etc.  

  • 高度なCVDパラメータ制御性を有する熱フィラメント法によるダイヤモンド合成

    近藤英一,太田与洋

    New Diamond   1994 ( 1 )   13 - 19   1994.1

     More details

    Authorship:Lead author   Language:Japanese   Publishing type:(MISC) Introduction and explanation (scientific journal)  

  • Characterization of direct-contact via plug formed by using selective aluminum chemical vapor deposition Reviewed

    N. Takeyasu, Y. Kawano, E. Kondoh, T. Katagiri, H. Yamamoto, H. Shinriki, and T. Ohta

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   33 ( 1B )   424 - 428   1994( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Language:English  

  • Effect of gas-phase composition on the surface morphology of polycrystalline diamond films Reviewed

    E. Kondoh, T. Ohta, T. Mitomo, and K. Ohtsuka

    DIAMOND AND RELATED MATERIALS   3   270 - 276   1994( ISSN:0925-9635 )

     More details

    Authorship:Lead author, Corresponding author   Language:English  

  • Surface reaction kinetics of gas-phase diamond growth Reviewed

    E. Kondoh, T. Ohta, T. Mitomo, and K. Ohtsuka

    Journal of Applied Physics, Vol. 73, No. 6, pp. 3041-3046.(College Park, MD)   1 ( 1 )   1 - 2   1993.7

     More details

    Language:Japanese  

  • CVDダイヤモンド形成条件下でのマイクロ波プラズマCVD法のin‐situ観測

    太田与洋,近藤英一,三友亨

    New Diamond   9 ( 2 )   17 - 24   1993.4

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:(MISC) Introduction and explanation (scientific journal)  

  • Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Aluminum-Copper Alloy Films Reviewed

    T. Katagiri, E. Kondoh, N. Takeyasu, T. Nakano, H. Yamamoto, and T. Ohta

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   32 ( 8A )   L1078 - L1080   1993( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Language:English  

  • Interconnection Formation by Doping Chemical-Vapor-Deposition Aluminum with Copper Simultaneously: Al-Cu CVD Reviewed

    E. Kondoh, Y. Kawano, N. Takeyasu, and T. Ohta

    JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY   141 ( 12 )   3494 - 3499   1993( ISSN:0013-4651 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • Reactive-flow simulation of the hot-filament chemical-vapor deposition of diamond Reviewed

    E. Kondoh, K. Tanaka, and T. Ohta

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   74 ( 7 )   4513 - 4520   1993( ISSN:0021-8979 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English  

  • Homoepitaxial growth of diamond by an advanced hot- filament chemical vapor deposition method Reviewed

    E. Kondoh, K. Tanaka, and T. Ohta

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   74 ( 3 )   2030 - 2035   1993( ISSN:0021-8979 )

     More details

    Authorship:Lead author, Last author, Corresponding author   Language:English  

  • Thermal Chemical Vapor Deposition of Diamond from Methane-Hydrogen Gas System Pyrolized at Low Temperature (1450 °C) Reviewed

    E. Kondoh, T. Ohta, T. Mitomo, and K. Ohtsuka

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   31 ( 12B )   L1781 - L1784   1992( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English  

  • Experimental and calculational study on diamond growth by an advanced hot filament chemical vapor deposition method Reviewed

    E. Kondoh, T. Ohta, T. Mitomo, and K. Ohtsuka

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   72 ( 2 )   705 - 711   1992( ISSN:0021-8979 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English  

  • Reflection High-Energy Electron Diffraction Observation of Anti-Phase Domain Ordering of the 2x1 Reconstructed (111) Surface of Chemical-Vapor-Deposited Diamond Reviewed

    E. Kondoh, K. Tanaka, and T. Ohta

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   32 ( 7A )   L947 - L949   1992( ISSN:0021-4922 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English   Publisher:, Vol. 32, No. 7A, pp. L947-L949.(Tokyo)  

  • Effect of Sulfur Addition on the Solid-Liquid Interface Morphologies of Unidirectionary Solidified Fe-C Eutectic Alloys Reviewed

    E. Kondoh and H. Nakae

        55 ( 4 )   437 - 443   1991.4

     More details

    Authorship:Lead author   Language:Japanese  

  • Chemical Vapor Deposition of Diamond Films by an Advanced Hot Filament Method Reviewed

    E. Kondoh, T. Mitomo, T. Ohta, and K. Ohtsuka

    Hyomen Kagaku (Journal of the Surface Science Society of Japan)   12 ( 5 )   336 - 338   1991

     More details

    Authorship:Lead author   Language:Japanese  

  • Determination of activation energies for diamond growth by an advanced hot filament chemical vapor deposition method Reviewed

    E. Kondoh, T. Ohta, T. Mitomo, and K. Ohtsuka

    APPLIED PHYSICS LETTERS   59 ( 4 )   488 - 490   1991( ISSN:0003-6951 )

     More details

    Authorship:Lead author   Language:English  

  • An Investigation of product distributions in microwave plasma for diamond growth Reviewed

    T. Mitomo, T. Ohta, E. Kondoh, and K. Ohtsuka

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   70 ( 8 )   4532 - 4539   1991( ISSN:0021-8979 )

     More details

    Language:English  

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Books and Other Publications

  • Micro- and Nanofabrication for Beginners Major achievement

    Eiichi Kondoh( Role: Single Work)

    Jenny Stanford Publishing  2021.6   ISBN:9789814877091

     More details

    Language:English   Book type:Scholarly book

  • Micro- and Nanofabrication for Beginners

    Eiichi Kondoh( Role: Single Work)

    Jenny Stanford Publishing  2021.6   ISBN:9789814877091

     More details

    Language:English   Book type:Scholarly book

  • 半導体・MEMSのための超臨界流体 Major achievement

    近藤英一(編著),上野和良,内田寛,曽根正人,生津英夫,服部毅,堀照夫,森口誠(-)

    コロナ社  2012.9 

     More details

    Total pages:227   Responsible for pages:-   Language:Japanese  

  • 半導体・MEMSのための超臨界流体

    近藤英一, 上野和良, 内田寛, 曽根正人, 生津英夫, 服部毅, 堀照夫, 森口誠(-)

    コロナ社  2012.9 

     More details

    Total pages:227   Responsible for pages:-   Language:Japanese  

  • 第3章.5超臨界流体を利用した薄膜堆積技術

    近藤英一(-)

    CMC出版  2008.9 

     More details

    Responsible for pages:-   Language:Japanese  

  • 薄膜ハンドブック第2版 Major achievement

    近藤英一(-)

    オーム社  2008.3 

     More details

    Responsible for pages:-   Language:Japanese  

  • 超臨界流体中薄膜堆積法 ~原理,特徴,差別化要素~ Major achievement

    近藤英一(-)

    化学工業社  2007.12 

     More details

    Total pages:175   Responsible for pages:58-65   Language:Japanese  

  • 機械・材料系のための マイクロ・ナノ加工の原理 Major achievement

    近藤英一(-)

    共立出版  2005.10 

     More details

    Total pages:226   Responsible for pages:-   Language:Japanese  

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Presentations

  • イメージングエリプソメトリーによる計測可能な最大膜厚

    金 蓮花,北村 賢功,近藤 英一,ジェローズ ベルナール

    第84回応用物理学会秋季学術講演会  2023.9 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Cu 表面における SAM 膜形成の in-situ エリプソメトリ評価

    神保宏務,近藤英一

    表面技術協会第148回講演大会  2023.9  表面技術協会

     More details

    Event date: 2023.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界CO2を用いた Ni エッチングの温度・エッチャント濃度依存性

    竹内創太, 近藤英一

    第 87 回半導体・集積回路技術シンポジウム  2023.8  電気化学会電子材料委員会

     More details

    Event date: 2023.8

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京  

  • “Reflection and transmission ellipsometry measurement under incoherent superposition of light International conference

    Yoriatsu Kitamura, Sota Mogi, Tsutomu Muranaka, Keisuke Arimoto, Eiichi Kondoh, Lianhua Jin, and Bernard Gelloz

    Optical Technology and Measurement for Industrial Applications Conference  2023.4 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    DOI: 10.1117/12.3005554

  • 透過型ミューラー行列顕微鏡による薄膜膜厚分布計測

    長瀬 仁,北村 賢功,有元 圭介,近藤 英一,金 蓮花,ジェローズ ベルナール

    第70回応用物理学会春季学術講演会(2023年3月15-18日), 上智大学 四谷キャンパス  2023.3 

     More details

    Event date: 2023.3

    Language:Japanese   Presentation type:Poster presentation  

  • ドライプロセスへの超臨界CO2流体の応用

    化学工学会CVD反応分科会 第9回講演会  2022.6 

     More details

    Event date: 2022.6

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • Reflection and Transmission Ellipso-Microscopy International conference

    Lianhua Jin, Sota Mogi, Yoriatsu Kitamura, Tsutomu Muranaka, Keisuke Arimot, Eiichi Kondoh, and Bernard Gelloz

    The 9th International Conference on Spectroscopic Ellipsometry (ICSE-9), , May 22-28, 2022.  2022.5 

     More details

    Event date: 2022.5

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Beijing, China, Online only  

  • 反射・透過型エリプソメトリーによる薄膜厚計測

    茂木 壮太,有元 圭介,近藤 英一,金 蓮花,ジェローズ ベルナール

    第69回応用物理学会春季学術講演会  2022.3 

     More details

    Event date: 2022.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:青山学院大学 相模原キャンパス  

  • 反射・透過型エリプソメトリーによる薄膜厚計測

    茂木 壮太, 有元 圭介, 近藤 英一, 金 蓮花, ジェローズ ベルナール

    第69回応用物理学会春季学術講演会  2022.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:青山学院大学 相模原キャンパス  

  • 超臨界CO2金属エッチングの温度・エッチャント濃度依存性

    竹内 創太、近藤 英一

    電気化学会第89回大会  2022.3 

     More details

    Event date: 2022.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:オンライン  

  • 超臨界CO2金属エッチングの温度・エッチャント濃度依存性

    竹内 創太, 近藤 英一

    電気化学会第89回大会  2022.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:オンライン  

  • 甲斐江戸期梵鐘の非破壊成分分析の試み

    近藤英一

    山梨講演会  2021.11 

     More details

    Event date: 2021.11

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 甲斐江戸期梵鐘の非破壊成分分析の試み

    近藤英一

    山梨講演会  2021.11 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • In-situ ellipsometric measurements of surface layer formation on Co in aqueous solutions corrosion inhibitor and oxidizer International conference

    Eiichi Kondoh, Shota Takeuchi, Lianhua Jin,Ryota Koshino, Satomi Hamada, Shohei Shima, Hirokuni Hiyama

    Advanced Metallization Conference Asian Session (ADMETA plus 2021)  2021.10 

     More details

    Event date: 2021.10

    Language:English   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:Virtual  

  • In-situ ellipsometric measurements of surface layer formation on Co in aqueous solutions corrosion inhibitor and oxidizer International conference

    Eiichi Kondoh, Shota Takeuchi, Lianhua Jin, Ryota Koshino, Satomi Hamada, Shohei Shima, Hirokuni Hiyama

    Advanced Metallization Conference Asian Session (ADMETA plus 2021)  2021.10 

     More details

    Language:English   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:Virtual  

  • 反射・透過型エリプソメトリーによる薄膜厚計測

    金 蓮花,茂木 壮太,村中 司,近藤 英一,ジェローズ ベルナー

    Optics & Photonics Japan 2021  2021.10 

     More details

    Event date: 2021.10

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:オンライン  

  • 反射・透過型エリプソメトリーによる薄膜厚計測

    金 蓮花, 茂木 壮太, 村中 司, 近藤 英一, ジェローズ ベルナー

    Optics & Photonics Japan 2021  2021.10 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:オンライン  

  • 酸化前処理が Co 表面 BTA 層形成に及ぼす影響

    竹内翔太 ,金 蓮花 ,近藤英一,濱田聡美 ,小篠諒太,嶋 昇平 ,檜山浩國

    表面技術協会第144回講演大会  2021.9 

     More details

    Event date: 2021.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 酸化前処理が Co 表面 BTA 層形成に及ぼす影響

    竹内翔太, 金 蓮花, 近藤英一, 濱田聡美, 小篠諒太, 嶋 昇平, 檜山浩國

    表面技術協会第144回講演大会  2021.9 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 集積回路配線金属薄膜表面の防食層のエリプソメトリその場解析

    近藤英一

    2021年電気化学秋季大会  2021.9 

     More details

    Event date: 2021.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:オンライン  

  • 集積回路配線金属薄膜表面の防食層のエリプソメトリその場解析

    近藤英一

    2021年電気化学秋季大会  2021.9 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:オンライン  

  • Effect of plasma pretreatment of polyimide the microstructures of aluminum in aluminum/polyimide stack formation International conference

    Eiichi Kondoh

    Interfinish 2020 (postponed one year)  2021.9 

     More details

    Event date: 2021.9

    Language:English   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:Virtual  

  • Copper oxide as Cu/glass adhesion layer and its stability under reduction chemistry International conference

    Eiichi Kondoh and Takeshi Ito

    Interfinish 2020 (Postponed one year)  2021.9 

     More details

    Event date: 2021.9

    Language:English   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:Virtual  

  • Copper oxide as Cu/glass adhesion layer and its stability under reduction chemistry International conference

    Eiichi Kondoh, Takeshi Ito

    Interfinish 2020 (Postponed one year)  2021.9 

     More details

    Language:English   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:Virtual  

  • Effect of plasma pretreatment of polyimide the microstructures of aluminum in aluminum/polyimide stack formation International conference

    Eiichi Kondoh

    Interfinish 2020 (postponed one year)  2021.9 

     More details

    Language:English   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:Virtual  

  • イメージングエリプソメトリーにおける分解能に関する考察

    第68回応用物理学会春季学術講演会  2021.3 

     More details

    Event date: 2021.3

    Language:Japanese  

    Venue:オンライン  

  • イメージングエリプソメトリーにおける分解能に関する考察

    第68回応用物理学会春季学術講演会  2021.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Venue:オンライン  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCo表面の保護膜形成過程

    近藤英一 竹内翔太 金蓮花 濵田聡美 小篠諒太, 檜山浩國

    日本機械学会 関東支部 第27期総会・講演会  2021.3 

     More details

    Event date: 2021.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Zoom on line  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCo表面の保護膜形成過程

    近藤英一, 竹内翔太, 金蓮花, 濵田聡美, 小篠諒太, 檜山浩國

    日本機械学会 関東支部 第27期総会・講演会  2021.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Zoom on line  

  • H2O2添加BTA, m-BTA水溶液中におけるCo表面上形成過程の比較

    竹内翔太 金 蓮花 近藤英一 濱田聡美 小篠諒太 檜山浩國

    表面技術協会大143回講演大会  2021.3 

     More details

    Event date: 2021.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:山梨大学(Zoom online)  

  • H2O2添加BTA, m-BTA水溶液中におけるCo表面上形成過程の比較

    竹内翔太, 金 蓮花, 近藤英一, 濱田聡美, 小篠諒太, 檜山浩國

    表面技術協会大143回講演大会  2021.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:山梨大学(Zoom online)  

  • 深層学習を用いた画像処理によるイメージングエリプソメータの空間分解能向上の試み

    飯塚 祐基 金 蓮花 近藤 英一 ジェローズ ベルナール

    Optics & Photonics Japan 2020  2020.11 

     More details

    Event date: 2020.11

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 深層学習を用いた画像処理によるイメージングエリプソメータの空間分解能向上の試み

    飯塚 祐基, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    Optics & Photonics Japan 2020  2020.11 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Online  

  • Application of Supercritical Carbon Dioxide Fluids to Advanced Metallization International conference

    Eiichi Kondoh

    IEEE International Interconnect Technology Conference  2020.10 

     More details

    Event date: 2020.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:On line  

  • Application of Supercritical Carbon Dioxide Fluids to Advanced Metallization International conference

    Eiichi Kondoh

    IEEE International Interconnect Technology Conference  2020.10 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:On line  

  • Deposition of Ni-Based Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solution Via Flow-Type Reaction System International conference

    Sudiyarmanto Eiichi Kondoh

    Pacific rim meeting on electrochemical and solid state science (PRiME)  2020.10 

     More details

    Event date: 2020.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:On line  

  • Deposition of Ni-Based Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solution Via Flow-Type Reaction System International conference

    Sudiyarmanto, Eiichi Kondoh

    Pacific rim meeting on electrochemical and solid state science (PRiME)  2020.10 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:On line  

  • Hydrosilylation of High Porosity Porous Silicon with 1-Hexene in Supercritical CO2 Fluid

    Takura Naoto, Lianhua Jin, Eiichi Kondoh and Bernard Gelloz

    acific Rim Meeting on Electrochemical and Solid State Science 2020 (PRiME 2020)  2020.10 

     More details

    Event date: 2020.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Hawaii, USA / Virtual  

  • Hydrosilylation of High Porosity Porous Silicon with 1-Hexene in Supercritical CO2 Fluid

    Takura Naoto, Lianhua Jin, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz

    acific Rim Meeting on Electrochemical and Solid State Science 2020 (PRiME 2020)  2020.10 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Hawaii, USA / Virtual  

  • BTA-H2O2混合溶液中におけるCo表面層形成のpH依存性

    竹内翔太 金 蓮花 近藤英一 濱田聡美 小篠諒太 嶋 昇平 檜山浩國

    表面技術協会 第142回講演大会  2020.9 

     More details

    Event date: 2020.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:名古屋大学(オンライン)  

  • BTA-H2O2混合溶液中におけるCo表面層形成のpH依存性

    竹内翔太, 金 蓮花, 近藤英一, 濱田聡美, 小篠諒太, 嶋 昇平, 檜山浩國

    表面技術協会 第142回講演大会  2020.9 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:名古屋大学(オンライン)  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCu表面とCo表面上の層形成過程の比較

    竹内 翔太 遠山真央 金蓮花 近藤英一 濱田聡美 小篠諒太 嶋昇平 檜山浩國

    半導体集積回路シンポジウム  2020.8 

     More details

    Event date: 2020.8

    Language:Japanese   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:オンライン  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCu表面とCo表面上の層形成過程の比較

    竹内 翔太, 遠山真央, 金蓮花, 近藤英一, 濱田聡美, 小篠諒太, 嶋昇平, 檜山浩國

    半導体集積回路シンポジウム  2020.8 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:オンライン  

  • Design of a spectroscopic imaging ellipsometer International conference

    Lianhua Jin, Makoto Uehara, Takashi Iwao, Yuki Iizuka, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz

    Optics & Photonics International Congress 2020, Optical Technology and Measurement for Industrial Applications 2020 (OPTM2020)  2020.4  SPIE Technologies and Applications of Structured Light, 2020

     More details

    Event date: 2020.4

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Pasifico Yokohama, Japan  

  • Design of a spectroscopic imaging ellipsometer International conference

    Lianhua Jin, Makoto Uehara, Takashi Iwao, Yuki Iizuka, Eiichi Kondoh, Bernard Gelloz

    Optics & Photonics International Congress 2020, Optical Technology and Measurement for Industrial Applications 2020 (OPTM2020)  2020.4  SPIE Technologies and Applications of Structured Light, 2020

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Pasifico Yokohama, Japan  

  • エリプソメトリーを利用した薄膜上ナノ粒子検出

    近藤 英一,高橋 篤史,島田 航暉,鈴木 雄也,金 蓮花 濵田 聡美,小篠 涼太,嶋 昇平,檜山 浩國

    日本機械学会関東支部 第 26 期総会・講演会  2020.3 

     More details

    Event date: 2020.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:早稲田大学  

  • エリプソメトリーを利用した薄膜上ナノ粒子検出

    近藤 英一, 高橋 篤史, 島田 航暉, 鈴木 雄也, 金 蓮花, 濵田, 聡美, 小篠 涼太, 嶋 昇平, 檜山 浩國

    日本機械学会関東支部 第 26 期総会・講演会  2020.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:早稲田大学  

  • 1-ヘキセンを⽤いた⾼多孔率ポーラスシリコンの超臨界CO2流体中のヒドロシリル化

    田倉 直人,金 蓮花,近藤 英一,ジェローズ ベルナール

    第67回応用物理学会春季学術講演会  2020.3 

     More details

    Event date: 2020.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:上智大学 四ツ谷キャンパス  

  • 1-ヘキセンを⽤いた⾼多孔率ポーラスシリコンの超臨界CO2流体中のヒドロシリル化

    田倉 直人, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    第67回応用物理学会春季学術講演会  2020.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:上智大学 四ツ谷キャンパス  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCo表面その場分光エリプソメトリ測定

    竹内翔太,金 蓮花,近藤英一,濵田聡美,小篠諒太,嶋 昇平,檜山浩國

    表面技術協会第141回講演大会  2020.3 

     More details

    Event date: 2020.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:首都大学東京  

  • BTA-H₂O₂混合溶液中におけるCo表面その場分光エリプソメトリ測定

    竹内翔太, 金 蓮花, 近藤英一, 濵田聡美, 小篠諒太, 嶋 昇平, 檜山浩國

    表面技術協会第141回講演大会  2020.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:首都大学東京  

  • 超臨界CO2流体中の1-ヘキセンを用いたナノクリスタルシリコンのヒドロシリル化日.

    田倉 直人,金 蓮花,近藤 英一,ジェローズ ベルナール

    第四回フォトニクス研究会  2019.11 

     More details

    Event date: 2019.11

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:沖縄青年会館  

  • 超臨界CO2流体中の1-ヘキセンを用いたナノクリスタルシリコンのヒドロシリル化日.

    田倉 直人, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    第四回フォトニクス研究会  2019.11 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:沖縄青年会館  

  • 超臨界二酸化炭素流体中における薄膜堆積・表面反応プロセス ~半導体製造応用を視野に~ Invited

    近藤英一

    INCHEM2019  2019.11 

     More details

    Event date: 2019.11

    Language:Japanese   Presentation type:Symposium workshop panel(nominated)  

    Venue:東京ビックサイト  

  • 超臨界二酸化炭素流体中における薄膜堆積・表面反応プロセス ~半導体製造応用を視野に~ Invited

    近藤英一

    INCHEM2019  2019.11 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Symposium workshop panel(nominated)  

    Venue:東京ビックサイト  

  • Initial changes of Cu surfaces in H2O2-BTA aqueous solutions studied by using microfluidic reactor International conference

    Eiichi Kondoh, Mao Tōyama, Lianhua Jin, Satomi Hamada, Shohei Shima, Hirokuni Hiyama

    Advanced Metallzation Conference Asian Session  2019.10 

     More details

    Event date: 2019.10

    Language:English   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:The University of Tokyo  

  • Initial changes of Cu surfaces in H2O2-BTA aqueous solutions studied by using microfluidic reactor International conference

    Eiichi Kondoh, Mao Tōyama, Lianhua Jin, Satomi Hamada, Shohei Shima, Hirokuni Hiyama

    Advanced Metallzation Conference Asian Session  2019.10 

     More details

    Language:English   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:The University of Tokyo  

  • マイクロ流通セルを用いたBTA-H2O2混合溶液中におけるCu表面のその場分光エリプソメトリ解析

    近藤英一,遠山真央,濵田聡美,嶋 昇平,檜山浩國

    表面技術協会第140回講演大会  2019.9 

     More details

    Event date: 2019.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:福岡工業大学  

  • マイクロ流通セルを用いたBTA-H2O2混合溶液中におけるCu表面のその場分光エリプソメトリ解析

    近藤英一, 遠山真央, 濵田聡美, 嶋 昇平, 檜山浩國

    表面技術協会第140回講演大会  2019.9 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:福岡工業大学  

  • 超臨界流 CO2流体を用いた金属ドライエッチング

    近藤英一

    半導体集積回路シンポジウム  2019.8  電気化学会電子材料委員会

     More details

    Event date: 2019.8

    Language:Japanese   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:東京理科大学森戸記念館  

  • 超臨界流 CO2流体を用いた金属ドライエッチング

    近藤英一

    半導体集積回路シンポジウム  2019.8  電気化学会電子材料委員会

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Poster presentation  

    Venue:東京理科大学森戸記念館  

  • 超臨界流体半導体プロセス応用~薄膜形成・エッチングを中心として~ Invited

    近藤英一

    超臨界流体部会第18回サマースクール  2019.7 

     More details

    Event date: 2019.7

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:秋保リゾートホテルクレセント  

  • 超臨界流体半導体プロセス応用~薄膜形成・エッチングを中心として~ Invited

    近藤英一

    超臨界流体部会第18回サマースクール  2019.7 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:秋保リゾートホテルクレセント  

  • 超臨界流体半導体プロセス応用 Invited

    近藤英一

    NEDIA材料部品部会 第二十三回勉強会  2019.6  一般社団法人 日本電子デバイス産業協会

     More details

    Event date: 2019.6

    Language:Japanese   Presentation type:Public discourse, seminar, tutorial, course, lecture and others  

    Venue:御茶ノ水めっきセンタ  

  • 超臨界流体半導体プロセス応用 Invited

    近藤英一

    NEDIA材料部品部会 第二十三回勉強会  2019.6  一般社団法人 日本電子デバイス産業協会

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Public discourse, seminar, tutorial, course, lecture and others  

    Venue:御茶ノ水めっきセンタ  

  • Etching, photoetching of porous silicon in hydrofluoric acid studied by photoconduction and monochromatic light International conference

    Gelloz, H. Fuwa, E. Kondoh, and L. Jin

    3rd International Symposium on Anodizing Science and Technology (AST2019)  2019.6 

     More details

    Event date: 2019.6

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Awaji Yumebutai International Conference Center, Awaji Island, Hyogo, Japan, June 2-5, 2019  

  • Etching, photoetching of porous silicon in hydrofluoric acid studied by photoconduction and monochromatic light International conference

    Gelloz, H. Fuwa, E. Kondoh, L. Jin

    3rd International Symposium on Anodizing Science and Technology (AST2019)  2019.6 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Awaji Yumebutai International Conference Center, Awaji Island, Hyogo, Japan, June 2-5, 2019  

  • Oxygen-assisted etching/removal of Pt in supercritical CO2 solutions International conference

    Eiichi Kondoh

    Materials Research Society Spring Meetings  2019.4  Materials Research Society

     More details

    Event date: 2019.4

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Phoenix, AZ  

  • Oxygen-assisted etching/removal of Pt in supercritical CO2 solutions International conference

    Eiichi Kondoh

    Materials Research Society Spring Meetings  2019.4  Materials Research Society

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Phoenix, AZ  

  • 1-ヘキセン分子を用いたポーラスシリコンの圧力制御ヒドロシリル化と発光安定性

    入山 拓未,金 蓮花,近藤 英一,ジェローズ ベルナール

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019.3 

     More details

    Event date: 2019.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京工業大学 大岡山キャンパス  

  • 位相子回転型イメージングエリプソメータのデータ処理

    飯塚 祐基,金 蓮花,近藤 英一,ジェローズ ベルナール,上原 誠

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019.3 

     More details

    Event date: 2019.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京工業大学 大岡山キャンパス  

  • 位相子回転型イメージングエリプソメータのデータ処理

    飯塚 祐基, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール, 上原 誠

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京工業大学 大岡山キャンパス  

  • 1-ヘキセン分子を用いたポーラスシリコンの圧力制御ヒドロシリル化と発光安定性

    入山 拓未, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京工業大学 大岡山キャンパス  

  • イメージングエリプソメトリーによるポーラスシリコンの光学定数測定

    秋山 泰輝,飯塚 祐基,金 蓮花,近藤 英一,ジェローズ ベルナール

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019.3 

     More details

    Event date: 2019.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京工業大学 大岡山キャンパス  

  • イメージングエリプソメトリーによるポーラスシリコンの光学定数測定

    秋山 泰輝, 飯塚 祐基, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    第66回応用物理学会春季学術講演会  2019.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京工業大学 大岡山キャンパス  

  • イメージングエリプソメトリーによるナノ結晶シリコンの製作評価

    秋山 泰輝,飯塚 祐基,金 蓮花,近藤 英一,ジェローズ ベルナール

    第三回フォトニクス研究会  2018.12 

     More details

    Event date: 2018.12

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:沖縄科学技術大学院大学OIST シーサイドハウス  

  • イメージングエリプソメトリーによるナノ結晶シリコンの製作評価

    秋山 泰輝, 飯塚 祐基, 金 蓮花, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール

    第三回フォトニクス研究会  2018.12 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:沖縄科学技術大学院大学OIST シーサイドハウス  

  • Detection of sub-100 nm particles attached to Si wafers and SiO2/Si wafers by using spectroscopic ellipsometry International conference

    E. Kondoh, K. Suzuki, K. Shimada, L. Jin, S. Hamada, S. Shima, H. Hiyama

    Advanced Metallization Conference Asian Session  2018.10 

     More details

    Event date: 2018.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Beijing International Convention Center, Beijing, China  

  • Detection of sub-100 nm particles attached to Si wafers and SiO2/Si wafers by using spectroscopic ellipsometry International conference

    E. Kondoh, K. Suzuki, K. Shimada, L. Jin, S. Hamada, S. Shima, H. Hiyama

    Advanced Metallization Conference Asian Session  2018.10 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Beijing International Convention Center, Beijing, China  

  • Dimensional measurement of internal profile using the optical caliper International conference

    L. Jin, N. Miyatsu, E. Kondoh, B. Gelloz, N. Kanazawa, T. Yoshizawa

    SPIE Photonics Asia 2018  2018.10 

     More details

    Event date: 2018.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Beijing, China  

  • Photo-Assisted Etching of Porous Silicon Nanostructures in Hydrofluoric Acid using Monochromatic Ligh International conference

    B. Gelloz, H. Fuwa, E. Kondoh, L. Jin

    Americas International Meeting on Electrochemistry and Eolid state science (AiMES2018)  2018.10 

     More details

    Event date: 2018.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Cancun, Mexico  

  • Extraction of properties of individual component for the retarder – linear diattenuator – retarder system and its application International conference

    L. Jin, E. Kondoh, H. Kowa, B. Gelloz

    SPIE Photonics Asia 2018  2018.10 

     More details

    Event date: 2018.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Beijing, China  

  • Dimensional measurement of internal profile using the optical caliper International conference

    L. Jin, N. Miyatsu, E. Kondoh, B. Gelloz, N. Kanazawa, T. Yoshizawa

    SPIE Photonics Asia 2018  2018.10 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Beijing, China  

  • Photo-Assisted Etching of Porous Silicon Nanostructures in Hydrofluoric Acid using Monochromatic Ligh International conference

    B. Gelloz, H. Fuwa, E. Kondoh, L. Jin

    Americas International Meeting on Electrochemistry and Eolid state science (AiMES2018)  2018.10 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Cancun, Mexico  

  • Extraction of properties of individual component for the retarder – linear diattenuator – retarder system and its application International conference

    L. Jin, E. Kondoh, H. Kowa, B. Gelloz

    SPIE Photonics Asia 2018  2018.10 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Beijing, China  

  • マイクロ流通セルを用いたB TA-H2O2混合溶液中におけるCu表面のその場分光エリプソメトリ解析

    瀬川紘幹,近藤英一,濵田聡美,嶋 昇平,檜山浩國

    (一社)表面技術協会第138回講演大会  2018.9 

     More details

    Event date: 2018.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道工業大学  

  • マイクロ流通セルを用いたB TA-H2O2混合溶液中におけるCu表面のその場分光エリプソメトリ解析

    瀬川紘幹, 近藤英一, 濵田聡美, 嶋 昇平, 檜山浩國

    (一社)表面技術協会第138回講演大会  2018.9 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道工業大学  

  • Inkjet Particle-Spiking of Wafer Surfaces and Evaluation of Particle Density With Ellipsometry International conference

    E. Kondoh, K. Suzuki, L. Jin S. Hamada, S. Shima, H. Hiyama

    22nd International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization  2018.8 

     More details

    Event date: 2018.8

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Crowne Plaza Lake Placid, Lake Placid, NY, USA  

  • Inkjet Particle-Spiking of Wafer Surfaces and Evaluation of Particle Density With Ellipsometry International conference

    E. Kondoh, K. Suzuki, L. Jin, S. Hamada, S. Shima, H. Hiyama

    22nd International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization  2018.8 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Crowne Plaza Lake Placid, Lake Placid, NY, USA  

  • Nanostructure fabrication processes in supercritical fluids International conference

    Eiichi Kondoh

    THERMEC 2018  2018.7 

     More details

    Event date: 2018.7

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Paris, France  

  • Nanostructure fabrication processes in supercritical fluids International conference

    Eiichi Kondoh

    THERMEC 2018  2018.7 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Paris, France  

  • Nanogap/pore fill with wide bandgap material using supercritical fluids aiming at realizing p-Si based LEDs International conference

    Eiichi Kondoh, Yuichiro Yamamoto, Bernard Gelloz, Lianhua Jin

    The International Symposium on Inorganic and Environmental Materials 2018  2018.6 

     More details

    Event date: 2018.6

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Ghent University, Ghent, Belgium  

  • Nanogap/pore fill with wide bandgap material using supercritical fluids aiming at realizing p-Si based LEDs International conference

    Eiichi Kondoh, Yuichiro Yamamoto, Bernard Gelloz, Lianhua Jin

    The International Symposium on Inorganic and Environmental Materials 2018  2018.6 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Ghent University, Ghent, Belgium  

  • 光ノギスによる内径測定

    金 蓮花,宮津 暢人,近藤 英一,ジェローズ ベルナール,金澤 直文,吉澤 徹

    第61回光波センシング技術研究会  2018.6 

     More details

    Event date: 2018.6

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京理科大学 森戸記念館  

  • 光ノギスによる内径測定

    金 蓮花, 宮津 暢人, 近藤 英一, ジェローズ ベルナール, 金澤 直文, 吉澤 徹

    第61回光波センシング技術研究会  2018.6 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京理科大学 森戸記念館  

  • 位置情報パケット通信システムの伝搬域の調査~山地行動者の行動把握を目指して~

    近藤英一

    富士山測候所を活用する会第11回成果報告会  2018.3 

     More details

    Event date: 2018.3

    Language:Japanese   Presentation type:Poster presentation  

  • 位置情報パケット通信システムの伝搬域の調査~山地行動者の行動把握を目指して~

    近藤英一

    富士山測候所を活用する会第11回成果報告会  2018.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Poster presentation  

  • “PBSキューブにおける各層の性能評価

    金 蓮花,近藤 英一,高和 宏行,ジェローズ ベルナー

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018.3 

     More details

    Event date: 2018.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:早稲田大学西早稲田キャンパス  

  • “光伝導を利用したHF溶液中でのポーラスシリコンナノ構造のフォトエッチング観測

    ジェローズ ベルナール,不破 弘樹,近藤 英一,金 蓮花

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018.3 

     More details

    Event date: 2018.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:早稲田大学西早稲田キャンパス  

  • “PBSキューブにおける各層の性能評価

    金 蓮花, 近藤 英一, 高和 宏行, ジェローズ ベルナー

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:早稲田大学西早稲田キャンパス  

  • “光伝導を利用したHF溶液中でのポーラスシリコンナノ構造のフォトエッチング観測

    ジェローズ ベルナール, 不破 弘樹, 近藤 英一, 金 蓮花

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:早稲田大学西早稲田キャンパス  

  • 超臨界CO2流体中での薄膜堆積 Invited

    近藤英一

    電気化学会第85回大会 シンポジウムS19. 電子材料及びナノ機能素子技術  2018.3 

     More details

    Event date: 2018.3

    Language:Japanese   Presentation type:Symposium workshop panel(nominated)  

    Venue:東京理科大学葛飾キャンパス  

  • 超臨界CO2流体中での薄膜堆積 Invited

    近藤英一

    電気化学会第85回大会 シンポジウムS19. 電子材料及びナノ機能素子技術  2018.3 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Symposium workshop panel(nominated)  

    Venue:東京理科大学葛飾キャンパス  

  • 分光エリプソメトリー計測の勘所とin-situ計測応用

    近藤英一

    ORIST技術情報セミナー(和泉センター) 第 2 回分光エリプソメーター活用セミナー  2018.2  (地独)大阪産業技術研究所

     More details

    Event date: 2018.2

    Language:Japanese   Presentation type:Public discourse, seminar, tutorial, course, lecture and others  

    Venue:大阪産業技術研究所 森之宮センター  

  • 分光エリプソメトリー計測の勘所とin-situ計測応用

    近藤英一

    ORIST技術情報セミナー(和泉センター) 第 2 回分光エリプソメーター活用セミナー  2018.2  (地独)大阪産業技術研究所

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Public discourse, seminar, tutorial, course, lecture and others  

    Venue:大阪産業技術研究所 森之宮センター  

  • 分光エリプソメトリーによるsub 100-nm粒子の検出と粒子密度評価

    プレナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会(精密工学会)第163回研究会  2018.2 

     More details

    Event date: 2018.2

    Language:Japanese   Presentation type:Symposium workshop panel(nominated)  

  • 分光エリプソメトリーによるsub 100-nm粒子の検出と粒子密度評価

    プレナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会(精密工学会)第163回研究会  2018.2 

     More details

    Language:Japanese   Presentation type:Symposium workshop panel(nominated)  

  • Photo-Assisted Dissolution of Porous Silicon Nanostructures in HF Solutions Monitored by Photoconduction

    Bernard Gelloz, Hiroki Fuwa, Eiichi Kondoh, and Lianhua Jin

    2017.9 

     More details

    Event date: 2017.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Photo-Assisted Dissolution of Porous Silicon Nanostructures in HF Solutions Monitored by Photoconduction

    Bernard Gelloz, Hiroki Fuwa, Eiichi Kondoh, Lianhua Jin

    第78回応用物理学会秋季学術講演会  2017.9 

     More details

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:福岡国際会議場  

  • 各種金属酸化物のCu/ガラス界面密着層としての利用の試み

    林知里,渡邉満洋,近藤英一

    日本機械学会関東支部第23期総会・講演会  2017.3 

     More details

    Event date: 2017.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京理科大学 葛飾キャンパス  

  • エリプソメトリ法によるSi基板表面の微粒子検出

    鈴木雄也,近藤英一,濱田聡美,嶋昇平,檜山浩國

    日本機械学会関東支部第23期総会・講演会  2017.3 

     More details

    Event date: 2017.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京理科大学 葛飾キャンパス  

  • その場分光エリプソメトリ測定を用いたBTA-H2O2混合溶液中におけるCu表面の初期処理過程の解析

    瀬川紘幹,近藤英一,濱田聡美,嶋昇平,檜山浩國

    日本機械学会関東支部第23期総会・講演会  2017.3 

     More details

    Event date: 2017.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京理科大学 葛飾キャンパス  

  • 表面清浄度・クリーニング評価としてのエリプソメトリ

    第64回応用物理学会春季学術講演会  2017.3 

     More details

    Event date: 2017.3

    Language:Japanese   Presentation type:Symposium workshop panel(nominated)  

    Venue:パシフィコ横浜  

  • HexafluoroacetylacetoneによるPtエッチング

    近藤 英一,荻原 佑太

    第64回春季応用物理学会学術講演会  2017.3 

     More details

    Event date: 2017.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:パシフィコ横浜  

  • ラフな表面における散乱光の偏光特性の波長依存性

    金 蓮花,周 聡,近藤 英一

    第64回春季応用物理学会学術講演会  2017.3 

     More details

    Event date: 2017.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:パシフィコ横浜  

  • Application of supercritical CO2 to porogen removal and metal deposition in nanoscale/HAR features International conference

    International Workshop on Materials for Advanced Interconnects  2016.10 

     More details

    Event date: 2016.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • Fabrication of catalyst membrane for long-length nanocarbon growth—Atmospheric pressure CVD fill of Fe and FexOy to nano-through-holes of selfstanding anodic alumina International conference

    42nd International Conference on Micro and Nano Engineering  2016.9 

     More details

    Event date: 2016.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • エリプソメトリ測定によるSiウェハ表面の粒子検出評価

    第77回応用物理学会秋季学術講演会  2016.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2016.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:朱鷺メッセ  

  • 有機物共晶組織観察用教材の開発と学生実験での利用

    瀧澤 周平,近藤 英一

    第77回応用物理学会秋季学術講演会  2016.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2016.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:朱鷺メッセ  

  • 超臨界CO2流体を用いた低誘電率薄膜のテンプレート除去

    瀬川 紘幹,近藤 英一,渡邉 満洋,Mikhail R. Baklanov,Liping Zhang

    第77回応用物理学会秋季学術講演会  2016.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2016.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:朱鷺メッセ  

  • Optical Absorption of Porous Silicon during Dissolution in HF Investigated by Photoconduction

    2016.9 

     More details

    Event date: 2016.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • ナノカーボン成長過程における埋め込み型Fe触媒の材料的安定性

    近藤英一,為國成昭,渡邉満洋,大久保総一郎,中山 明

    表面技術協会第134 回講演大会  2016.9  表面技術協会

     More details

    Event date: 2016.9

    Language:Japanese   Presentation type:Other  

    Venue:東北大学川内キャンパス  

  • In-situ Ellipsometry of Cu Surfaces Immersed in BTA-H2O2 Solutions International conference

    Clarkson University 20th International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization  2016.8 

     More details

    Event date: 2016.8

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • 埋め込み型触媒上の ナノカーボン初期成長過程の観察 Invited

    爲國 成昭,鈴木和弥,渡邉満洋,近藤英一,大久保総一郎,日方威,中山明

    cat-CVD研究会第13回研究会  2016.7  cat-CVD研究会

     More details

    Event date: 2016.7

    Language:Japanese   Presentation type:Symposium workshop panel(nominated)  

    Venue:北見工業大学  

  • 日本機械学会関東支部第22期総会講演会

    川上達也,近藤英一, 渡邉満洋, 濱田聡美, 嶋昇平, 檜山浩國

    日本機械学会関東支部第22期総会講演会  2016.3  日本機械学会関東支部

     More details

    Event date: 2016.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京工業大学(目黒区)  

  • エリプソメトリ測定によるウェハー表面の粒子検出

    鈴木雄也,小田切隼人, 渡邉満洋,近藤英一, 濱田聡美, 嶋昇平, 檜山浩國

    日本機械学会関東支部第22期総会講演会  2016.3  日本機械学会関東支部

     More details

    Event date: 2016.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京工業大学(目黒区)  

  • BTA-H2O2溶液におけるCu表面のその場エリプソメトリ

    川上達也,近藤英一, 渡邉満洋, 濵田聡美, 嶋昇平, 檜山浩國

    応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第187回研究集会  2016.1  応物シリコンテクノロジー分科会

     More details

    Event date: 2016.1

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:東京大学  

  • アミドネート1価Cu錯体を用いた超臨界流体中Cu堆積

    Md Rasadujjaman, 渡邉満洋,須藤弘, 町田英明, 近藤英一

    応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第187回研究集会  2016.1  応物シリコンテクノロジー分科会

     More details

    Event date: 2016.1

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京大学  

  • Ellipsometric measurement of particle-spiked wafer surfaces

    2015 International Conference on Planarization/CMP Technology (2015ICPT)  2015.10 

     More details

    Event date: 2015.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Supercritical CO2 etching of metal thin films for magnetoresistive memory processing

    41stInternational Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2015)  2015.9 

     More details

    Event date: 2015.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • In-situ ellipsometry of Cu surfaces immersed in BTA-H2O2 solutions

    Advanced Metallization Conference 2015: 25th Asian Session (ADMETAPlus2015)  2015.9 

     More details

    Event date: 2015.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Versatility of ZnO as a room-temperature adhesion promoter for Cu/glass stacks

    Advanced Metallization Conference 2015: 25th Asian Session (ADMETAPlus2015)  2015.9 

     More details

    Event date: 2015.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Copper Thin Film Growth using Cu(I) Amidinate Precursor in Supercritical Carbon Dioxide: Deposition Kinetics and Narrow-Gap-Filling

    Advanced Metallization Conference 2015: 25th Asian Session (ADMETAPlus2015)  2015.9 

     More details

    Event date: 2015.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 高密着性Cu/ガラス構造の常温形成

    渡邉満洋,近藤英一

    2015年度第2回TSV応用研究会  2015.9  電気学会電子情報システム部門

     More details

    Event date: 2015.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:主婦プラザ(東京)  

  • セル中の試料の複屈折特性のその場計測方法

    金 蓮花,小林 大地,高和 宏行,近藤 英一

    第76回応用物理学会秋季学術講演会  2015.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2015.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:名古屋国際会議場  

  • 埋め込み型触媒上のナノカーボン初期成長過程の観察

    爲國成昭, 鈴木和弥, 渡邉満洋,近藤英一, 大久保総一郎, 日方威, 中山明

    表面技術協会第130回講演大会  2015.9  (一社)表面技術協会

     More details

    Event date: 2015.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:信州大学  

  • 高密着性Cu/ガラス構造の常温形成

    渡邉満洋,近藤英一

    2015マイクロエレクトロニクスショー アカデミックプラザ  2015.6  電気化学会電解科学技術委員会

     More details

    Event date: 2015.6

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:東京ビッグサイト  

  • Thermal etching of metal thin films using supercritical fluid

    Plasma Etch and Strip in Microtechnology 2015 (PESM2015)  2015.4 

     More details

    Event date: 2015.4

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Low Temperature Interdiffusion of Cu/Ni in Supercritical Fluid Carbon Dioxide Using a New Cu(I) Amidinate Precursor

    2015 Materials Research Society (MRS) Spring Meeting & Exhibit  2015.4 

     More details

    Event date: 2015.4

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 粘菌のネットワーク解探索機能の配線・流路構造への利用の提案

    山口博樹, 渡邉満洋, 近藤英一

    日本機械学会関東支部第21期総会講演会  2015.3  日本機械学会関東支部

     More details

    Event date: 2015.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:横浜国立大学  

  • 超臨界流体を用いたZnO薄膜の堆積とそれを用いたCu/ガラス構造の高密着化

    渡邉満洋, 爲國成昭, 近藤英一

    日本機械学会関東支部第21期総会講演会  2015.3  日本機械学会関東支部

     More details

    Event date: 2015.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:横浜国立大学  

  • ウェハーレベル超臨界流体堆積装置の開発

    栗田修平, 近藤英一, 植野隆大, 竹内裕人, 渡邉満洋, 山本敏, 末益龍夫

    化学工学会第80年会  2015.3  化学工学会

     More details

    Event date: 2015.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:芝浦工業大学  

  • 準ニュートン法を用いたエリプソメトリー計測の窓補正

    金 蓮花,春日 翔貴,近藤 英一

    第62回応用物理学会春季学術講演会  2015.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2015.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道大学  

  • 粘菌を利用した金属微粒子配列

    山口博樹, 望月裕文, 渡邉満洋, 近藤英一

    第62回応用物理学会春季学術講演会  2015.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2015.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東海大学  

  • 超臨界CO2流体中における金属薄膜のエッチング

    中村良輝, 渡邉満洋, 近藤英一, ミハイルバクラノフ

    第62回応用物理学会春季学術講演会  2015.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2015.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東海大学  

  • 高密着性Cu/ガラス構造におけるZnO堆積手法の影響

    渡邉満洋, 小池光海, 近藤英一

    表面技術協会第131回講演大会  2015.3  表面技術協会

     More details

    Event date: 2015.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:関東学院大学  

  • 超臨界CO2流体中におけるCu薄膜の凝集ならびに拡散挙動

    中村良輝, 渡邉満洋, 近藤英一

    応用物理学会SC東海地区学術講演会2014  2014.11  応用物理学会東海支部

     More details

    Event date: 2014.11

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:名古屋大学  

  • Novel supercritical CO2 reactor for wafer-scale deposition], Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014

    Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014)  2014.10 

     More details

    Event date: 2014.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Selective Cu fill into nanopores using supercritical carbon dioxide

    Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014)  2014.10 

     More details

    Event date: 2014.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Preparation of a novel catalyst structure for continuous growth of nanocarbon fibers

    Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014)  2014.10 

     More details

    Event date: 2014.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Agglomeration and diffusion in Cu thin films under supercritical CO2 annealing

    Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014)  2014.10 

     More details

    Event date: 2014.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Low Temperature Interdiffusion of Cu/Ni in Supercritical Fluid Carbon Dioxide using a New Cu(I) Amidinate Precursor

    Advanced Metallization Conference 2014: 24th Asian Session (ADMETAPlus2014)  2014.10 

     More details

    Event date: 2014.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Slime mold as a smart interconnect

    40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014)  2014.9 

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Reliable glass metallization for 3D MEMS with using supercritical fluids

    40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014)  2014.9 

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を用いたZnO薄膜堆積とそのCu密着層としての利用

    爲國成昭, 渡邉満洋, 近藤英一

    表面技術協会第130回講演大会  2014.9  表面技術協会

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:京都大学  

  • Preparation of membrane-embedded nanocatalysts for fabricating long carbon nanotubes], 40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014)

    40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014)  2014.9 

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Low temperature interdiffusion of Cu/Ni thin film in supercritical carbon dioxide

    40th International Conference on Micro and Nano Engineering (MNE2014)  2014.9 

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 基板面間差圧を利用した貫通電極めっき用装置

    植野隆大, 渡邉満洋, 近藤英一

    表面技術協会第130回講演大会  2014.9  表面技術協会

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:京都大学  

  • エリプソメトリーにおける観測窓補正の一般化

    金蓮花,春日翔貴,近藤英一

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道大学  

  • 基板表裏面間差圧を用いたウェハレベル超臨界Cu均一成膜

    渡邉満洋,植野隆大,近藤英一,山本敏,末益龍夫

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道大学  

  • Supercritical Fluid Chemical Deposition of Cu in Ru-lined Deep Nanotrenches using a New Cu(I) Amidinate Precursor

    Md Rasadujjaman,Mitsuhiro Watanabe,Hiroshi Sudo,Hideaki Machida,Eiichi Kondoh

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道大学  

  • 学大将を育てる「ティーチサイエンス」キャリアハウス教育

    岡部奈央, 武田明子, 内山和治, 渡邉満洋, 有元圭介, 佐藤哲也, 渡辺勝儀, 張本鉄雄, 近藤英一, 田中功, 中川清和

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道大学  

  • リフレッシュ理科教室の教材「息で動かすスーハーエンジン」

    岡田遼,近藤英一

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道大学  

  • 「ティーチサイエンス」:放射線とは何か?

    矢﨑智昌,佐藤哲也,近藤英一,田中功,張本鉄雄

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道大学  

  • High-precision curving process of Si wafer for X-ray MEMS mirror used in space application

    Rasadujjaman Md,倉島優一,前田敦彦,廣島洋,高木秀樹,近藤英一,江副祐一郎

    第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道大学  

  • 新規1価Cu原料を用いたRuライナートレンチへのCu埋め込み

    Md Rasadujjaman,渡邉満洋,近藤英一,須藤弘,町田英明

    平成26年電気学会電子・情報・システム部門大会  2014.9  電気学会電子情報システム部門

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:島根大学  

  • 新しい金属薄膜・ガラス常温接合

    渡邉満洋,近藤英一

    平成26年電気学会電子・情報・システム部門大会  2014.9  電気学会電子情報システム部門

     More details

    Event date: 2014.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:島根大学  

  • Deposition of Cu in Ru Lined Deep Nanotrenches Using a New Cu(I) Amindinate Precursor from Supercritical Fluids

    Clarkson University 19th International Symposium on Chemical Mechanical Planarization  2014.8 

     More details

    Event date: 2014.8

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 新規低温分解1価Cu原料を用いた超臨界流体中Cu堆積

    Md Rasadujjaman,渡邉満洋,須藤弘,町田英明,近藤英一

    電気化学会電解科学技術委員会第24回電極材料研究会  2014.7  電気化学会電解科学技術委員会

     More details

    Event date: 2014.7

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:山梨大学  

  • 超臨界CO2流体中におけるCu薄膜の凝集ならびに拡散挙動

    渡邉満洋, 中村良輝, 近藤英一

    2014.3 

     More details

    Event date: 2014.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Cu埋め込みされたマイクロポーラスシリコンの電気特性

    大矢敏史,近藤英一,ジェローズ ベルナール,金蓮花

    2014.3 

     More details

    Event date: 2014.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • ラフな鉄表面による散乱光の偏光特性および光学モデリング

    山口晃司,近藤英一,ジェローズ ベルナール,金蓮花

    2014.3 

     More details

    Event date: 2014.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • その場エリプソ計測における観測窓の影響の補正

    金蓮花,近藤英一

    2014.3 

     More details

    Event date: 2014.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 長尺カーボンナノチューブ作製用ナノ触媒金属埋め込み法の検討

    長田和真, 渡邉満洋, 近藤英一, 大久保総一郎, 日方威, 中山明

    2014.3 

     More details

    Event date: 2014.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Znドープと貴金属触媒効果による拡散加速を利用したCu/ガラス界面の常温接合

    寺岡暁, 渡邉満洋, 近藤英一

    2014.3 

     More details

    Event date: 2014.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Deposition of Cu in Ru-lined Deep Nanotrenches using a New Cu(I) Amidinate Precursor

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, Hiroshi Sudo, Hideaki Machida, and Eiichi Kondoh

    2014.3 

     More details

    Event date: 2014.3

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Interfacial reaction in Cu/noble metal/Zn-doped glass stacks

    Mitsuhiro Watanabe, Akira Teraoka, and Eiichi Kondoh

    2014.3 

     More details

    Event date: 2014.3

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Cu coating inside ultra high-aspect-ratio (>130) and bended through-hole using supercritical CO2 fluid

    Mitsuhiro Watanabe, Yuto Takeuchi, Takahiro Ueno, Masahiro Matsubara, Eiichi Kondoh, Satoshi Yamamoto, Naohiro Kikukawa, and Tatsuo Suemasu

    2013.10 

     More details

    Event date: 2013.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Deposition of Cu-Ni Alloy Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solutions

    Md Rasadujjaman, Mitsuhiro Watanabe, and Eiichi Kondoh

    2013.10 

     More details

    Event date: 2013.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Room-temperature intermixing at Cu/SiO2 interface in reliable metallization by adopting SiO2 surface dope and noble metal catalyzation

    Mitsuhiro Watanabe, Akira Teraoka, and Eiichi Kondoh

    2013.10 

     More details

    Event date: 2013.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Nonohole Coat/fill with Pt via Chemical Deposition in Supercritical Fluids

    Toshiaki Goto and Eiichi Kondoh

    2013.10 

     More details

    Event date: 2013.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Cu/ZnO/ガラス構造の高密着化におけるZnO/ガラス界面の影響

    渡邉満洋, 寺岡暁, 近藤英一

    2013.9 

     More details

    Event date: 2013.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を利用した3次元高アスペクト貫通孔内への均一Cu被覆

    植野隆大, 竹内裕人, 松原正弘, 渡邉満洋, 近藤英一, 山本敏, 末益龍夫

    2013.9 

     More details

    Event date: 2013.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • In‐situ observation of Pt deposition process by using spectroscopic ellipsometry

    Toshiaki Goto and Eiichi Kondoh

    2013.9 

     More details

    Event date: 2013.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Photo-assisted metal fill to nanopores using a supercritical fluid along with in-situ spectroscopic ellipsometric observation]

    Eiichi Kondoh, Yukihiro Tamegai, Mitsuhiro Watanabe, and Lianhua Jin

    2013.9 

     More details

    Event date: 2013.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 生体を利用した高バンド幅立体金属配線構造,電気学会電子・情報・システム部門大会(C部門)

    近藤英一

    2013.9 

     More details

    Event date: 2013.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • In‐situ observation of Pt deposition process by using spectroscopic ellipsometry

    Toshiaki Goto and Eiichi Kondoh

    2013.9 

     More details

    Event date: 2013.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 分光エリプソメトリを利用したPt堆積のその場測定

    後藤利章, 渡邉満洋, 近藤英一

    2013.7 

     More details

    Event date: 2013.7

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界CO2流体を利用した白金合金ナノ粒子担持

    渡邉満洋, 近藤英一

    2013.7 

     More details

    Event date: 2013.7

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Scattering light pattern of rough surface

    K. Yamaguchi,A. Muhammad,B. Gelloz,E. Kondoh, and L. Jin

    2013.5 

     More details

    Event date: 2013.5

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Adhesion strength and microstructure of Cu/Ni/OsOx/glass structure for highly reliable Cu interconnection

    Mitsuhiro Watanabe and Eiichi Kondoh

    2013 Materials Research Society (MRS) Spring Meeting & Exhibit  2013.4  応用物理学会

     More details

    Event date: 2013.4

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体中Cu薄膜堆積のその場分光エリプソメトリ解析(第3報)

    近藤英一,五味瞭汰,田部井幸寛,渡邉満洋,金蓮花

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:神奈川工科大学  

  • 生体のネットワーク解探索機能を活用した配線構造の提案と生体メタライズ

    近藤英一,渡邉満洋,望月裕文,後藤利章

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:神奈川工科大学  

  • 超臨界流体を用いたメソポーラスシリコンへのCu 埋め込み

    金蓮花,大矢敏史,近藤英一,Bernard Gelloz

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:神奈川工科大学  

  • LiNbO3電気光学結晶を用いたその場イメージングエリプソメーターの開発

    若子裕亮,滝沢國治,近藤英一,金蓮花

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:神奈川工科大学  

  • ラフな面におけるIn-plane散乱光パターン

    山口晃司,アティラ ムハマド,近藤英一,金蓮花

    第60回応用物理学会春季学術講演会  2013.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:神奈川工科大学  

  • 超臨界CO2 を利用したナノ微細構造体へのNi の埋め込み

    長田和真,渡邉満洋,近藤英一

    第127回講演大会  2013.3  表面技術協会

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:日本工業大学  

  • ナノ級厚金属酸化物層を用いたCu/ガラス構造の密着性改善

    渡邉満洋,寺岡 暁,近藤英一

    第127回講演大会  2013.3  表面技術協会

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:日本工業大学  

  • 超臨界CO2中における弾性表面波共振子の共振特性

    垣尾 省司 ・ 林 克洋 ・ 近藤 英一

    第78年会  2013.3  化学工学会

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:大阪大学豊中キャンパス  

  • ZnOを密着層として用いたガラス/Cu構造の密着性とナノ組

    渡邉 満洋,寺岡 暁,鍋谷 暢一,近藤英一

    第19期総会講演会  2013.3  日本機械学会 関東支部

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:首都大学東京 南大沢キャンパス  

  • Can bio veins be used as interconnects?

    Eiichi Kondoh, Hirofumi Mochizuki, and Mitsuhiro Watanabe

    2013.3  Universiteit Ghent and IMEC

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Kotholike Universiteit Leuven  

  • Adhesion improvement for MEMS-use Cu/glass metallization by inserting nano-precision metallic oxide layers

    M. Watanabe and E. Kondoh

    2013.3  Universiteit Ghent and IMEC

     More details

    Event date: 2013.3

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Kotholike Universiteit Leuven  

  • 超臨界流体を利用した金属薄膜堆積技術

    近藤英一

    将来めっき技術検討部会第十回例会「あたらしいめっき関連技術」  2012.11  表面技術協会

     More details

    Event date: 2012.11

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:回路会館  

  • ZnO Adhesion Layer for Nanoprecision Electroless-Cu/glass Metallization

    A. Teraoka, M. Watanabe, Y. Nabetani, and E. Kondoh

    Advanced Metallization Conference 2012: 22nd Asian Session  2012.10  JSAP

     More details

    Event date: 2012.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:The University of Tokyo  

  • Multilayer Absorption Kinetics in Nickel Thin Film Deposition from Supercritical CO2.

    Kazuma Osada, Mitsuhiro Watanabe, Eiichi Kondoh

    10th International Conference on Supercritical Fluids  2012.5 

     More details

    Event date: 2012.5

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Hyatt Regency San Francisco  

  • In-situ Spectroscopic Ellipsometry of Cu Deposition Process from Supercritical Fluids - Evidence for a Surface Condensation Layer Formation.

    Eiichi Kondoh, Takuya Sasaki, Yukihiro Tamegai, Mitsuhiro Watanabe, Lianhua Jin

    10th International Conference on Supercritical Fluids  2012.5 

     More details

    Event date: 2012.5

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Hyatt Regency San Francisco  

  • Preparation of Carbon Supported Platinum Alloy Nanoparticles using Supercritical Carbon Dioxide.

    Mitsuhiro Watanabe, Tatsunori Akimoto, Eiichi Kondoh

    10th International Conference on Supercritical Fluids  2012.5 

     More details

    Event date: 2012.5

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Hyatt Regency San Francisco  

  • Extraction of Trans Fatty Acid Free Rice Bran Oil Using Supercritical Carbon Dioxide

    Masahiro Matsubara, Yasuhisa Nakato, Eiichi Kondoh

    103rd AOCS Annual Meeting & Expo.  2012.5  American Oil Chemists' Society

     More details

    Event date: 2012.5

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Long Beach Convention Center, Long Beach CA  

  • 超臨界二酸化炭素を用いた金属超微粒子/多孔質カーボン複合体の作製

    渡邉 満洋, 秋本 竜昇, 近藤 英一

    日本金属学会  2012.3 

     More details

    Event date: 2012.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:横浜国立大学  

  • デュアル電気光学結晶を用いた高速複屈折計測システムの開発及び応用

    齋藤 壮,ヌルディン ムハマド,高和宏行,手島昂太朗,梅田倫弘,滝沢國治,近藤英

    第59回応用物理学関係連合講演会  2012.3 

     More details

    Event date: 2012.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:早稲田大学  

  • 超臨界流体中Cu薄膜堆積のその場分光エリプソメトリ解析(第2報)

    佐々木 拓哉, 田部井 幸寛, 植野 隆大, 渡邉 満洋, 金 蓮花, 近藤 英一

    第59回応用物理学関係連合講演会  2012.3 

     More details

    Event date: 2012.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:早稲田大学  

  • 超臨界CO2を用いた多孔質カーボン表面へのPt-Ru超微粒子担持

    渡邉 満洋, 秋本 竜昇, 近藤 英一

    化学工学会第77年会  2012.3 

     More details

    Event date: 2012.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:工学院大学  

  • 超臨界流体中Cu堆積過程のその場分光エリプソメトリ

    佐々木 拓哉, 田部井 幸寛, 植野 隆大, 渡邉 満洋, 金 蓮花, 近藤 英一

    化学工学会第77年会  2012.3 

     More details

    Event date: 2012.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:工学院大学  

  • 光変調技術の偏光計測への応用

    金 蓮花,齋藤 壮,八木 亮磨,山口 晃司,若子 裕亮,近藤 英一

    精密工学会  2012.3 

     More details

    Event date: 2012.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:首都大学  

  • 超臨界CO2 を用いて堆積したNi 薄膜の成膜特性

    長田和真,渡邉満洋,近藤英一

    表面技術協会  2012.3 

     More details

    Event date: 2012.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京都市大学  

  • 超臨界CO2を利用した三次元屈曲貫通孔への均一Cu堆積

    渡邉満洋,竹内裕人,近藤英一

    日本機械学会関東支部第18期講演会  2012.3 

     More details

    Event date: 2012.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:日本大学生産工学部  

  • 超臨界流体を用いた高アスペクト・屈曲貫通孔内のCu ライニング

    近藤英一,渡邉満洋,竹内裕人,松原正弘

    第48 回X 線材料強度に関する討論会  2011.12 

     More details

    Event date: 2011.12

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:島津製作所  

  • Resonance properties of surface acoustic wave resonators in supercritical CO2

    K. Hayashi, S. Kakio, and E. Kondoh

    Symposium Ulstrasonic Electronics  2011.11 

     More details

    Event date: 2011.11

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:京都大学  

  • 超臨界CO2中における弾性表面波共振子の共振特性

    林 克洋,垣尾省司,近藤英一

    電子情報通信学会超音波研究会  2011.10 

     More details

    Event date: 2011.10

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:山梨大学  

  • Resonance properties of surface acoustic wave resonator in supercritical CO2

    S. Kakio, K. Hayashi, and E. Kondoh

    IEEE Internatilal Ultrasonic Symposium  2011.10 

     More details

    Event date: 2011.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:USA, Orlando  

  • EXTRACTION OF RICE BRAN OIL WITH SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE.

    Matsubara M., Kondoh E., and Nakato Y

    The 13th European Meeting on Supercritical Fluids  2011.10 

     More details

    Event date: 2011.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:the World Forum Convention Center in The Hague  

  • Conformal Copper Coating of True 3D Through-holes Using Supercritical Carbon Dioxide

    M. Watanabe, Y. Takeuchi, T. Ueno, M. Matsubara, E. Kondoh, S. Yamamoto, N

    Advanced Metallizaion Conference USA  2011.10 

     More details

    Event date: 2011.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Hyatt Regency Mission Bay, USA San Diego  

  • 超臨界CO2を利用して作製したNi/ガラス構造体の密着性と界面組織

    渡邉満洋,青山 央,近藤英一

    表面技術協会第124回講演大会  2011.9 

     More details

    Event date: 2011.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:名古屋大学  

  • 3次元集積回路電極用Siマイクロ孔内側壁に超臨界流体を利用してCuを堆積した 際の被覆特性

    松原正弘,近藤英一

    表面技術協会第124回講演大会  2011.9 

     More details

    Event date: 2011.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:名古屋大学  

  • 超臨界CO2を用いた多孔質カーボン上への金属微粒子担持における表面処理の影響

    秋本 竜昇, 近藤 英一, 渡邉 満洋

    化学工学会第43回秋季大会  2011.9 

     More details

    Event date: 2011.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:名古屋工業大学  

  • In-situ Spectroscopic Ellipsometry of Cu Deposition Process from Supercritical Fluids -An Evidence for an Abnormal Surface Layer Formation-

    T. Sasaki, Y. Tamegai, M. Watanabe, L. Jin, and E. Kondoh

    Advanced Metallizaion Conference Asian Session  2011.9 

     More details

    Event date: 2011.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京大学  

  • Conformal Copper Coating of True 3D Through-holes Using Supercritical Carbon Dioxide

    M. Watanabe, Y. Takeuchi, T. Ueno, M. Matsubara, E. Kondoh, S. Yamamoto, N

    Advanced Metallizaion Conference Asian Session  2011.9 

     More details

    Event date: 2011.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京大学  

  • 超臨界CO2を用いた高アスペクトマイクロ孔への均一Cu被覆

    竹内裕人,松原正弘,渡邉満洋,近藤英一

    第72回 応用物理学会学術講演会  2011.9 

     More details

    Event date: 2011.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:山形大学  

  • Sciences in micro- and nanoelectronics processes using an environmentally-friendly medium . supercritical CO2 fluid and its application

    E. Kondoh

    NATO Advanced Research Workshop  2011.6 

     More details

    Event date: 2011.6

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Jurmala Spa, Riga, Latvia  

  • 新規成膜手法によるSiNx膜の低温プロセス化

    武山真弓,藤政毅,佐藤 勝,町田英明,近藤英一,野矢 厚

    2011年春季第58回応用物理学関係連合講演会  2011.3  社団法人 応用物理学会

     More details

    Event date: 2011.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:神奈川工科大学  

  • 超臨界CO2法によるTrue3次元貫通配線孔内への均一Cu被覆

    竹内裕人,近藤英一,松原正弘,山本敏,,末益龍夫

    2011年春季第58回応用物理学関係連合講演会  2011.3  社団法人 応用物理学会

     More details

    Event date: 2011.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:神奈川工科大学  

  • 超臨界CO2を用いた多孔性カーボン上への金属微粒子担持

    秋本竜昇,近藤英一

    化学工学会第76年会  2011.3  社団法人 化学工学会

     More details

    Event date: 2011.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京農工大学  

  • In-situ Spectroscopic Ellipsometry in Supercritical CO2 Solutions and Its Application to Low-k Thin Film Characterization

    E. Kondoh, Y. Tamegai K. Kotaka and L. Jin

    Advanced Metallization Conference 20th Asian Session 2010  2010.10  ADMETA Committee

     More details

    Event date: 2010.10

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Takeda Building, The Univ. of Tokyo, Tokyo  

  • 超臨界CO2流体内の多孔質低誘電率薄膜の構造変化のその場分光エリプソメトリによる観測

    田部井幸寛,小高和也,金蓮花,近藤英一

    2010年秋季 第71回応用物理学会学術講演会  2010.9  社団法人 応用物理学会

     More details

    Event date: 2010.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:長崎大学  

  • 高アスペクトシリコンゴムのメタライズを利用したバイオピンセットの作製

    竹内裕人,青山央,松原正弘,増井裕久,山田善博,近藤英一

    化学工学会 第42回秋季大会  2010.9  社団法人 化学工学会

     More details

    Event date: 2010.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:同志社大学  

  • 超臨界流体中その場分光エリプソメトリの開発と薄膜膨潤測定への応用

    田部井幸寛 ,小高和也,近藤英一

    化学工学会 第42回秋季大会  2010.9  社団法人 化学工学会

     More details

    Event date: 2010.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:同志社大学  

  • Science in Porosity Engineering of Low-k Dielectrics Using Supercritical Carbon Dioxide-Pore Characterization and Pore Cleaning

    E. Kondoh

    15th International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization  2010.8 

     More details

    Event date: 2010.8

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Lake Placid ,NY  

  • 超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス ~ 細孔の評価と洗浄 ~

    近藤英一

    電子情報通信学会技術研究報告  2010.7 

     More details

    Event date: 2010.7

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:道の駅しゃり  

  • Mechanisms of Chemical Deposition from Supercritical Fluids for Advanvced Microelectronics Appilicitions

    E.Kondoh, K.Tamai, N. Fukasawa, K. Kotaka, M. Matsubara

    ICMPSN 2010 International Conference on Modern Problems in the Physics of Surface and Nanostructures  2010.6 

     More details

    Event date: 2010.6

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Yanoslavl State University,Yaroslavl,Russia  

  • 超臨界流体中堆積法を用いたナノ構造の作製プロセス

    近藤英一

    サテライトプログラム 第7回ナノクリスタルセラミックス研究会  2010.3  日本セラミックス協会

     More details

    Event date: 2010.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:東京農工大学  

  • フロー式堆積装置を用いたCu薄膜の堆積特性-流量依存性

    竹内裕人,志村勇紀,深澤直樹,玉井架,松原正弘,近藤英一

    化学工学会第75年会  2010.3  社団法人 化学工学会

     More details

    Event date: 2010.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:鹿児島大学  

  • その場分光エリプソメトリにおける高圧容器用光学窓の偏光補正と吸着解析への適用

    小高和也,田部井幸寛,金蓮花,近藤英一

    2010年春季第57回応用物理学関係連合講演会  2010.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2010.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東海大学 湘南キャンパス  

  • 高アスペクトシリコンゴムの超臨界メタライズを利用したバイオピンセットの作製

    竹内裕人,松原正弘,増井裕久,山田善博,近藤英一

    第123回講演大会  2010.3  社団法人 表面技術協会

     More details

    Event date: 2010.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:関東学院大学  

  • 超臨界流体を用いた高アスペクトガラスマイクロ孔内Cu被覆

    松原正弘,竹内裕人,近藤英一

    第121回講演大会  2010.3  (社)表面技術協会

     More details

    Event date: 2010.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:成蹊大学  

  • 超臨界CO2を用いたCu薄膜の大面積堆積へのアプローチ

    深澤直樹,松原正弘,近藤英一

    日本機械学会第16期総会講演会  2010.3  日本機械学会 関東支部

     More details

    Event date: 2010.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:明治大学  

  • Evalaution of the connectivity of micropores(<2 nm)and supermicropores(<0.5 mn)in low-k thin films using supercritical fluids

    E.Kondoh

    MAM2010  2010.3  IMEC

     More details

    Event date: 2010.3

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Lamot Mechelen, Belgium  

  • Science in porosity engineering of low-k dielectrics using supercritical carbon dioxide?pore haracterization and pore cleaning

    Eiichi Kondoh

    SEMICON Korea 2010  2010.2  SEMI

     More details

    Event date: 2010.2

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:COEX Korea  

  • Initial Cu growth in Cu-seeded and Ru-lined narrow trenches for supercriticalfluid Cu chemical deposition

    Eiichi Kondoh,Masahiro Matsubara,Kakeru Tamai

    Advanced Metallization Conference 19th Asian Session 2009  2009.10  ADMETA Committee

     More details

    Event date: 2009.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo, Tokyo  

  • Deposition kinetics of Cu thin films in supercritical carbon dioxide from a Cu(Ⅱ)beta-diketonate complex

    Eiichi Kondoh,Yuto Takeuchi,Masahiro Matsubara

    Supergreen 2009  2009.10 

     More details

    Event date: 2009.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Sakura Hall,Tohoku University  

  • Formation of periodically arrayed Si nano-hole filled with Cu using supercritical CO2

    T.Kakeru,M.Matsubara,C.Lee,M.Matsumura,E.Kondoh

    35th International Conference  2009.9  MNE2009

     More details

    Event date: 2009.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:ICC Ghent, Belgium  

  • Siマイクロ孔内に超臨界流体を利用してCuを堆積した際の被覆特性の検討

    松原正弘,近藤 英一

    化学工学会 第41回秋季大会  2009.9  社団法人 化学工学会

     More details

    Event date: 2009.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:広島大学  

  • 超臨界流体中Cu堆積法におけるCuシード付トレンチ内への初期堆積特性

    近藤英一,玉井架,松原正弘

    2009年秋季 第70回応用物理学会学術講演会  2009.9  社団法人 応用物理学会

     More details

    Event date: 2009.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:富山大学  

  • 超臨界流体中堆積法を用いたナノ構造の作製プロセス

    サテライトプログラム 第7回ナノクリスタルセラミックス研究会  2009.3  日本セラミックス協会

     More details

    Event date: 2009.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:東京農工大学  

  • 超臨界流体中有機金属還元法による金属薄膜堆積

    近藤英一

    第119回講演大会  2009.3  社団法人 表面技術協会

     More details

    Event date: 2009.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:山梨大学   

  • 超臨界流体中エリプソメトリーを用いた多孔質膜細孔度評価の検討

    小高和也, 有賀庄作,近藤英一

    2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会  2009.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2009.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:筑波大学  

  • 超臨界流体を利用した超ミクロ細孔の連結度評価

    近藤英一,有賀庄作,伊藤文則,林喜弘

    化学工学会第74年会  2009.3  社団法人 化学工学会

     More details

    Event date: 2009.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:横浜国立大学  

  • Siナノホールの作製と超臨界CO2によるCu埋め込み

    玉井架,松原正弘,近藤英一,李佳龍,松村道雄

    日本機械学会第15期総会講演大会  2009.3  日本機械学会 関東支部

     More details

    Event date: 2009.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:茨城大学  

  • A fast new approach for evaluating the connectivity of micropores(<2nm)and supermicropores(<0.5mn) in low-k thin films

    Eiichi Kondoh, Shosaku Aruga,Fuminori Ito and Yoshinori Hayashi

    Advanced Metallization Conference Asian Session 2008  2008.10 

     More details

    Event date: 2008.10

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo, Tokyo  

  • 超臨界流体中エリプソメトリを用いた多孔質low-k膜の開孔性評価法の検討

    有賀庄作,齊藤雄亮,米山明里,近藤英一

    2008年秋季 第69回応用物理学会学術講演会  2008.9  社団法人 応用物理学会

     More details

    Event date: 2008.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:中部大学  

  • 各種低密度薄膜の超臨界流体中でのその場エリプソメトリー観測

    有賀 庄作,斉藤 雄亮・米山 明里,小高 和也,玉井 架,近藤 英一

    化学工学会 第40回秋季大会  2008.9  社団法人 化学工学会

     More details

    Event date: 2008.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東北大学  

  • 超臨界流体を用いた各種細胞からの核酸のとりだし

    近藤 英一,堀内 愛,御園生 拓

    化学工学会 第40回秋季大会  2008.9  社団法人 化学工学会

     More details

    Event date: 2008.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東北大学  

  • フロー方式のCu薄膜堆積の成膜特性と三次元貫通電極作成の試み

    松原 正弘,深澤 直樹,米山 明里

    化学工学会 第40回秋季大会  2008.9  社団法人 化学工学会

     More details

    Event date: 2008.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東北大学  

  • Nanorod formation via topography-sensitive deposition in supercritical solutions

    Eiichi Kondoh, Michiru Hirose,Eiichi Ukai,Kodai Nagano,Junju Yamanaka, Chiaya Yamamoto

    34th International Conference  2008.9  MNE2008

     More details

    Event date: 2008.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Athens Hilton Hotel Greece  

  • 超臨界流体中での表面・薄膜のその場観測

    近藤英一

    2008.7  化学工学会 超臨界流体部会

     More details

    Event date: 2008.7

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:熱海ニューフジヤホテル  

  • 超臨界流体を用いたCu成膜

    近藤英一

    電子ジャーナルテクニカルセミナー  2008.5  電子ジャーナル

     More details

    Event date: 2008.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:総評会館  

  • 超臨界流体を用いたCu薄膜堆積~成膜特性検討と貫通電極プロセスへの適用の試み

    松原正弘,近藤英一

    電子材料研究会  2008.5  社団法人 電気学会

     More details

    Event date: 2008.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:社団法人 電気学会  

  • Cu film deposition from super critical carbon dioxide fluids for 3D-IC THRU via formation

    Masahiro Matsubara, Eiichi Kondoh

    11th European Meeting on Supercritical Fluids  2008.5 

     More details

    Event date: 2008.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Serhs Campus Hotel Barcelona,Spain  

  • 多孔質Low-k膜を超臨界二酸化炭素洗浄した際の共溶媒の挙動

    有賀 庄作,小高 和也,近藤 英一

    2008年春季 第55回応用物理学関係連合講演会  2008.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2008.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:日本大学理工学部 船橋キャンパス  

  • 超臨界CO2堆積法を用いたMEMS貫通電極ヴィア孔内のCu薄膜形成(フロー方式第6報)

    近藤英一,松原正弘

    2008年春季 第55回応用物理学関係連合講演会  2008.3  応用物理学会

     More details

    Event date: 2008.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:日本大学理工学部 船橋キャンパス  

  • 超臨界CO2流体を利用したDNA抽出の試み

    近藤英一,堀内愛,御園生拓

    化学工学会第73年会  2008.3  化学工学会

     More details

    Event date: 2008.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:静岡大学 浜松キャンパス  

  • βジケトン錯体原料を用いたフロー式Cu薄膜堆積の堆積特性

    松原正弘,近藤英一

    化学工学会第73年会  2008.3  化学工学会

     More details

    Event date: 2008.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:静岡大学 浜松キャンパス  

  • In-situ偏光解析法による超臨界流体中での有機金属浸透のモニタリング

    近藤 英一,有賀 庄作,鵜飼 栄一

    化学工学会第73年会  2008.3  化学工学会

     More details

    Event date: 2008.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:静岡大学 浜松キャンパス  

  • フロー超臨界薄膜装置による薄膜の堆積特性と長時間成膜への適用

    近藤英一,松原正弘

    日本機械学会第14期総会講演会  2008.3  日本機械学会 関東支部

     More details

    Event date: 2008.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:東京海洋大学 越中島キャンパス  

  • 超高密度流体中での動的溶解度制御を利用した形状敏感型自己整合ナノプロセス 構造形成メカニズムの検討

    近藤英一

    科研費特定領域研究 シリコンナノエレクトロニクスの新展開「ポストスケーリングテクノロジー」第二回成果報告会  2008.3 

     More details

    Event date: 2008.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:秋葉原コンベンションホール  

  • フィラメント活性化方式の表面処理

    近藤英一

    諏訪圏産学リエゾンフェア  2008.3  財団法人長野県テクノ財団

     More details

    Event date: 2008.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:RAKO華乃井ホテル  

  • 超臨界流体中での薄膜堆積法~原理,特徴,差別化要素~

    近藤 英一

    最近の化学工学講習会58  2007.12  化学工学会超臨界部会

     More details

    Event date: 2007.12

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:早稲田大学理工学部(大久保キャンパス)  

  • 超臨界二酸化炭素中その場偏光解析法の開発~多孔質low-k膜の洗浄過程の解析

    近藤英一,有賀庄作

    第1回偏光計測研究会  2007.11  東北大学多元物質科学研究所

     More details

    Event date: 2007.11

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:東北大学多元物質科学研究所  

  • Deposition of Oxide Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Fluids

    Eiichi Kondoh

    The Sixth Pacific Rim International Conference on Advanced Materials and Processing  2007.11 

     More details

    Event date: 2007.11

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:ICC Jeju  

  • Low-temperature texture improvement of copper thin films by using hot-filament radical source

    Eiichi Kondoh,Masaya Fukasawa

    Advanced Metallization Conference Asian Session 2007  2007.10  ADMETA委員会,応物

     More details

    Event date: 2007.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo, Tokyo  

  • Topography sensitive copper deposition for "post-scalability" era--A novel nano selective deposition mode

    Eiichi Kondoh, Michiru Hirose, Eiichi Ukai, and Shosaku Aruga

    Advanced Metallization Conference Asian Session 2007  2007.10  ADMETA委員会,応物

     More details

    Event date: 2007.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo, Tokyo  

  • Bottom-up interconnect formation possibility using supercritical fluids: beyond scalability,

    Eiichi Kondoh

    The International Conference "Micro- and nanoelectronics - 2007" (ICMNE-2007)  2007.10 

     More details

    Event date: 2007.10

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:The holiday hotel Lepiki  

  • 熱フィラメント水素ラジカルソースによるCu薄膜改質

    近藤 英一,深澤 真也

    化学工学会 第39回秋季大会  2007.9  化学工学会

     More details

    Event date: 2007.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道大学  

  • フロー堆積システムによるCu薄膜堆積

    近藤 英一,廣瀬 みちる,福田 順平,松原 正弘

    化学工学会 第39回秋季大会  2007.9  化学工学会

     More details

    Event date: 2007.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道大学  

  • 活用広がる機能性高密度流体プロセッシング

    近藤英一

    2007年(平成19年)秋季 第68回応用物理学会学術講演会講演予稿集  2007.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2007.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:北海道工業大学  

  • Metalization using supercritical fluids for post-scalability ULSI processing

    Eiichi Kondoh

    8th Seminar Porous Glasses-Special Glasses ; Porous Glass Technology for Detection of Chemical Agents(PGL'2007)  2007.9  NATO

     More details

    Event date: 2007.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:Wroclaw University ofTechnology,Poland  

  • 超臨界二酸化炭素中その場偏光解析法の開発(2)~多孔質low-k膜の洗浄過程の解析

    有賀庄作,鵜飼栄一,近藤英一

    2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会  2007.9  応用物理学会

     More details

    Event date: 2007.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:北海道工業大学  

  • In-situ ellipsometric study on the condensation and cleaning of a metalorganic copper compound to/from porous k thin films in supercritical carbon dioxide

    Eiichi Kondoh

    12th International Symposium on Chemical-Mechanical Planarization  2007.8  Clarkson University

     More details

    Event date: 2007.8

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Hilton Lake Placid Resort (New York)  

  • 超臨界流体内での金属薄膜堆積

    近藤 英一

    第1回表面物性研究会  2007.6  (社)表面技術協会 関西支部

     More details

    Event date: 2007.6

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:大阪市工業研究所   

  • Condensation and cleaning of a metalorganic copper compound to/from porous low-κthin films in supercritical carbon dioxide 

    E. Kondoh , E.Ukai

    4th International Conference on Spectroscopic Ellipsometry  2007.6  ICSE4 Committee

     More details

    Event date: 2007.6

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:Folkets Hus, Stockholm  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤 英一

    (独)日本学術振興会半導体界面制御技術第154委員会第54回研究会 2006・5・23弘済会館"  2007.6 

     More details

    Event date: 2007.6

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤 英一

    ナノプレーティング研究会第22回(通算86回)例会  2007.5  (社)日本金属学会

     More details

    Event date: 2007.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:山梨県 大泉高原(八ヶ岳ロイヤルホテル)  

  • Novel topography-sensitive bottom-up growth of ruthenium and copper for filling nano-features using supercritical CO2 fluids: beyond scalability

    E. Kondoh, M. Hirose, E. Ukai, K. Nagano

    2007 MRS SPRING MEETING  2007.4  MRS

     More details

    Event date: 2007.4

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:SAN FRANCISCO MARRIOTT HOTEL(MosconeWest, SanFrancisco,CA)  

  • "超臨界流体中薄膜堆積法における「形状敏感」堆積モード:Beyond Scalability

    近藤英一,廣瀬みちる,鵜飼栄一,有賀庄作,長能広大

    2007年春季 第54回応用物理学関係連合講演会 青山学院大学 相模原キャンパス  2007.3 

     More details

    Event date: 2007.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • エリプソメトリ-薄膜測定入門       ~講義とEXCEL測定演習~

    近藤英一

    エリプソメトリーセミナー  2007.3  情報機構

     More details

    Event date: 2007.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:大田区産業プラザ  

  • 超臨界流体による次世代製膜・埋め込み技術~「全流体式」フロー超臨界薄膜堆積装置の製作~

    (正)近藤英一,廣瀬みちる

    総会講演会  2007.3  日本機械学会 関東支部

     More details

    Event date: 2007.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:宇都宮大学峰キャンパス  

  • 超臨界流体の配線技術への応用

    近藤英一,廣瀬みちる

    日本機械学会関東支部2007年総会・講演会,2007年3月16日,宇都宮大学  2007.3 

     More details

    Event date: 2007.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を利用したULSI多層配線用金属薄膜の形成

    近藤英一

    化学工学会反応工学部会CVD反応分科会の設立準備シンポジウム,2007/2/22,日本工業大学専門職大学院  2007.2 

     More details

    Event date: 2007.2

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • Kinetics and Narrow-Gap Filling in Cu Thin Film Deposition from Supercritical Carbon Dioxide Fluids-Precise and Reliable Experiments using a Flow-Type Deposition Processor

    E. Kondoh,M. Hirose,J. Fukuda

    "Advanced Metallization Conference 2006: 16th Asian Session Sept. 25-27, 2006, Sanjo Conference Hall, The University of Tokyo, Tokyo"  2006.9 

     More details

    Event date: 2006.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤 英一

    産業技術総合研究所new-SIC研究会第3回研究会,9月20日,産総研仙台  2006.9 

     More details

    Event date: 2006.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • Nanostructure formation using supercritical fluids

    E. Kondoh

    32nd International Conference on Micro- and Nano- Engineering (MNE06), 18/9-20/9, Barcelona WTC, Spain.  2006.9 

     More details

    Event date: 2006.9

    Language:English   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤 英一

    化学工学会 超臨界流体部会 第5回サマースクール 平成18年8月22~23日 熱海ニューフジヤホテル  2006.8 

     More details

    Event date: 2006.8

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • Metallization using Supercritical Carbon Dioxide Fluid

    E. Kondoh

    10th International Symposium on Chemical-Mechanical Plaranization, Aug 14-17, 2005, Lakcplacid NY  2006.8 

     More details

    Event date: 2006.8

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • ナノプレーティング研究会(日本金属学会)第18回例会

    超臨界流体を利用した薄膜堆積技術  2006.5 

     More details

    Event date: 2006.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • 超臨界流体を利用した薄膜堆積技術

    近藤英一

    (独)日本学術振興会半導体界面制御技術第154委員会第54回研究会  2006.5 

     More details

    Event date: 2006.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:弘済会館  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術

    近藤 英一 "

    "ナノプレーティング研究会(日本金属学会)第18回例会  2006.5 

     More details

    Event date: 2006.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:八ヶ岳ロイヤル  

  • 超臨界二酸化炭素を用いた微細配線形成技術~フロー式成膜実験装置を用いた堆積特性の検討~

    日本機械学会関東支部第12期総会講演会2006/3/10-11東洋大学川越キャンパス  2006.3 

     More details

    Event date: 2006.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 22a-R-9 超臨界CO2流体中におけるRuの形状敏感堆積の基礎検討 山梨大院医工 ○(M)廣瀬みちる,近藤英一

    2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会 開催場所: 武蔵工業大学(東京都世田谷区) 期間: 2006年3月22日(水)~26日(日)  2006.3 

     More details

    Event date: 2006.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 24a-J-2 超臨界流体中化学堆積法における下地及び反応容器壁の堆積への影響 山梨大医工院 ○鵜飼栄一,近藤英一

    2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会 開催場所: 武蔵工業大学(東京都世田谷区) 期間: 2006年3月22日(水)~26日(日)  2006.3 

     More details

    Event date: 2006.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 24a-J-3 フロー方式超臨界薄膜堆積装置の原料濃度制御とその堆積への影響(2) 山梨大医工院 ○廣瀬みちる,福田順平,近藤英一

    2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会 開催場所: 武蔵工業大学(東京都世田谷区) 期間: 2006年3月22日(水)~26日(日)  2006.3 

     More details

    Event date: 2006.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 24p-J-13 ホットフィラメント法によるCuOの還元及びポーラスlow-k材料へのダメージ評価 山梨大医工院 ○(M)深澤真也,近藤英一

    2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会 開催場所: 武蔵工業大学(東京都世田谷区) 期間: 2006年3月22日(水)~26日(日)  2006.3 

     More details

    Event date: 2006.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 熱フィラメント水素ラジカル源を用いたCu表面処理 近藤英一,深澤真也

    応用物理学会分科会シリコンテクノロジー No.79, p.18-22, 2006/2/6/機械技術振興会館  2006.2 

     More details

    Event date: 2006.2

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を利用した薄膜形成技術,近藤 英一

    (社)表面技術協会関東支部第68回例会講演会,平成17年11月30日,山梨県工業技術センター  2005.11 

     More details

    Event date: 2005.11

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Planarization challenges in Cu metallization by supercritical CO2 (Invited Talk), E. Kondoh

    The 2nd Pac-Rim International Conference on Planarization CMP and Its Application Technology (PacRim-CMP 2005), November 17 ~ 19, 2005, COEX, Seoul, Korea  2005.11 

     More details

    Event date: 2005.11

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • 超臨界温泉について

    科学知総合研究所フォーラム  2005.10 

     More details

    Event date: 2005.10

    Language:Japanese   Presentation type:Other  

    Venue:東京大学産学連携センター  

  • To transfer familiar dry-process design to supercritical fluid chemical deposition appratus for studying deposition science, E. Kondoh and J. Fukuda

    Advanced Metallization Conference Asian Session, Oct. 13-14, 2005, Tokyo  2005.10 

     More details

    Event date: 2005.10

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Hot Filament Technology for Quick and Low Temperatuer Copper Surface Recuperation, E. Kondoh

    Advanced Metallization Conference Asian Session, Oct. 13-14, 2005, Tokyo  2005.10 

     More details

    Event date: 2005.10

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 10p-ZF-5 超臨界二酸化炭素中その場偏光解析法の開発(1) 山梨大 医工院 ○鵜飼栄一,近藤英一

    2005年秋季 第66回応用物理学会学術講演会 開催場所: 徳島大学 期間: 2005年 9月 7~11日  2005.9 

     More details

    Event date: 2005.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 8a-A-7 フロー方式超臨界薄膜堆積装置の原料濃度制御とその堆積への影響 山梨大 医工院 ○福田順平,近藤英一

    2005年秋季 第66回応用物理学会学術講演会 開催場所: 徳島大学 期間: 2005年 9月 7~11日  2005.9 

     More details

    Event date: 2005.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Metallization using Supercritical Carbon Dioxide Fluid, E. Kondoh

    10th International Symposium on Chemical-Mechanical Plaranization, Aug 14-17, 2005, Lakcplacid NY  2005.8 

     More details

    Event date: 2005.8

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • 超臨界流体を利用したナノプロセッシング

    フロンティアプロセス2005, 2005/8/19-20,産総研つくばセンター  2005.8 

     More details

    Event date: 2005.8

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Metallization using Supercritical Carbon Dioxide Fluid for 45nm Technology Node and Beyond, E. Kondoh

    ISSF2005  2005.5 

     More details

    Event date: 2005.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を利用した金属薄膜堆積

    (独)日本学術振興会薄膜第131委員会第225回研究会,2005/4/15,アジュール竹芝  2005.4 

     More details

    Event date: 2005.4

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界二酸化炭素を用いた微細配線形成技術 (連続・フロー式成膜実験装置の開発) 福田順平,近藤英一

    日本機械学会関東支部第11期総会講演会,2005年3月18日,19日,東京都立大学, p. 277-278  2005.3 

     More details

    Event date: 2005.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • ホットフィラメント源で生成したHラジカルによるCuOの還元・導電化 近藤英一,大滋彌拓也

    2005年春季 第52回応用物理学関係連合講演会,2005年3月29日~4月1日,埼玉大学,31p-ZE-15,p939  2005.3 

     More details

    Event date: 2005.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界CO2への有機Cu成膜原料の溶解特性 福田順平,近藤英一

    2005年春季 第52回応用物理学関係連合講演会,2005年3月29日~4月1日,埼玉大学,31p-ZE-18,p940  2005.3 

     More details

    Event date: 2005.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界CO2流体中でのRu薄膜の堆積 近藤英一

    2005年春季 第52回応用物理学関係連合講演会,2005年3月29日~4月1日,埼玉大学,31p-ZE-19,p940  2005.3 

     More details

    Event date: 2005.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 多孔質低誘電率膜の微細構造 近藤英一

    日本化学会第85年会アドバンストテクノロジープログラム(依頼講演)2K3-47 2005年3月26日~29日,神奈川大学, p. 519  2005.3 

     More details

    Event date: 2005.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • フロー式超臨界CO2堆積装置を用いたCu薄膜の堆積 福田順平,近藤英一

    化学工学会 第70年会 2005年3月22日(火)~24日(木)  名古屋大学 東山キャンパス  2005.3 

     More details

    Event date: 2005.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を用いたナノピラー構造作製 志鎌耕一郎,近藤英一

    化学工学会 第70年会 2005年3月22日(火)~24日(木)  名古屋大学 東山キャンパス  2005.3 

     More details

    Event date: 2005.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を用いた薄膜堆積技術

    技術情報協会セミナー(2005年1月27~28日,北とピア)  2005.1 

     More details

    Event date: 2005.1

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を用いた配線形成技術

    2004セミコンジャパンテクノロジーシンポジウム(2004年12月1~3日,幕張メッセ) , p. 5-53--5-65  2004.12 

     More details

    Event date: 2004.12

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Direct Deposition of Cu\Barrier Stacks on Dielectric/Nonconductive Layers using Supercritical CO2

    E. Kondoh, M. Hishikawa, M. Yanagihara, and K. Shigama

    Proc. 2004 IEEE International Interconnect Technology Conference, p.33  2004.11 

     More details

    Event date: 2004.11

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界CO2によるバックエンド一貫工程の可能性

    第13回半導体プロセスシンポジウム(2004年9月16日,笹川記念会館)  2004.9 

     More details

    Event date: 2004.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界堆積法による層間絶縁膜上へのCu/BM積層構造の形成 近藤英一,菱川正毅,志鎌耕一郎

    第65回応用物理学会学術講演会講演予稿集,2004年9月1日~9月4日,東北学院大学,2P-M-1, p. 706  2004.9 

     More details

    Event date: 2004.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • フロー方式による超臨界二酸化炭素を用いたCu薄膜堆積特性の評価 福田順平,柳原勝,近藤英一

    第65回応用物理学会学術講演会講演予稿集,2004年9月1日~9月4日,東北学院大学,2pM2,. P. 706  2004.9 

     More details

    Event date: 2004.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Barrier/Copper Direct Deposition Possibility using Supercritical Carbon Dioxide Fluid (invited)

    E. Kondoh

    Proc. 21st International VLSI Multilevel Interconnection Conference (Sep 30/Oct 1, Hawaii), p.17-18.  2004.9 

     More details

    Event date: 2004.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

  • Control of selective and blanket ruthenium film deposition chemistry in supercritical CO2 fluid chemical deposition

    E. Kondoh

    Proc. 2004 International Microprocess and Nanotechnology Conference, p. 48--49  2004.9 

     More details

    Event date: 2004.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界ナノ配線プロセス

    STARCシンポジウム2004  2004.5 

     More details

    Event date: 2004.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界CO2流体中でのCu薄膜堆積 ~フロー型堆積装置の試作~ 近藤英一,柳原勝,福田順平,志鎌耕一郎

    第51回応用物理学関係連合講演会,2004年3月28日~31日,東京工科大学  2004.3 

     More details

    Event date: 2004.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界流体を利用した一貫メタライゼーションプロセスの可能性 近藤英一,菱川正毅,志鎌耕一郎

    応用物理学会分科会,シリコンテクノロジー No. 58, 2004年2月2日,機械技術振興会館 予稿集p. 7--10  2004.2 

     More details

    Event date: 2004.2

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Noise free and jitter-less clock distribution method for high-frequency system using microcavity

    H. Kato, E. Kondoh, T. Akitsu, T. Kobori and H. Morishita

    Proc. Advanced Metallization Conference 2003, (Oct. 21-23, Montreal, Canada / Tokyo, 2003.), p. 65-68  2003.10 

     More details

    Event date: 2003.10

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Nanoscale Deposition in Supercritical Fluids, Cu Metallization Process and Barrier Metal Deposition Possibility

    E. Kondoh, M. Hishikawa, K. Shigama

    Proc. Advanced Metallization Conference 2003, (Oct. 21-23, Montreal, Canada / Tokyo, 2003.), p. 583-588.  2003.10 

     More details

    Event date: 2003.10

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界CO2流体中のCu(hfac)2のFTIR測定 志鎌耕一郎,近藤英一

    第64回応用物理学会学術講演会,2003年8月30日-9/2,福岡大学  2003.8 

     More details

    Event date: 2003.8

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Metal Filling in Deep Nano Trechnces/Holes using Supercritical Carbon Dioxide

    E. Kondoh

    Proc. 2003 International Microprocess and Nanotechnology Conference, p. 42  2003.6 

     More details

    Event date: 2003.6

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Paving the Way for Full-Fluide IC Metallization using Supercritical Carbon Dioxide

    E. Kondoh, V. Vezin, K. Shigama, S. Sunada, K. Kubo, and T. Ohta

    Proc. 2003 IEEE International Interconnect Technology Conference, p. 141, 2003.  2003.6 

     More details

    Event date: 2003.6

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 各種プリカーサーを用いた超臨界CO2流体堆積法によるCu薄膜の作製 志鎌耕一郎,近藤英一

    第50回応用物理学関係連合講演会予稿集,2003/3/27-30,神奈川大学28aZG9, p. 906  2003.3 

     More details

    Event date: 2003.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Copper Deposition Characteristics from a Supercritical CO2 Fluid

    E. Kondoh

    Advanced Metallization Conference 2002, Sep. 29-Oct. 1, San Diego/Tokyo, 2002.  2002.9 

     More details

    Event date: 2002.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界CO2中でのCu薄膜の堆積特性 近藤英一

    第63回応用物理学会学術講演会,2002年9月24日-27日,新潟大学  2002.9 

     More details

    Event date: 2002.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界二酸化炭素を用いたLSI銅配線用薄膜の堆積 近藤英一

    化学工学会第35回秋季大会,平成14年9月18日(水)-20日(金),神戸大学  2002.9 

     More details

    Event date: 2002.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界CO2中でのCu薄膜の堆積(依頼講演) 近藤英一

    LSI配線における原子輸送・応力問題第8回研究会(応用物理学会表面分科会主催),2002年7月4日-5日,東京大学山上会館  2002.7 

     More details

    Event date: 2002.7

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 多孔質低誘電率膜の微細構造(招待講演) 近藤英一

    第62回半導体・集積回路技術シンポジウム,平成14年6月6日-7日,機械振興会館ホール  2002.6 

     More details

    Event date: 2002.6

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 超臨界二酸化炭素を用いたCu薄膜の作製と埋め込み 加藤洋樹,近藤英一

    2002年春季第49会応用物理学関係連合講演会, 2002年3月27-29,東海大学  2002.3 

     More details

    Event date: 2002.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • ポリイミド上のスパッタAl薄膜のテクスチャ

    2001年秋季(第129回)日本金属学会講演大会, 2001年9月22日~24日、九州産業大学(福岡市), p. 175  2001.9 

     More details

    Event date: 2001.9

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Comparative Study of Porous SOG Films with Different Non-destructive Instrumentation, M.R. Baklanov, E.Kondoh, E.K.Lin,

    D.W.Gidley, H.-J.Lee, K.P.Mogilnikov, and J.N.Sun

    IEEE 2001 International Interconnect Technology Conference, pp.189-191.  2001.5 

     More details

    Event date: 2001.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 最近のLSI配線用材料

    金属学会機能性材料研究会、2000年5月26日(九州大学)  2000.5 

     More details

    Event date: 2000.5

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • Cu-Ti合金/ポリイミド積層膜の界面特性

    2000年春季(第127回)日本金属学会講演大会, 2000年3月29日~31日、横浜国立大学(横浜市), p. 396  2000.3 

     More details

    Event date: 2000.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

  • 生体組織を利用した金属配線形成の試み

    望月裕文,渡邉満洋,近藤英一

    第126回講演大会  0928  表面技術協会

     More details

    Event date: 0928

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:室蘭工業大学  

  • Glass/ZnO 基板上への金属薄膜堆積と密着性

    寺岡 暁,渡邉満洋,近藤英一

    第126回講演大会  0928  表面技術協会

     More details

    Event date: 0928

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(general)  

    Venue:室蘭工業大学  

  • 超臨界流体を用いた金属薄膜堆積―メリットと展望―

    近藤英一

    第44回秋季大会  0921  化学工学会

     More details

    Event date: 0921

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation(invited, special)  

    Venue:東北大学 川内北キャンパス  

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Industrial Property Rights

  • 導電性物質の形成装置及びその形成方法

    近藤英一,竹内裕人,渡邉満洋,山本敏,菊川直博

     More details

    Applicant:山梨大学・フジクラ

    Application no:2011-218301  Date applied:2011.9

    Country of applicant:Foreign country  

  • 導電性物質の形成装置及びその形成方法

    近藤英一,竹内裕人,渡邉満洋,山本敏,菊川直博

     More details

    Applicant:山梨大学・フジクラ

    Application no:2011-218300  Date applied:2011.9

    Country of applicant:Foreign country  

  • 導電性物質の形成装置及びその形成方法

    近藤英一,竹内裕人,渡邉満洋,山本敏,菊川直博

     More details

    Applicant:山梨大学・フジクラ

    Application no:2011-218302  Date applied:2011.9

    Patent/Registration no:5785264  Date registered:2015.7 

    Country of applicant:Foreign country  

  • 導電性物質の形成装置及びその形成方法

    近藤英一,松原正弘,竹内裕人

     More details

    Applicant:山梨大学・フジクラ

    Application no:2011-199678  Date applied:2011.9

    Country of applicant:Foreign country  

  • 細孔を有する薄膜の測定方法とそのシステム

    近藤英一

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特願2010-197237  Date applied:2010.9

    Country of applicant:Domestic  

  • Deposition method for oxide thin film or stacked metal thin films using supercritical fluid or subcritical fluid, and deposition apparatus therefor

    E. Kondoh

     More details

    Application no:   Date applied:2010

    Patent/Registration no:USP 7,695,760 

    Country of applicant:Domestic  

  • 導電体の形成装置、導電体の選択形成方法および半導体装置の製造方法

    近藤英一,広瀬みちる,田中均,佐藤雅幸,矢野尚,吉丸正樹

     More details

    Applicant:半導体理工学研究センター

    Application no:特願2007-050362  Date applied:2007.2

    Country of applicant:Domestic  

  • 近藤英一,超臨界流体中に連続的に低圧の気体を添加する方法およびそのための装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特願2004-249487  Date applied:2004.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 加藤初弘,近藤英一 クロック信号分配装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特願2004-79343  Date applied:2004.4

    Patent/Registration no:特許3251990 

    Country of applicant:Domestic  

  • 近藤英一,超臨界流体又は亜臨界流体を用いた酸化物薄膜,または金属積層薄膜の成膜方法,及び成膜装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特願2004-167782  Date applied:2004.4

    Patent/Registration no:4815603 

    Country of applicant:Foreign country  

  • 成膜装置および成膜方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特願2003-430575  Date applied:2003.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • ブザンバンソン,久保謙一,小宮隆弘,近藤英一 成膜装置および成膜方法,

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特願2003-430575  Date applied:2003.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特願2003-17948  Date applied:2003.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特願2003-17949  Date applied:2003.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属膜の堆積方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-163708  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • Al薄膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-014803  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属薄膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-014777  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 薄膜形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-349791  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 薄膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-346240  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム合金金属膜の堆積方法およびアルミニウム合金配線の形成装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-333859  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-326104  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム合金薄膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-326028  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 化学気相成長装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-314653  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム配線の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-291051  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 埋込プラグの形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-283607  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • Al薄膜形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-283531  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属薄膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-283446  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム合金薄膜の形成方法及びその装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-283443  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム合金薄膜の形成方法及びその装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-283442  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属薄膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-283441  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-283440  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属薄膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-275722  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 半導体ダイヤモンド

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平05-013342  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 薄膜形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-275721  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • Al合金膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-272043  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 薄膜形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-272042  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 薄膜形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-272041  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-268072  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 配線構造及びその形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-267960  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム合金薄膜の形成方法及びその装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-267958  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-267957  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 埋込プラグの形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-267956  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 埋込プラグの形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-267955  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム合金配線の形成方法及びその装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-267952  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 合金薄膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-267951  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • Al配線の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-267950  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属膜の選択形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-267946  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム合金薄膜の形成装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-267869  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 合金薄膜の形成装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-264244  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • AlCu合金金属膜

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-264243  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • AlCu合金金属膜およびその形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-264242  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 多層配線構造の半導体装置及びその製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-244186  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 液体原料の送給方法及び薄膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-244121  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 半導体装置のアルミニウム配線の形成方法及び装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-240456  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 半導体集積回路装置の配線の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-236879  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属配線

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-236878  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 銅薄膜のドライエッチング方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-204186  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 銅薄膜のドライエッチング方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-204185  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 銅薄膜のドライエッチング方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-204184  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-204175  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-204174  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 気相成長用ガス供給装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-196414  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 単結晶ダイヤモンド膜の気相合成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-183888  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 埋め込みプラグの形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-163709  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 多層配線構造の半導体装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-014836  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • Al若しくはAl合金の成膜方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-163429  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 金属配線の形成方法およびその装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-158320  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 集積回路装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平06-140401  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • ダイヤモンド合成法及びそれに用いる合成装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平05-097581  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 高濃度Si含有電磁鉄板の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平05-078816  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • ダイヤモンド合成法およびその合成装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平05-070291  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 2. 特許公開2004-228526 基板処理方法および半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特許公開2004-228526  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 3. 特許公開2004-225152 基板処理方法および半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特許公開2004-225152  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • ヴィア孔の埋め込み方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平08-097287  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 多層配線構造の半導体装置及びその製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-326620  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 多層配線構造を有する半導体装置の製造方法、及び、多層配線構造を有する半導体装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-273112  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 多層配線構造を有する半導体装置の製造方法、及び、多層配線構造を有する半導体装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-273111  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 多層配線構造およびその製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-254642  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 層間接続孔の埋め込み方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-169834  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-130848  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 有機金属化合物混合液及びそれを用いた薄膜の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-130654  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 多層配線構造の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-122639  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 多層配線構造を有する半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-099247  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 多層配線構造の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-029903  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 埋込プラグの形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-022426  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム配線の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-022419  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム配線の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-022418  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム配線の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-022417  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • アルミニウム配線の形成方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-022416  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 埋込プラグの形成方法およびその装置

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平07-022399  Date applied:2002.4

    Country of applicant:Foreign country  

  • 半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平08-222563 

    Country of applicant:Foreign country  

  • 高圧処理装置および高圧処理方法

     More details

    Application no:特開2007-162081 

    Patent/Registration no:5066336 

    Country of applicant:Domestic  

  • Chemical vapor deposition apparatus for forming thin film 

     More details

    Application no:米国特許 5,209,182 

    Patent/Registration no:米国特許 5,209,182 

    Country of applicant:Domestic  

  • Chemical vapor deposition method for forming thin film 

     More details

    Application no:米国特許 5,225,245 

    Patent/Registration no:米国特許 5,225,245 

    Country of applicant:Domestic  

  • Method for supplying liquid material and process for forming thin films using the liquid material supplying method 

     More details

    Application no:米国特許 5,552,181 

    Patent/Registration no:米国特許 5,552,181 

    Country of applicant:Domestic  

  • Method for making metal interconnection with chlorine plasma 

     More details

    Application no:米国特許 5,627,102 

    Patent/Registration no:米国特許 5,627,102 

    Country of applicant:Domestic  

  • Method of manufacturing semiconductor device having multilevel interconnection structure 

     More details

    Application no:米国特許 5,637,534 

    Patent/Registration no:米国特許 5,637,534 

    Country of applicant:Domestic  

  • Method for making metal interconnection

     More details

    Application no:米国特許 6,063,703 

    Patent/Registration no:米国特許 6,063,703 

    Country of applicant:Domestic  

  • Metal interconnection and method for making

     More details

    Application no:米国特許 5,973,402 

    Patent/Registration no:米国特許 5,973,402 

    Country of applicant:Domestic  

  • Semiconductor device having a multilevel interconnection structure

     More details

    Application no:米国特許 5,952,723 

    Patent/Registration no:米国特許 5,952,723 

    Country of applicant:Domestic  

  • 集積回路装置

     More details

    Application no:特許2997371 

    Patent/Registration no:特許2997371 

    Country of applicant:Domestic  

  • 含Cr溶鋼の脱炭精錬方法

     More details

    Application no:特公平6-39611  

    Patent/Registration no:特公平6-39611  

    Country of applicant:Domestic  

  • アルミニウム合金金属膜の堆積方法

     More details

    Application no:特許3407762 

    Patent/Registration no:特許3407762 

    Country of applicant:Domestic  

  • アルミニウム合金配線の形成方法及びその装置

     More details

    Application no:特許3342729 

    Patent/Registration no:特許3342729 

    Country of applicant:Domestic  

  • 金属膜の形成方法

     More details

    Application no:特許3320494 

    Patent/Registration no:特許3320494 

    Country of applicant:Domestic  

  • 薄膜形成方法

     More details

    Application no:特許3270196 

    Patent/Registration no:特許3270196 

    Country of applicant:Domestic  

  • 半導体装置の製造方法

     More details

    Application no:特許3266492 

    Patent/Registration no:特許3266492 

    Country of applicant:Domestic  

  • 銅薄膜のドライエッチング方法

     More details

    Application no:特許3256707 

    Patent/Registration no:特許3256707 

    Country of applicant:Domestic  

  • Al若しくはAl合金の成膜方法

     More details

    Application no:特許3251990 

    Patent/Registration no:特許3251990 

    Country of applicant:Domestic  

  • 半導体装置の製造方法

     More details

    Applicant:山梨大学

    Application no:特開平08-298288 

    Country of applicant:Foreign country  

  • Method of adding low-pressure gas continuously to supercritical fluid and apparatus therefor

    E. Kondoh,J. Fukuda

     More details

    Application no:  

    Patent/Registration no:USP 7,651,671  Date registered:2007.2 

    Country of applicant:Domestic  

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Awards

  • Fellow of the Japan Society of Applied Physics

    2019.9   Japan Society of Applied Physics  

  • Fellow of the Japan Society of Applied Physics

    2019.9   Japan Society of Applied Physics   超臨界CVDと洗浄技術の開拓及び半導体プロセスへの応用

  • ADMETA AWARD

    2017.10   In-situ ellipsometry of Cu surfaces immersed in BTA-H2O2 solutions - Effect of pH

    E. Kondoh, T. Kawakami, M. Watanabe, L. Jin, S. Shima, S. Hamada, and H. Hiyama

     More details

    Award type:Award from international society, conference, symposium, etc. 

  • Advanced Metallization Conference: Asian Session) Technical Achievement Award

    2014.10  

  • 平成26年度科学研究費助成事業審査委員表彰

    2014.10   (独)&#12103;本学術振興会  

    近藤英一

  • 日本機械学会フェロー

    2013.1   日本機械学会  

    近藤英一

  • 平成23年度表面技術協会論文賞

    2011.2  

    松原正弘,近藤英一

     More details

    3次元集積回路電極用Siマイクロ孔内側壁に超臨界流体を利用してCuを堆積した際の被覆特性の検討

  • Advanced Metallization Conference Asian Session Technology Achievement Award

    2009.10   ADMETA委員会  

    近藤英一,他

  • 山梨科学アカデミー奨励賞

    2009.5   山梨科学アカデミー  

    近藤英一

     More details

    超臨界流体のマイクロエレクトロニクス応用に関する研究

  • 社団法人 精密工学会 高城賞

    2005.9   社団法人 精密工学会  

    近藤英一

  • 日本金属学会技術開発賞

    1995.1  

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Teaching Experience (On-campus)

  • Exercises on Physical Chemistry Major achievement

    2023Year

  • Ordinary Differential Equations Major achievement

    2023Year

  • Speical lecture for micro and nano processing

    2018Year  Type of subject:Master's (Graduate School)

  • Semicondutor processing

    2018Year  Type of subject:Common education (undergraduate)

  • Speical lecture for advanced processing

    2018Year  Type of subject:Dr. (Graduate School)

  • Semicondutor processing

    2018Year  Type of subject:Professional education (undergraduate)

  • Processes for metal/semiconductor synthesis

    2018Year  Type of subject:Professional education (undergraduate)

  • Mathematics excercise II

    2018Year  Type of subject:Professional education (undergraduate)

  • Special lecture for materials processing

    2018Year  Type of subject:Master's (Graduate School)

  • Special lecture for quantum materials

    2018Year  Type of subject:Master's (Graduate School)

  • Ordinary differential equations

    2018Year  Type of subject:Professional education (undergraduate)

  • Special lecture for quantum materials

    2018Year  Type of subject:Master's (Graduate School)

  • Speical lecture for micro and nano processing

    2018Year  Type of subject:Dr. (Graduate School)

  • Semicondutor processing

    2017Year  Type of subject:Common education (undergraduate)

  • Speical lecture for advanced processing

    2017Year  Type of subject:Dr. (Graduate School)

  • Semicondutor processing

    2017Year  Type of subject:Professional education (undergraduate)

  • Processes for metal/semiconductor synthesis

    2017Year  Type of subject:Professional education (undergraduate)

  • Mathematics excercise II

    2017Year  Type of subject:Professional education (undergraduate)

  • Special lecture for materials processing

    2017Year  Type of subject:Master's (Graduate School)

  • Ordinary differential equations

    2017Year  Type of subject:Professional education (undergraduate)

  • Special lecture for quantum materials

    2017Year  Type of subject:Master's (Graduate School)

  • Speical lecture for micro and nano processing

    2017Year  Type of subject:Dr. (Graduate School)

  • Speical lecture for micro and nano processing

    2017Year  Type of subject:Master's (Graduate School)

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Guidance results

  • 2021

    Type:Master's (Major B course)dissertations guidance

    Number of people receiving guidance :1people 

Other undergraduate student guidance

  • 2020

    Guidance of overseas student - total time:100hours

    Guidance of employment - total time:40hours

    Guidance to life and extracurricular activities - total time:100hours

  • 2019

    Guidance of employment - total time:15hours

  • 2019

    Guidance to life and extracurricular activities - total time:100hours

Other educational achievements

  • キャリアハウス「大気圏気象モニタリング」の実習指導

    2023

  • 写真部顧問

    2023

  • 山梨大学アマチュア無線部顧問

    2023

  • キャリアハウス「ティーチサイエンス」の学生実験実習指導

    2022

  • キャリアハウス「大気圏気象モニタリング」の実習指導

    2022

  • 山梨大学アマチュア無線部顧問

    2022

  • キャリアハウス「大気圏気象モニタリング」の実習指導

    2021

  • キャリアハウス「ティーチサイエンス」の学生実験実習指導

    2021

  • キャリアハウス・大気圏気象モニタリング主宰、学生指導

    2020

  • キャリアハウス「大気圏環境モニタリング」を主催,気象観測基地運用
    キャリアハウス「ティーチサイエンス」に参加

    2019

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Review of master's and doctoral thesis

  • 2019

    Examiner classification:Second reader

    Master :2people 

Social Activities

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部、科学館、本学共催)

    2023.8

  • アマチュア無線を通じた自治体連携防災活動

    Role(s): Planner, Organizing member, Demonstrator

    2023

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部、オンライン理科教室)

    2021.10

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部、オンライン理科教室)

    2021.10

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部、オンライン)

    2021.9

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部、オンライン)

    2021.9

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部、科学館、本学共催)

    2021.8

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部、科学館、本学共催)

    2021.8

  • 表面技術協会第135回大会実行委員長

    Role(s): Organizing member

    表面技術協会  2021.3

  • 表面技術協会第135回大会実行委員長

    Role(s): Organizing member

    表面技術協会  2021.3

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部、ハイブリッド)

    Role(s): Lecturer, Advisor, Planner, Organizing member, Demonstrator

    応用物理学会東海支部  2020.4 - 2021.3

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部、ハイブリッド)

    Role(s): Lecturer, Advisor, Planner, Organizing member, Demonstrator

    応用物理学会東海支部  2020.4 - 2021.3

  • リフレッシュ理科教室(山梨会場)

    Role(s): Lecturer, Advisor

    応用物理学会東海支部  2019.7

  • リフレッシュ理科教室(山梨会場)

    Role(s): Lecturer, Advisor

    応用物理学会東海支部  2019.7

  • リフレッシュ理科教室(浜松会場)

    Role(s): Lecturer, Demonstrator

    応用物理学会東海支部  2019.7

  • リフレッシュ理科教室(浜松会場)

    Role(s): Lecturer, Demonstrator

    応用物理学会東海支部  2019.7

  • Materials Research Society Spring Meetings, Symposium Organizer EP07

    2019.4

  • Materials Research Society Spring Meetings, Symposium Organizer EP07

    2019.4

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部)

    山梨県立科学館  2018.7

     More details

    小中学生向け理科教室、工作指導

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部)

    山梨県立科学館  2017.8

     More details

    小中学生向け理科教室、工作指導

  • おもしろメカニカルワールド

    国立科学博物館  2016.8

     More details

    国立科学博物館 サイエンススクエア 日本機械学会関東支部事業 おもしろメカニカルワールドにおいて工作指導、同工作の考案、プロデュースを行った。

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部)

    山梨県立科学館  2016.8

     More details

    小中学生向け理科教室、工作指導

  • International Workshop of Materials for Advanced Interconnects (Beijing, China), Committee Member

    2016 - 2017

  • International Workshop of Materials for Advanced Interconnects (Beijing, China), Committee Member

    2016 - 2017

  • メカパイロット

    富士河口湖高校  2015.12

     More details

    ロボット教材を利用した工学啓蒙(日本機械学会関東支部山梨ブロック)

  • リフレッシュ出前理科教室

    松野小学校(静岡市)  2015.11

     More details

    小学校での工作指導

  • 山梨大学ものづくり出張授業

    富士河口湖高校  2015.10

     More details

    ロボット教材を利用した工学啓蒙(日本機械学会関東支部山梨ブロックと共催)

  • リフレッシュ理科教室

    浜松市立科学館  2015.6

     More details

    理科教室の指導、工作指導

  • メカパイロット

    塩山高校  2014.8

     More details

    ロボット教材を利用した工学啓蒙

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部)

    山梨県立科学館  2014.8

     More details

    小中学生向け理科教室、工作指導

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部)

    山梨県立科学館  2014.8

     More details

    小中学生向け理科教室、工作指導

  • リフレッシュ出前理科教室

    村上小学校(長野県千曲市)  2014.7

     More details

    小学校での工作指導

  • リフレッシュ理科教室

    浜松市立科学館  2014.6

     More details

    理科教室の指導、工作指導

  • メカパイロット

    塩山高校  2014.2

     More details

    出前講義(日本機械学会関東支部山梨ブロック)

  • メカパイロット

    日本機械学会関東支部山梨ブロック  2013.5

     More details

    高校における出前講義

  • 電波教室

    県立科学館  2012 - 2014

     More details

    小中学生向け理科教室

  • リフレッシュ理科教室(応用物理学会東海支部)

    県立科学館  2012 - 2014

     More details

    小学生への工作指導

  •  

    2012 - 2014

  • リフレッシュ理科教室

    県立科学館  2011.8

     More details

    県と応用物理学会との共催理科教室

  • リフレッシュ理科教室

    県立科学館  2010.8

     More details

    県と応用物理学会との共催理科教室

  •  

    2010.3 - 2012.2

  •  

    2010 - 2012

  •  

    2010 - 2011

  •  

    2009.3

  •  

    2009

  •  

    2009 - 2015

  •  

    2009 - 2012

  • リフレッシュ理科教室

    2008.8

     More details

    中高教員,生徒への体験型理科教室指導

  •  

    2008 - 2014

  •  

    2007 - 2015

  •  

    2006.4 - 2008.3

  •  

    2005.4 - 2007.3

  •  

    2003 - 2015

  •  

    2002.4 - 2005.3

  •  

    2001 - 2014

  •  

    2001 - 2005

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International Exchange and International Contribution

  • 2006

    応用物理学会・山梨県・山梨大学主催
    リフレッシュ理科教室 指導
    8月8~9日
    於 山梨県立科学館

  • 2005

    応用物理学会・山梨県・山梨大学主催
    リフレッシュ理科教室 指導
    於 山梨県立科学館

Professional Memberships

  • 電気化学会

    2022.12

  • 山梨科学アカデミー

    2010.4

  • 応用物理学会

    1986

  • 表面技術協会

  • エレクトロニクス実装学会

  • 日本機械学会

  • 表面技術協会

  • 日本機械学会

  • 応用物理学会

  • エレクトロニクス実装学会

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Committee Memberships

  • 一般社団法人表面技術協会   理事・副会長  

    2023.3 - 2025.2   

  • 応用物理学会   評議員  

    2022.4 - 2024.3   

  • 応用物理学会 教育企画委員会   委員  

    2020.4 - 2022.3   

      More details

    Committee type:Society

  • 応用物理学会 教育企画委員会   委員  

    2020.4 - 2022.3   

      More details

    Committee type:Society

  • JST創発的研究支援事業   審査委員  

    2020.4 - 2021.3   

      More details

    Committee type:Government (national level)

  • 応用物理学会   会誌編集委員  

    2020.4 - 2021.3   

      More details

    Committee type:Society

  • 応用物理学会   会誌編集委員  

    2020.4 - 2021.3   

      More details

    Committee type:Society

  • JST創発的研究支援事業   審査委員  

    2020.4 - 2021.3   

      More details

    Committee type:Government (national level)

  • 表面技術協会   国際交流委員  

    2019.3 - 2022.2   

      More details

    Committee type:Society

  • 表面技術協会   国際交流委員  

    2019.3 - 2022.2   

      More details

    Committee type:Society

  • 日本機械学会関東支部山梨ブロック   ブロック長  

    2018.3 - 2020.2   

  • 日本機械学会関東支部山梨ブロック   ブロック長  

    2018.3 - 2020.2   

  • 日本機械学会関東支部   商議員  

    2018.3 - 2019.2   

  • 日本機械学会関東支部   商議員  

    2018.3 - 2019.2   

  • (一社)表面技術協会   理事  

    2017.3 - 2018.2   

      More details

    Committee type:Society

  • (一社)表面技術協会   理事  

    2017.3 - 2018.2   

      More details

    Committee type:Society

  • (一社)表面技術協会   理事  

    2016.4 - 2017.3   

  • (一社)表面技術協会   理事  

    2016.4 - 2017.3   

  • 応用物理学会   代議員  

    2016.3 - 2019.2   

  • 応用物理学会   代議員  

    2015.3 - 2016.2   

  • 応用物理学会東海支部   幹事・リフレッシュ理科教室実行委員  

    2012   

  • 日本機械学会関東支部   監事  

    2011.3 - 2013.3   

  • 日本光学会偏光計測・制御技術研究グループ」   世話人  

    2010.6   

  • 表面技術協会 関東支部   幹事  

    2010.4   

  • 表面技術協会 表面技術編集委員会   委員  

    2009.4 - 2015.3   

  • 化学工学会超臨界流体部会   幹事  

    2009.3 - 2019   

  • 電気化学会電子材料委員会   委員  

    2008.4   

  • 応用物理学会 東海支部   幹事  

    2008.4 - 2022.3   

  • 電気化学会電子材料委員会   委員  

    2008.4   

  • 科研費審査委員   その他の委員、役員  

    2007.4 - 2009.3   

  • 日本機械学会 山梨ブロック     商議員,ブロック長  

    2006.4 - 2007.3   

  • 科学知総合研究所   理事  

    2006 - 2022   

  • 科学知総合研究所   理事  

    2006 - 2022   

  • 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会   幹事、多層配線技術専門委員会委員長  

    2004.4   

  • 日本機械学会メカトップ編集委員会   委員  

    2003.4 - 2005.3   

  • 電気学会ULSI・実装インターコネクト材料技術調査専門委員会   幹事  

    2002.4 - 2008.5   

  • 日本機械学会関東支部山梨ブロック   商議員  

    2002.4 - 2004.3   

  • Advanced Metallization Conference Asian Session   Exective Comittee member  

    2001.4   

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